【技术实现步骤摘要】
本技术属于干燥设备领域,特别涉及一种用来处理HMDS的真空烘箱。
技术介绍
HMDS作为一种增粘剂,可有效增加光刻胶与硅片之间的吸附力,在硅片的光刻工艺中逐渐开始应用,但其本身具有毒性且易挥发,因此使用HMDS的工序需要在真空的状态下进行,否则会对操作人员造成伤害;国内现有的厂商在硅片上涂光刻胶很少有使用HMDS作为增粘剂,由于吸附力不够,这样涂胶就不均匀,更严重的会导致光刻胶脱落
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供了一种用来处理HMDS的真空烘箱,整个操作过程处于真空状态,使HMDS药液与硅片表面的二氧化硅充分作用,提高光刻胶与硅表面的粘附力。为了解决上述技术问题,本技术提供了如下的技术方案一种用来处理HMDS的真空烘箱,包括机箱,固定在机箱外侧的药瓶,固定在机箱上方的电器箱,通过连接管道与电器箱连接的真空泵箱;所述电器箱上设有控制表盘;其特征在于,所述机箱为一面开口,中空的矩形箱体;所述机箱开口的一面通过铰链连接有一密封箱门;所述箱门包括中间层的门板,包裹在门板外面的石棉层以及门外壳。进一步地,所述密封箱门内侧靠近铰链的一边设有一密封用的加强 ...
【技术保护点】
一种用来处理HMDS的真空烘箱,包括机箱,固定在机箱外侧的药瓶,固定在机箱上方的电器箱,通过连接管道与电器箱连接的真空泵箱;所述电器箱上设有控制表盘;其特征在于,所述机箱为一面开口,中空的矩形箱体;所述机箱开口的一面通过铰链连接有一密封箱门;所述箱门包括中间层的门板,包裹在门板外面的石棉层以及门外壳。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:储瑞清,
申请(专利权)人:无锡市瑞达电子有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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