一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置制造方法及图纸

技术编号:8208182 阅读:210 留言:0更新日期:2013-01-16 22:35
本发明专利技术公开了一种去用于除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,包括机械臂,喷淋支架,喷淋口,花篮,制绒槽,所述的机械臂与喷淋支架固定连接,所述的喷淋支架上设有喷淋口,所述的花篮设于喷淋支架的下方与喷淋口相对应,所述的花篮与机械臂通过挂钩连接,所述的制绒槽设于花篮的下方。本发明专利技术对制绒出来的硅片作进一步的清洗,能够有效去除硅片表面残留的硅酸钠,改善电池片的外观,减少硅片表面的污染,本发明专利技术结构简单,有益效果明显,适于产业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种喷淋装置,尤其是一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置
技术介绍
太阳能作为一种可再生资源,以其清洁,成本低廉的特点而具有广阔的发展前景,太阳能电池便是其中的一项。目前市场上销售的单晶太阳能电池多采用槽式碱制绒,工艺温度在70°C以上,制绒后的硅片从制绒槽出来表面温度较高,且由于槽式的硅片运输时间相对较长,表面的硅酸钠在进入清洗槽前会变干,不易清洗干净,导致电池片表面有硅酸钠 残留,影响电池片外观。
技术实现思路
专利技术目的本专利技术的目的是为了解决现有技术的不足,本专利技术提供了一种能够有效去除硅片表面的硅酸钠残留,结构简单,操作方便的喷淋装置。技术方案一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,包括机械臂,喷淋支架,喷淋口,花篮,制绒槽,所述的机械臂与喷淋支架固定连接,所述的喷淋支架上设有喷淋口,所述的花篮设于喷淋支架的下方与喷淋口相对应,所述的花篮与机械臂通过挂钩连接,所述的制绒槽设于花篮的下方。为了能够均匀地清洗硅片,所述的喷淋支架上均匀地分喷口向下的喷淋口。为了保证槽内溶液温度,所述的制绒槽内设有加热装置。有益效果本专利技术对制绒出来的硅片作进一步的清洗,能够有效去除硅片表面残留的硅酸钠,改善电池片的外观,减少硅片表面的污染,本实专利技术结构简单,有益效果明显,适于产业化生产。附图说明图I为本专利技术的结构示意 其中1.机械臂,2.喷淋支架,3.喷淋口,4.花篮,5.制绒槽,51.加热装置。具体实施例方式下面结合附图和具体实施例,进一步阐明本专利技术。如图1,一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,包括机械臂1,喷淋支架2,喷淋口 3,花篮4,制绒槽5,所述的机械臂I与喷淋支架2固定连接,所述的喷淋支架2上均匀地分喷口向下的喷淋口 3,所述的花篮4设于喷淋支架2的下方与喷淋口 3相对应,所述的花篮4与机械臂I固定连接,所述的制绒槽5设于花篮4的下方,所述的制绒槽5内设有加热装置。 将硅片放在花篮4上,所述的花篮4浸入制绒槽5,所述的制绒槽5内的加热装置51能够保持槽内溶液的温度,采用机械臂I将花篮4从制绒槽5内取出,上升到机械臂I的最高位,制绒槽5槽盖关闭,设于喷淋支架2上的喷淋口 3对花篮4上的硅片进行清洗,以除去硅片表面残留的硅酸钠,达到改善电池片外观,减少硅片表面污染的目的。上述实施例只为说明本专利技术的技术构思及特点,其目的是让熟悉该
的技术人员能够了解本专利技术的内容并据以实施,并不能以此来限制本专利技术的保护范围。凡根据本专利技术精神实质所作出的等同变换或修饰,都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。·权利要求1.一种去用于除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,其特征在于包括机械臂(1),喷淋支架(2),喷淋口(3),花篮(4),制绒槽(5),所述的机械臂(I)与喷淋支架(2)固定连接,所述的喷淋支架(2)上设有喷淋口(3),所述的花篮(4)设于喷淋支架(2)的下方与喷淋口(3)相对应,所述的花篮(4)与机械臂(I)通过挂钩连接,所述的制绒槽(5)设于花篮(4)的下方。2.根据权利要求I所述的一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,其特征在于所述的喷淋支架(2 )上均匀地分喷口向下的喷淋口( 3 )。3.根据权利要求I所述的一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,其特征在于所述的制绒槽(5)内设有加热装置(51)。全文摘要本专利技术公开了一种去用于除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,包括机械臂,喷淋支架,喷淋口,花篮,制绒槽,所述的机械臂与喷淋支架固定连接,所述的喷淋支架上设有喷淋口,所述的花篮设于喷淋支架的下方与喷淋口相对应,所述的花篮与机械臂通过挂钩连接,所述的制绒槽设于花篮的下方。本专利技术对制绒出来的硅片作进一步的清洗,能够有效去除硅片表面残留的硅酸钠,改善电池片的外观,减少硅片表面的污染,本专利技术结构简单,有益效果明显,适于产业化生产。文档编号B08B3/02GK102873042SQ20121036900公开日2013年1月16日 申请日期2012年9月27日 优先权日2012年9月27日专利技术者吴亚军, 冯立学, 梁会宁, 胡元庆, 李华恩 申请人:奥特斯维能源(太仓)有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种去用于除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,其特征在于:包括机械臂(1),喷淋支架(2),喷淋口(3),花篮(4),制绒槽(5),所述的机械臂(1)与喷淋支架(2)固定连接,所述的喷淋支架(2)上设有喷淋口(3),所述的花篮(4)设于喷淋支架(2)的下方与喷淋口(3)相对应,所述的花篮(4)与机械臂(1)通过挂钩连接,所述的制绒槽(5)设于花篮(4)的下方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴亚军冯立学梁会宁胡元庆李华恩
申请(专利权)人:奥特斯维能源太仓有限公司
类型:发明
国别省市:

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