基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置，确保容易产生气雾的处理室的维护性，并提高室内的排气效率和排气能力的均一性。在吹洗室（R2）的室内排气机构（112）中，第一分隔板（114）配置于比上部双流体喷嘴（104U）高且比排气口（106、108）低的位置，将吹洗室（R2）的室内空间纵向分隔成上部空间（UR2）和下部空间（LR2）。此处，第一分隔板（114）与上游侧隔壁（86）之间形成沿着腔室宽度方向（Y）成一列延伸的两个狭缝开口（116、118）。另外，第二分隔板（124）将在第一分隔板（114）上扩散的上部空间（UR2）横向分隔成：在第一开口（116）与第一排气口（106）之间延伸的第一排气空间（120）、和在第二开口（118）与第二排气口（108）之间延伸的第二排气空间（122）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种向被处理基板喷洒处理液并进行规定的处理的基板处理装置，特别是平流方式的基板处理装置。
技术介绍
最近几年，在平板显示器(FPD)制造中的抗蚀剂涂敷显影处理系统中，作为能够很好地适应被处理基板(例如玻璃基板)的大型化的清洗方法，多采用一种所谓的平流方式，在沿着水平方向铺设搬运辊(滚子)和搬运带而成的搬运路径上搬运基板，并进行清洗处理。这种平流方式与使基板旋转运动的旋涂方式相比，具有基板的处理和搬运系统和驱动系统的结构简单等优点。平流方式的清洗处理装置典型地来讲，沿着平流搬运路径，配置擦洗(scrubbing)用的辊刷、吹洗用的高压喷嘴、冲洗用的冲洗喷嘴、除液干燥用的气刀等清洗工具。清洗液·和冲洗液等的气雾笼罩在这些清洗工具的周围，因此，在各处设置排气口的密闭度高的腔室内进行这些一系列的清洗处理和除液干燥处理。在此情况下，在腔室中设置基板能够平流地通过的入口和出口，外部的空气通过这些开口(入口 /出口)被吸到腔室中。在腔室内产生的气雾与从外面进入的空气一同从排气口被送往腔室外的排气系统。专利文献I :日本特开2008-159663专利文献2 :日本特开2007-300129
技术实现思路
专利技术要解决的课题目前，在这种清洗处理装置中，要解决的课题是在腔室内产生的气雾不希望地扩散并再次附着于基板。特别是在清洗工具中，吹洗用的高压喷嘴(或者是高压喷雾嘴)产生最多的气雾，从此处沿着平流搬运路径扩散的气雾容易再次附着在基板上。因此，利用隔壁分隔腔室内的处理空间，按照各个工艺(刷洗、吹洗、冲洗、除液干燥)形成各个处理室。在此情况下，如果在处理室的顶部设置排气口，那么，在各个清洗工具的周围产生的气雾就会迅速地被吸入顶部的排气口，所以，能够防止或抑制沿着平流搬运路径的气雾的不希望的扩散。但是，在处理室的顶部设置排气口的结构将会明显地破坏清洗工具的维护性，因此，难以在实际中采用。即，由于清洗工具需要频繁维修，所以，优选采用能够任意开闭处理室的顶板的结构。然而，如果在处理室的顶部设置排气口，那么，由于排气系统的配管和闸等被安装在顶板上，因此，无法任意地开闭顶板。根据以上的情况，通常在处理室的背面设置排气口。在此情况下，在各个清洗工具的周围产生的气雾被吸入处理室背面的排气口。但是，在这种背面排气方式中，气雾的排气在处理室内大幅不均是一个问题。即，在处理室内，靠近排气口的腔室背面侧的区域的排气力(压力差)大，气雾不会滞留而是被排出。但是，远离排气口的处理室正面侧的区域的排气力(压力差)小，气雾容易滞留。滞留的气雾通过隔壁的基板出入口进入相邻的处理室中，再次附着于基板。特别是，在吹洗室内产生的气雾进入下游侧的冲洗处理室和除液干燥室内容易附着于基板，由此，对基板的表面产生不利影响，成为成品率下降的原因。因此，也要进一步提高设置于吹洗室中的排气口的排气能力，但是尽管伴随排气系统的大型化、高输出化，气雾排气能力或者排气效率并没有太大改善是其现状。本专利技术就是为了解决上述的现有技术的问题点，提供一种基板处理装置，确保容易产生气雾的处理室的维护性并且提高室内的排气效率和排气能力的均一性。 用于解决课题的方法本专利技术的基板处理装置包括平流搬运路径，其用来在水平的第一方向平流地搬运被处理基板；第一处理室，其容纳所述平流搬运路径的第一区间，且具有在所述平流搬运路径上搬运的所述基板能够通过的入口和出口 ；一个或多个第一喷嘴，其在所述第一处理室内，向所述平流搬运路径上的所述基板喷洒处理液；第一分隔板，其比所述第一喷嘴更位于上方，将所述第一处理室的室内空间纵向分隔成上部空间与下部空间；第一开口和第二开口，所述第一开口形成于所述第一分隔板与所述第一处理室的壁之间，所述第二开口形成于所述第一分隔板中；第二分隔板，其将所述第一处理室的上部空间横向分隔成 与·所述第一开口连接的第一排气空间和与所述第二开口连接的第二排气空间；和排气部，其与所述第一排气空间和所述第二排气空间连接。