【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜，特别是一种通过离子辅助方式进行镀膜的镀膜方法及其镀膜装置。
技术介绍
物理蒸镀法作为形成无机膜和有机膜的方法被广泛应用。物理蒸镀法根据镀膜方法的不同，大致分为真空蒸镀法、溅射法、和离子电镀方法。 在上述的真空蒸镀法或是溅射法等物理方法中，离子辅助的镀膜方法已被知晓。在真空镀膜腔室内，镀膜材料在基板表面上沉积进行镀膜时，通过离子照射镀膜材料的蒸汽及沉积在基板上形成的薄膜，对所形成的薄膜的致密性等的改善工艺过程称之为离子辅助蒸镀。例如，对应于伞状的基板支架，蒸汽和离子对整个基板支架进行照射的镀膜装置。例如在专利文献I (参见特开平I O — I 2 3 3 O I号公报)中，公示了使用离子辅助方式的镀膜方法生产光学产品。还有，例如，在专利文献2 (参见特开2 0 0 7 - 2 4 8 8 2 8号公报)中，公示了使用离子辅助方式的镀膜方法制备光学薄膜。还有，例如，在专利文献3 (参见特开2 0 1 0 - 1 0 6 3 3 9号公报)中，公示了离子辅助方式的镀膜方法。还有，例如，在专利文献4 (参见特开平2003 — 82462号公报)中，公...
【技术保护点】
一种镀膜方法，其特征在于，在镀膜腔室中设置有固定基板的基板支架，所述镀膜材料在基板上沉积，在基板上形薄膜的镀膜工序；具有浓度梯度的离子全面照射所述基板支架的整个区域，所述薄膜被离子照射使薄膜致密化的照射工序。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐健，范宾，三浦俊彦，渡边优，黄志飞，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。