本发明专利技术提供一种基材支撑单元,其包括:在其上放置基材的支撑板;和设置在所述支撑板内以加热所述支撑板的加热件。所述加热件包括:设置在所述支撑板的第一区域中的多根第一电热丝;和设置在所述支撑板的第二区域中的多根第二电热丝,第二区域不同于第一区域。各第一电热丝通过串联和并联中的一种彼此连接,和各第二电热丝通过串联和并联中的另一种彼此连接。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种基材支撑单元,更具体而言,涉及一种包括加热器的基材支撑单J Li ο
技术介绍
半导体制造设备包括在处理室中的用于支撑基材的支撑板。电热丝设置在支撑板内,以将基材加热到一定温度。这种电热丝以螺旋图案嵌入,彼此并连连接。在这种情况下,由于并联的电热丝的整个长度大于串联的电热丝,所以并联的电热丝可以更小的间隔排列。然而,由于并联的电 热丝的整个长度大于串联的电热丝,所以并联的电热丝不适宜在小区域内嵌入。此外,由于并联的电热丝朝向支撑板的边缘延伸,所以其长度增加,其电阻也增加。因此,可能很难获得所需量的热量。
技术实现思路
本专利技术提供一种用于均匀地处理基材的整个表面的设备。本专利技术的实施例提供一种基材支撑单元,包括在其上放置基材的支撑板;和设置在所述支撑板内以加热所述支撑板的加热件,其中所述加热件包括设置在所述支撑板的第一区域中的多根第一电热丝;和设置在所述支撑板的第二区域中的多根第二电热丝,第二区域不同于第一区域,其中各第一电热丝通过串联和并联中的一种彼此连接,和各第二电热丝通过串联和并联中的另一种彼此连接。在一些实施例中,各第一电热丝可以彼此并联连接,各第二电热丝可以彼此串联连接,和第二区域的面积可以小于第一区域的面积。在其他实施例中,第一区域可以是所述支撑板的中央区域,和第二区域可以是所述支撑板的包围所述中央区域的边缘区域。在其他实施例中,各第一电热丝的长度可以大于各第二电热丝的长度。在其他实施例中,各第一电热丝的长度可以彼此不同。在本专利技术的其他实施例中,基材处理设备包括具有内部空间的处理室;设置在所述处理室内以支撑基材的支撑板;和设置在所述支撑板内以加热所述支撑板的加热件,其中所述加热件包括设置在所述支撑板的中央区域中的多根第一电热丝;和设置在所述支撑板的包围所述中央区域的边缘区域中的多根第二电热丝,其中各第一电热丝通过串联和并联中的一种彼此连接,和各第二电热丝通过串联和并联中的另一种彼此连接。在一些实施例中,各第一电热丝可以彼此并联连接,各第二电热丝可以彼此串联连接,和所述边缘区域的面积可以小于所述中央区域的面积。在其他实施例中,各第一电热丝的长度可以大于各第二电热丝的长度。在其他实施例中,各第一电热丝的长度可以彼此不同。附图说明附图用于进一步理解本专利技术,且被并入说明书中构成说明书的一部分。附图显示本专利技术的示例性实施例,并且与说明书一起用于说明本专利技术的原理。在附图中图I是示出根据本专利技术实施例的处理基材的设备的剖视图;图2是示出图I的电热丝的平面图;图3是示出图I的电热丝的立体图;和图4是示出图I的第一电热丝的连接的电路图。 具体实施例方式下面,参照附图更详细地说明根据本专利技术的优选实施例的基材支撑单元和基材处理设备。为了避免不必要地混淆本专利技术的主题,未对与公知的功能或构造有关的内容进行详细说明。图I是示出根据本专利技术实施例的处理基材的设备的剖视图。参照图1,根据当前实施例的基材处理设备10产生用于处理基材的等离子体。基材处理设备10包括处理室100、基材支撑单元200、供气部300和等离子体产生部400。处理室100具有内部空间101。内部空间101作为用于使用等离子体处理基材W的空间。基材W的等离子体处理工艺包括蚀刻工艺。排出孔102设置在处理室100的底部。排出孔102与排出管线121连接。处理室100内停留的气体和在基材处理工艺中产生的反应副产物可以通过排出管线121排出。此时,内部空间101的压力降低到一定压力。基材支撑单元200设置在处理室100内。基材支撑单元200支撑基材W。基材支撑单元200包括支撑板210和加热件230。支撑板210支撑基材W。加热件230设置在支撑板210内,并加热支撑板210。从加热件230产生的热量通过支撑板210传递到基材W。