在上述装置结构中，在处理室内利用第一喷嘴向平流搬运路径上的基板喷洒处理液，于是，气雾笼罩在第一喷嘴的周围。此处，来自排气部的负压吸引力从第一和第二排气空间经由第一和第二开口到达处理室内，由此，在第一喷嘴的周围产生的气雾与从处理室的入口和出口进入的空气一同流向上方并通过第一和第二开口。通过第一开口的包含气雾的排气流通过第一排气空间被送往排气部。另一方面，通过第二开口的包含气雾的排气流通过第二排气空间被送往排气部。在本专利技术中，利用第二分隔板沿着横向分隔处理室的上部空间形成第一和第二排气空间，因此，第一和第二排气空间均可通过设置于处理室的壁而不是设置于处理室的顶板的排气口与排气部连接。由此，即便以自由开闭的方式构成处理室的顶板，也能避免与排气系统的干扰。另外，第一和第二排气空间彼此独立，且能够独立或分别地调整各自的排气流量，所以，能够使从处理室的下部空间通过第一和第二开口被吸入上部空间的排气流的流量变得均一。由此，能够防止气雾滞留在处理室内，和防止气雾通过基板出入口(入口或出口)漏到处理室的外面。专利技术效果根据本专利技术的基板处理装置，根据上述的结构和作用，能够确保容易发生气雾的处理室的维护性，并且能够提高室内的排气效率和排气能力的均一性。附图说明图I是表示能够应用本专利技术的基板处理装置的涂敷显影处理系统的平面图。图2是表示包含在上述涂敷显影处理系统中的一个实施方式的清洗单元的整体结构的概略截面图。图3是表示配备于上述清洗单元的排气部的结构的块图。图4是表示上述清洗单元的清洗腔室内的主要部分的结构的立体图。图5是表示设置于吹洗室的室内排气机构的结构的立体图。图6是表示从其它的角度观察到的上述室内排气机构的结构的立体图。图7是表示上述室内排气机构的作用的纵向气流速度分布图。图8是表不上述室内排气机构的作用的横向气流速度分布9是表示一个变形例的室内排气机构的结构的平面图。图10是图9的A-A线的截面图。图11是表示其它的变形例的室内排气机构的结构的平面图。图12是表示其它的变形例的室内排气机构的结构的平面图 具体实施例方式下面，参照附图说明本专利技术的最佳实施方式。图I表示能够应用本专利技术的基板处理装置的一个结构例的涂敷显影处理系统。该涂敷显影处理系统10设置于洁净室内，例如将玻璃基板作为被处理基板，在LCD制造工艺中，进行光蚀刻工序中的清洗、涂敷抗蚀剂、预烘烤、显影和后烘烤等一系列的处理。曝光处理在与该系统邻接设置的外部的曝光装置12中进行。该涂敷显影处理系统10在中心部配置横长的处理站(P/S) 16，在其纵向(X方向)两端部配置盒站(C/S) 14与界面站(I/F) 18。盒站(C/S) 14是系统10的盒搬入搬出端口，包括能够将多层地层积基板G而能够收纳多块的盒C在水平的一个方向(Y方向)排列载置四个盒的盒站20 ;和将基板G从该站20上的盒C取出和放入的搬运机构22。搬运机构22具有能够按照一块单位来保持基板G的搬运臂22a，能够在X、Y、Ζ、Θ的四个轴操作，并且能够与相邻的处理站(P/S) 16侧进行基板G的交接。处理站(P/S) 16在沿着水平的系统纵向(X方向)延伸的平行且方向相反的一对线A、B,按照工艺或工序的顺序配置各个处理部。更详细地来讲，在从盒站(C/S) 14侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，包括：平流搬运路径，其用来在水平的第一方向平流地搬运被处理基板；第一处理室，其容纳所述平流搬运路径的第一区间，且具有在所述平流搬运路径上搬运的所述基板能够通过的入口和出口；一个或多个第一喷嘴，其在所述第一处理室内，向所述平流搬运路径上的所述基板喷洒处理液；第一分隔板，其比所述第一喷嘴更位于上方，将所述第一处理室的室内空间纵向分隔成上部空间与下部空间；第一开口和第二开口，所述第一开口形成于所述第一分隔板与所述第一处理室的壁之间，所述第二开口形成于所述第一分隔板中；第二分隔板，其将所述第一处理室的上部空间横向分隔成：与所述第一开口连接的第一排气空间和与所述第二开口连接的第二排气空间；和排气部，其与所述第一排气空间和所述第二排气空间连接。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：儿玉宗久，宫崎一仁，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：