用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置。旋转滚子密封装置是在投影透镜组和衬底之间的装置，由内构件、外构件、端盖和滚子组成。在光刻扫描过程中，浸没液体伴随衬底高速运动的牵拉作用，将产生与衬底运动方向一致的液体流动。该装置采用旋转滚子密封结构，通过动态调节滚子的旋转速度与方向，使得外围浸没液体获得抵抗衬底运动带来的流动。本发明专利技术可有效抵抗衬底牵拉运动产生的向外泄漏动能，在结合外围气体密封下进一步增强抑制液体泄漏的能力；此外本发明专利技术在浸没液体边界处可有效抵抗密封气体带来的冲击压力，并抑制气密封压力过大导致的液体边界气泡卷吸，从而有助于实现浸没流场密封的可靠性与稳定性。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用浸没式光刻机的密封装置，特别是涉及一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置。
技术介绍
现代光刻设备以光学光刻为基础，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的衬底(如硅片)上。它包括一个紫外光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个覆盖光敏光刻胶的衬底。浸没式光刻(Immersion Lithography)系统在投影透镜和衬底之间的缝隙中填充某种液体，通过提高该缝隙中介质的折射率(η)来提高投影透镜的数值孔径(NA)，从而提·高光刻的分辨率和焦深。通常采用的方案将液体限制在衬底上方和投影装置的末端元件之间的局部区域内。如果缺乏有限密封，该方案将导致填充流场边界液体的泄漏，泄漏的液体在光刻胶或Topcoat表面干燥后将形成水迹，严重影响曝光成像质量。目前该方案的密封结构，一般采用气密封构件环绕投影透镜组末端元件和衬底之间的缝隙流场。在密封构件和衬底的表面之间，气密封技术(例如参见中国专利ZL200310120944. 4和美国专利US2007046916)通过施加高压气体在环绕填充流场周边形成气幕，将液体限制在一定流场区域内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置，包括投影透镜组（1）、旋转滚子密封装置和衬底（3），旋转滚子密封装置设置在投影透镜组（1）和衬底（3）之间；其特征在于：所述的旋转滚子密封装置（2）包括内构件（2A）、外构件（2B）、端盖（2C）和滚子（2D）；其中：1）内构件（2A）：内构件（2A）为正多边形环状柱体，共有6~10个外侧面，每外侧面均开有包络滚子（2D）的弧面（4A），环状柱体中心开有阶梯形孔，环状柱体上表面周边与中心大阶梯孔形成环状凸台（5A），环状凸台（5A）外侧为环形槽；2）外构件（2B）：外构件（2B）为正多边形环状柱体，有与内构件（2A）正多边形环状柱体外侧面相应的内侧面，外...

【技术特征摘要】
1.一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置，包括投影透镜组(I)、旋转滚子密封装置和衬底(3)，旋转滚子密封装置设置在投影透镜组(I)和衬底(3)之间；其特征在于所述的旋转滚子密封装置(2)包括内构件(2A)、外构件(2B)、端盖(2C)和滚子(2D);其中 1)内构件(2A):内构件(2A)为正多边形环状柱体，共有6 10个外侧面，每外侧面均开有包络滚子(2D)的弧面(4A)，环状柱体中心开有阶梯形孔，环状柱体上表面周边与中心大阶梯孔形成环状凸台(5A)，环状凸台(5A)外侧为环形槽； 2)外构件(2B):外构件(2B)为正多边形环状柱体，有与内构件(2A)正多边形环状柱体外侧面相应的内侧面，外构件(2B )内侧面与内构件(2A )的外侧面对应开有包络滚子(2D )的弧面(4B)，外构件(2B)上面在靠近弧面(4B)的周边开有环状凸台(5B)，在环状凸台(5B)外的外构件(2B)圆周方向开有等距布置的1(Γ20个环形注气通孔(6Β)； 3)端盖(...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅新，刘琦，陈文昱，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：