根据当前实施例,通过使用静电力保持基材W的静电卡盘用作基材支撑单元200。此外,设置在静电卡盘(也由200表不)上端的介电板用作支撑板210。介电板(也由210表不)由圆盘状的介电物质构成。基材W放置在介电板210的顶面上。介电板210的顶面的半径小于基材W的半径。结果,基材W的边缘位于介电板210的外部。第一供应通道211形成在介电板210中。第一供应通道211从介电板210的顶面延伸到其底面。各第一供应通道211彼此间隔开,并被设置作为将传热介质供应到基材W的底面的路径。下电极220嵌在介电板210中。下电极220与外部电源(图未示)电气连接。夕卜部电源包括直流(DC)电源。直流电流施加到下电极220,在下电极220上形成电场。电场被施加到基材W上,从而在基材W与下电极220之间引起电介质极化。通过电介质极化在基材W和下电极220之间收集正电荷和负电荷,正电荷和负电荷之间的静电引力将基材W固定到介电板210上。加热件230嵌在介电板210中。加热件230包括电热丝231、232和233。图2是示出图I的电热丝的平面图。图3是示出图I的电热丝的立体图。参照图2和图3,电热丝231、232和233嵌在介电板210中。电热丝231、232和233分别嵌在介电板210的不同区域中。电热丝231、232和233可以根据电热丝231、232和233所嵌入的区域不同而分为多个组。第一电热丝231嵌在介电板210的第一区域210a中。第一区域210a可以对应于介电板210的中央区域。第一电热丝231包括彼此电气连接的第一电热丝231a和231b。第一电热丝231a和231b可以彼此串联或并联连接。第一电热丝231a和231b与第一下电源235连接。由第一下电源235供应的电流流经并联连接的第一电热丝231a和231b。第一电热丝231a和231b通过抵抗电流而产生热量。第二电热丝232嵌在介电板210的第二区域210b中。第二区域210b不同于第一区域210a,并设置在第一区域210a的周围。第二区域210b是介电板210的包围中央区域的最外区域。第二区域210b的面积小于第一区域210a的面积。第二电热丝232包括嵌在第二区域210b中的第二电热丝232a 232d。第二电热丝232a 232d可以彼此串联或并联连接,条件是其连接方法不同于第一电热丝231a和231b的连接方法。第二电热丝232a^232d与第二下电源236连接。由第二下电源236供应的电流流经串联连接的第二电热丝232a 232d。第二电热丝232a 232d通过抵抗电流而产生热量。 第三电热丝233嵌在介电板210的第三区域210c中。第三区域210c设置在第一区域210a和第二区域210b之间,并包围第一区域210a。第三区域210c的面积小于第一区域210a的面积。第三电热丝233包括嵌在第三区域210c中的第三电热丝233a 232d。第三电热丝233a 233d可以彼此串联或并联连接,条件是其连接方法不同于第一电热丝231a和231b的连接方法。第三电热丝233a 233d与第三下电源237连接。由第三下电源237供应的电流流经串联连接的第三电热丝233a 233d。第三电热丝233a 233d通过抵抗电流而产生热量。从第一至第三电热丝231、232和233产生的热量通过介电板210传递到基材W,从而加热基材W。第一至第三下电源235 237包括本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基材支撑单元,包括:在其上放置基材的支撑板;和设置在所述支撑板内以加热所述支撑板的加热件,其中所述加热件包括:设置在所述支撑板的第一区域中的多根第一电热丝;和设置在所述支撑板的第二区域中的多根第二电热丝,第二区域不同于第一区域,其中各第一电热丝通过串联和并联中的一种彼此连接,和各第二电热丝通过串联和并联中的另一种彼此连接。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:李元行,李承培,
申请(专利权)人:细美事有限公司,
类型:发明
国别省市:
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