基板搬送装置、基板处理系统和基板搬送方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种在真空中进行伴随热的处理的基板处理装置，基板处理系统和基板搬送方法，即使以高速搬送基板也能够提高基板的位置精度。对进行伴随热的真空处理的真空处理单元搬入和搬出基板的基板搬送装置，包括：具有决定基板位置的定位销，在对基板定位的状态下保持基板的拾取器；以通过拾取器对真空处理单元进行基板的搬入和搬出的方式驱动拾取器的驱动部；和控制拾取器的基板搬送动作的搬送控制部，搬送控制部，预先掌握在将基板搬入真空处理单元时的常温中基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入真空处理单元时，计算从该基板的基准位置的位置偏移，控制驱动部来修正位置偏移，将基板搬入真空处理单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及例如在半导体晶片等的基板上进行伴随热的真空处理的基板处理装置所使用的基板搬送装置、使用其的基板处理系统和基板搬送方法、以及存储介质。
技术介绍
在半导体设备的制造工序中，对作为被处理基板的半导体晶片(以下，简记为晶片)，多使用成膜处理等的真空处理。最近，从这样的真空处理效率化的观点和抑制氧化和污染物等的抑制污染的观点出发，使用多个真空处理单元与保持为真空的搬送室连结，通过设置在该搬送室的基板搬送装置能够将晶片搬送至各真空处理单元的自动组合装置(cluster tool)型的多腔室式的真空处理系统(例如,专利文献I)。这样的多腔室处理系统中，保持在真空的搬送室，除了上述真空处理单元，还连结有从置于大气中的晶片盒向保持在真空的搬送室搬送晶片用的负载锁定室，通过设置于搬送室的基板搬送装置，在真空处理单元与负载锁定室之间，或者真空处理单元之间，进行晶片的搬送。在此时使用的基板搬送装置中，作为保持晶片的拾取器，使用只保持晶片的背面，或者只保持下面侧倾斜面的拾取器。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2000-208589号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题近年来，要求在高速下进行晶片搬送以高生产率进行处理，如上所述，使用只保持晶片的背面或者只保持下面侧倾斜面的拾取器的情况下，以高速搬送，晶片打滑，会造成晶片的位置精度降低。此外，进行成膜处理那样的伴随热的处理的情况下，由于加上热膨胀引起的误差也会造成位置精度日益下降。本专利技术鉴于上述事实而产生，其课题在于提供一种在真空中进行伴随热的处理的基板处理装置中，即使以高速搬送基板，也能够提高基板的位置精度的基板搬送装置、使用其的基板处理系统和基板搬送方法。此外，其课题还在于提供存储执行这样的搬送方法的程序的存储介质。 为了解决上述课题，本专利技术的第一观点提供一种基板搬送装置，其在具有进行伴随热的真空处理的真空处理单元和与所述真空处理单元连接且内部保持真空的搬送室的基板处理系统中，设置于所述搬送室内，对所述真空处理单元进行基板的搬入和搬出，该基板搬送装置的特征在于，包括拾取器，其具有决定基板的位置的定位销，在将基板定位的状态下保持基板；驱动部，其驱动所述拾取器，使得通过所述拾取器将基板搬入和搬出所述真空处理单元；和搬送控制部，其控制通过所述拾取器进行的基板搬送动作，所述搬送控制部，预先掌握在将基板搬入所述真空处理单元时的常温中的基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入所述真空处理单元时，计算该基板从所述基准位置的位置偏移，控制所述驱动部来修正所述位置偏移，将所述基板搬入所述真空处理单元。本专利技术的第二观点，提供一种基板处理系统，其特征在于，包括真空处理单元，其进行伴随热的真空处理；搬送室，其与所述真空处理单元连接，内部保持真空；基板搬送装置，其设置在所述搬送室内，对所述真空处理单元进行基板的搬入和搬出，所述基板搬送装置包括拾取器，其具有决定基板的位置的定位销，在将基板定位的状态下保持基板；驱动部，其驱动所述拾取器，使得通过所述拾取器将基板搬入和搬出所述真空处理单元；搬送控制部，其控制所述拾取器进行的基板的搬送动作，所述搬送控制部，预先掌握在将基板搬入所述真空处理单元时的常温中的基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入所述真空处理单元时，计算该基板的从所述基准位置的位置偏移，控制所述驱动部来修正所述位置偏移，将所述基板搬入所述真空处理单元。在上述第一和第二观点中，所述定位销，以夹持所述基板的方式配置所述拾取器上，以移动所述拾取器时的惯性将基板推压在所述定位销上，由此进行基板的定位。此外，所述拾取器具有多个定位销，还具有夹紧机构，使得所述多个定位销的任一个移动，将基板夹紧在所述拾取器上。