供体基板及其制造方法和制造有机发光显示设备的方法技术

本发明专利技术提供一种供体基板及其制造方法和制造有机发光显示设备的方法。该供体基板具有多个凹槽和多个隔离结构。隔离结构可以由凹槽限定。在第一基板上形成第一电极。可以在第一电极上形成像素限定层，以限定多个像素区。供体基板可以布置在第一基板上方，并且可以执行激光诱导热成像工艺，以便在像素区内形成多个发光层。可以在像素限定层和发光层上形成第二电极。可以从供体基板中有效地获得具有精细尺寸的有机发光层。隔离结构可以与供体基板一体地形成，因此供体基板可以在激光诱导热成像工艺以后容易地重复使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的不例实施例涉及供体基板、制造供体基板的方法和使用供体基板制造有机发光显示设备的方法。
技术介绍
一般来说，有机发光显示设备可以包括薄膜晶体管、像素电极、有机层和公共电极 等。有机层可以包括发射白色光、红色光、緑色光和蓝色光中至少ー种的有机发光层。有机层另外可以包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等。在形成相対照的有机发光显示设备的有机发光层的过程中，可以在供体基板上形成红色有机转移层、緑色有机转移层和蓝色有机转移层，然后可以使用激光束将这些有机转移层转移到像素电极上，从而在相対照的发光显示设备的像素的像素电极上形成有机发光层。在此情况下，经常会因为静电的原因而造成有机发光层的污染，并且很可能发生相对照的有机发光显示设备中的邻近像素的顔色混合。
技术实现思路
示例实施例的方面致カ于可容易地重新使用且能够有效地转移微尺寸的有机转移层的供体基板。示例实施例的方面致力于制造可容易地重新使用且能够有效地转移微尺寸的有机转移层的供体基板的方法。示例实施例的方面致カ于使用可容易地重新使用且能够有效地转移微尺寸的有机转移层的供体基板制造有机发光显示设备的方法。本专利技术的示例实施例的方面致カ于具有凹槽结构的供体基板、制造具有凹槽结构的供体基板的方法以及使用具有凹槽结构的供体基板制造有机发光显示设备的方法。根据示例实施例，提供ー种包括基板、光热转换层和有机转移层的供体基板。所述基板可以具有凹槽和与所述凹槽相邻的隔离结构。所述光热转换层可以布置在所述凹槽内。所述有机转移层可以布置在所述光热转换层上。在示例实施例中，所述供体基板可以进一歩包括布置在所述凹槽的底表面和所述光热转换层之间的底层。在示例实施例中，所述底层可以包括硅、丙烯酰基树脂、聚酰亚胺类树脂、硅氧烷类树脂、苯并环丁烯、硅氧化物和/或金属氧化物。在示例实施例中，所述底层可以包括涂层和热辐射层。在示例实施例中，所述基板可以包括对激光束透明的材料。在示例实施例中，所述光热转换层可以包括金属、金属氧化物、金属硫化物和/或炭黑O在示例实施例中，所述光热转换层可以包括镍、钥、钛、锆、铜、钒、钽、钯、钌、铱、金、银和钼，镍、钥、钛、错、铜、fL、钽、钮、钌、铱、金、银和钼的氧化物，和/或镍、钥、钛、错、铜、银、钽、钮、钌、铱、金、银和钼的硫化物。在示例实施例中，所述有机转移层可以包括红色有机转移层、緑色有机转移层或蓝色有机转移层。根据示例实施例，提供一种供体基板，其包括基板、第一光热转换层、第二光热转换层、第三光热转换层、红色有机转移层、緑色有机转移层和蓝色有机转移层。所述基板可 以具有第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和隔离结构。所述隔离结构可以由所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述第三凹槽限定。所述第一光热转换层、所述第二光热转换层和所述第三光热转换层可以分别布置在所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述第三凹槽内。所述红色有机转移层可以布置在所述第一光热转换层上。所述绿色有机转移层可以布置在所述第二光热转换层上。所述蓝色有机转移层可以布置在所述第三光热转换层上。在示例实施例中，所述供体基板可以进ー步包括分别布置在所述第一凹槽的底表面和所述第一光热转换层之间、所述第二凹槽的底表面和所述第二光热转换层之间以及所述第三凹槽的底表面和所述第三光热转换层之间的第一底层、第二底层和第三底层。