一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置制造方法及图纸

一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，设置在磁控溅射镀膜腔室输入端的玻璃基板传送带的上方，关键在于：清洗室的结构中包括在室壁上固定的等离子体加热源、及等离子体加热源的开关控制管理电路，清洗室的输出端与磁控溅射镀膜腔室输入端相接。本实用新型专利技术的有益效果是：增加等离子清洗室有效地去除了玻璃基板表面的尘埃、静电以及水份，提高玻璃了玻璃基板表面的清洁度，增强了膜层的附着力，减少了磁控溅射所镀膜层所致缺陷的几率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，设置在磁控溅射镀膜腔室输入端的玻璃基板传送带（3）的上方，其特征在于：清洗室（2）的结构中包括在室壁上固定的等离子体加热源（1）、及等离子体加热源的开关控制管理电路，清洗室（2）的输出端与磁控溅射镀膜腔室输入端相接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏梵修，刘鑫，赵奇，田晓智，付东东，李建栋，
申请(专利权)人：东旭集团有限公司，成都泰轶斯太阳能科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：