一种晶体硅片表面处理的方法技术

本发明专利技术公开了一种晶体硅片的制绒方法。该制绒方法包括二个步骤：（1）对晶体硅片表面实施化学溶液各向同性腐蚀抛光处理，降低晶体硅片的表面粗糙度；（2）对晶体硅片表面实施化学溶液各向异性腐蚀制绒处理，降低晶体硅片的表面反射率。本发明专利技术制备绒面方法的特征在于，本发明专利技术的制备绒面的方法适用于所有类型的晶体硅片，并具有绒面尺寸小，生产成本低和制绒时间短的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关在生产太阳能电池过程中晶体硅片表面的处理方法，特别是有关在晶体硅片表面制备绒面的技术。本专利技术的表面处理技术具有适用性广，绒面尺寸小，生产成本低，以及制绒时间短等优点。
技术介绍
随着地球上已知的不可再生能源，例如煤，石油等，不断地减少，可再生能源的开发和利用越来越受到人们的重视。把太阳能转换为电能的太阳能电池技术是目前可再生能源利用的主要技术之一。其中，晶体硅太阳能电池是各种太阳能电池技术中应用最广泛的太阳能电池。 晶体硅太阳能电池是把太阳能直接转换为电能的一种器件。与其它类型的太阳能电池相比，晶体硅太阳能电池具有转换效率高，使用寿命长，维护成本低等优点。晶体硅太阳能电池目前占整个太阳能电池市场80%以上。但是，即使如此，太阳能电池目前所产生的电能占整个电能的消耗量还是微不足道。其主要原因是太阳能电池目前发电成本比传统非可再生能源的发电成本高。因此，降低太阳能电池的发电成本有着非常重要的意义。降低太阳能电池的发电成本主要有二个方面，一是降低太阳能电池的生产成本，二是提高太阳能电池的光电转换效率。降低生产太阳能电池原材料的成本是降低太阳能电池的生产成本主要措施之一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶体硅片表面绒面的制备方法，其特征在于，该晶体硅片表面绒面的制备方法包括以下步骤：（1）对晶体硅片表面实施化学溶液腐蚀抛光，降低晶体硅片的表面粗糙度；（2）对晶体硅片表面实施化学溶液腐蚀制绒，降低晶体硅片的表面反射率。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：季静佳，覃榆森，朱凡，
申请(专利权)人：苏州易益新能源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：