这种情况下，所述基板搬送装置具有包括所述拾取器和其它臂的多关节臂机构，所述拾取器以相对于相邻的臂能够回转的方式设置，所述夹紧机构包括凸轮，其伴随所述拾取器的回转而位移(移位)；移动部件，其通过所述凸轮的位移使所述定位销进退移动，夹紧或者释放基板；和中间机构，其将所述凸轮的位移传递至所述移动部件，所述凸轮被调整位置，使得与所述拾取器的回转位置同步地决定所述定位销的进退。所述定位销具有设置在所述拾取器的前端侧的前端侧定位销，和设置在所述拾取器的基端侧的基端侧定位销，所述夹紧机构使所述基端侧定位销进退移动，夹紧或释放基板，在使所述多关节臂机构伸长，为了交接基板而释放所述拾取器上的基板时，在所述拾取器的加速度为负的范围内释放基板，在使所述多关节臂缩退，在所述拾取器上接受基板之后夹紧基板时，在所述拾取器的加速度为正的范围内夹紧基板。此外，在上述第一观点和第二观点中，所述基准位置信息，在常温中通过设置在被搬入搬出所述真空处理单元的基板所通过的位置的位置检测传感器单元检测基板，基于其检测信息而求出。此时，将基板搬入所述真空处理单元时的基板的位置信息，通过所述位置检测传感器单元检测基板，基于其检测信息求出，由如此求得的基板的位置信息和所述基准位置信息计算所述位置偏移。所述位置偏移的检测，在将基板搬出所述真空处理单元时或搬入所述真空处理单元时进行，所述位置偏移的修正，在将基板搬入所述真空处理单元时进行。此外，所述基板处理系统还具有负载锁定室，该负载锁定室与所述搬送室连接，能够在大气氛围与真空之间变换压力，将基板从该大气氛围搬送至所述搬送室，所述搬送控制部，预先掌握在将基板搬入所述负载锁定室的常温中的基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入所述负载锁定室时，计算该基板的从所述基准位置的位置偏移，控制所述驱动部来修正所述位置偏移，将所述基板搬送至所述负载锁定室。并且，所述拾取器的所述定位销，优选具有相对于垂直轴能够回转的环部件。此夕卜，所述拾取器优选具有背面支承垫，其支承基板的背面，具有在决定基板位置时的移动方向能够回转的辊。本专利技术的第三观点，提供一种基板搬送方法，其为在具有进行伴随热的真空处理的真空处理单元和与所述真空处理单元连接的、内部保持真空的搬送室的基板处理系统中，使用设置于所述搬送室的基板搬送装置进行将基板搬入和搬出所述真空处理单元的基板搬送方法，该基板搬送装置包括在定位的状态保持基板的拾取器，该拾取器具有将所述基板定位的定位销；和驱动部，其驱动所述拾取器，使得通过所述拾取器将基板搬入和搬出所述真空处理单元，该基板搬送方法的特征在于预先掌握在将基板搬入所述真空处理单元时的常温中的基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入所述真空处理单元时，计算该基板的从所述基准位置的位置偏移，修正所述位置偏移，将所述基板搬入所述真空处理单元。本专利技术的第四观点，提供一种存储在计算机上动作、控制基板搬送装置用的程序的存储介质，其特征在于，所述程序，执行时，在计算机上控制所述基板搬送装置，执行上述第三观点的基板搬送方法。专利技术效果根据本专利技术，控制驱动部，使得预先掌握在将基板搬入所述真空处理单元时的常温中基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入所述真空处理单元时，计算从该基板的所述基准位置的位置偏移，修正所述位置偏移，将所述基板搬入所述真空处理单元，由此，在真空中，进行伴随热的处理的基板搬送装置中，即使以高速搬送基板，也能够抑制基板的位置偏移，并且能够修正热膨胀等，能够提高基板的位置精度。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板搬送装置，其在具有进行伴随热的真空处理的真空处理单元和与所述真空处理单元连接且内部保持真空的搬送室的基板处理系统中，设置于所述搬送室内，对所述真空处理单元进行基板的搬入和搬出，该基板搬送装置的特征在于，包括：拾取器，其具有决定基板的位置的定位销，在将基板定位的状态下保持基板；驱动部，其驱动所述拾取器，使得通过所述拾取器将基板搬入和搬出所述真空处理单元；和搬送控制部，其控制通过所述拾取器进行的基板搬送动作，所述搬送控制部，预先掌握在将基板搬入所述真空处理单元时的常温中的基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入所述真空处理单元时，计算该基板从所述基准位置的位置偏移，控制所述驱动部来修正所述位置偏移，将所述基板搬入所述真空处理单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：阪上博充，小泽雅仁，古屋雄一，信田菜奈子，广瀬胜人，稻垣守人，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：