在示例实施例中，所述第一底层、所述第二底层和所述第三底层可以包括硅、丙烯酰基类树脂、聚酰亚胺类树脂、硅氧烷类树脂、苯并环丁烯、硅氧化物和/或金属氧化物。在示例实施例中，所述第一底层、所述第二底层和所述第三底层分别可以包括涂层和热辐射层。根据示例实施例，提供一种制造供体基板的方法。在所述方法中，可以在基板上形成凹槽和隔离结构。所述隔离结构可以由所述凹槽限定。可以在所述凹槽上形成底层。可以在所述底层上形成光热转换层。可以在所述光热转换层上形成有机转移层。在示例实施例中，所述凹槽的形成可以包括在所述基板上形成掩膜以及使用所述掩膜部分地去除所述基板，从而形成所述凹槽和所述隔离结构。在示例实施例中，所述凹槽的形成可以包括喷砂エ艺、干式蚀刻エ艺或湿式蚀刻エ艺。在示例实施例中，所述底层的形成可以包括喷嘴印刷工艺、喷墨印刷工艺、刮墨刀印刷工艺、胶版印刷工艺或生片层压エ艺。在示例实施例中，所述光热转换层的形成可以包括喷嘴印刷工艺、喷墨印刷工艺、刮墨刀印刷工艺、胶版印刷工艺、凹版印刷エ艺、凹版胶印エ艺或狭缝印刷工艺。在示例实施例中，所述光热转换层的形成可以包括生片层压エ艺、层压エ艺或转移エ艺。在示例实施例中，所述有机转移层的形成可以包括喷嘴印刷工艺、喷墨印刷工艺、刮墨刀印刷工艺、胶版印刷工艺、凹版印刷エ艺、凹版胶印エ艺、狭缝印刷工艺、生片层压エ艺或层压エ艺。根据示例实施例，提供一种制造有机发光显示设备的方法。在所述方法中，可以形成具有多个凹槽和隔离结构的供体基板。所述隔离结构可以由所述凹槽限定。可以在第一基板上形成第一电极。可以在所述第一电极上形成像素限定层，以限定多个像素区。所述供体基板可以布置在所述第一基板上方，并且可以执行激光转移エ艺，以在所述像素区内形成多个发光层。可以在所述像素限定层和所述多个发光层上形成第二电极。在示例实施例中，所述供体基板可以包括在所述凹槽上形成的多个光热转换层以及在所述多个光热转换层上形成的多个有机转移层。在示例实施例中，形成所述发光层可以进ー步包括使所述像素限定层匹配所述隔尚结构。在示例实施例中，可以在降低的压カ下或大气压カ下执行所述激光转移エ艺。 根据示例实施例，供体基板可以包括在多个凹槽内的光热转换层和有机转移层。基板的位于所述多个凹槽之间的部分可以充当隔离结构。可以从所述供体基板有效地获得具有微尺寸的有机发光层。隔离结构可以与基板一体地形成，因此所述供体基板可以在激光转移エ艺以后重新使用。附图说明从结合附图进行的下面描述中可以更详细地理解示例实施例，其中图I是示出根据示例实施例的供体基板的截面图。图2是示出根据ー些示例实施例的供体基板的截面图。图3到图6是示出根据示例实施例的制造供体基板的方法的截面图。图7A是示出根据示例实施例的有机发光显示设备的平面图。图7B是示出根据示例实施例的有机发光显示设备的截面图。图8到图10是示出根据示例实施例的制造有机发光显示设备的方法的截面图。具体实施例方式下文将參照示出一些示例实施例的附图更充分地描述各个示例实施例。然而，本专利技术可以以多种不同形式体现且不应解释为局限于此处提出的示例实施例。更确切地说，提供这些示例实施例是为了使得此描述将全面和完整，并且将本专利技术的范围充分地传达给本领域技术人员。在附图中，为了清晰起见可以放大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解，当元件或层被提到在另一元件或层“上”、“连接至”或“联接至”另一元件或层时，其可以直接在该另一元件或层上、连接或联接至该另一元件或层，或者可以存在一个或多个中间元件或层。相比之下，当元件被提到“直接”在另一元件或层“上”、“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层”时，不存在中间元件或层。相同的附图标记始终代表相同的元件。如这里所使用的那样，术语“和/或”包括一个或多个相关列出项的任ー组合和全部组合。应当理解，虽然术语第一、第二、第三本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种供体基板，包括：基板，具有凹槽和与所述凹槽相邻的隔离结构；位于所述凹槽内的光热转换层；和位于所述光热转换层上的有机转移层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：辛慧媛，金相洙，朴商勋，孙永睦，金英一，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：