【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种基材处理设备，更具体而言，涉及一种包括静电卡盘的基材处理设备。
技术介绍
半导体制造设备包括在处理室中的用于固定晶片的静电卡盘。这种静电卡盘通过使用静电力来固定基材。静电卡盘可以分为包括一个电极的单极静电卡盘和包括两个电极的双极静电卡盘。单极静电卡盘在静电力方面优于双极静电卡盘。然而，单极静电卡盘需要等离子体以构成卡持基材的电路。因此，当单极静电卡盘用在基材处理工艺中时，在等离子体产生后He气体被供应到基材。因此，当进行等离子体处理工艺的初始阶段时，基材的温度状态是不适宜的。
技术实现思路
本专利技术提供一种可以稳定地固定基材的静电卡盘。本专利技术还提供一种无论是否产生等离子体都可以保持基材的静电卡盘。本专利技术的目的不限于上述方面，相反，本领域技术人员从下面的说明中可以清楚地理解本文未描述的其他目的。本专利技术的实施例提供利用静电力来固定基材的静电卡盘，包括在其上放置基材的介电板；设置在所述介电板的内部中央区域中的第一电极，被充入正电荷或负电荷；和设置在所述介电板的内部边缘区域中并包围第一电极的第二电极，被充入与第一电极相反极性的电荷，其中第二电...
【技术保护点】
一种利用静电力来固定基材的静电卡盘，包括：在其上放置基材的介电板；设置在所述介电板的内部中央区域中的第一电极，被充入正电荷或负电荷；和设置在所述介电板的内部边缘区域中并包围第一电极的第二电极，被充入与第一电极相反极性的电荷，其中第二电极的面积不同于第一电极的面积。
【技术特征摘要】
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