【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于深紫外投影光刻物镜结构设计与像差补偿领域，具体涉及光刻投影物镜中光学元件X-Y微动调整装置。
技术介绍
投影光刻装备是大规模集成电路制造工艺中的关键设备，近年来随着集成电路线宽精细程度的不断提高，投影光学装备的分辨率亦逐渐提高，目前波长193. 368nm的ArF准分子激光器投影光刻装备已成为90nm、65nm和45nm节点集成电路制 造的主流装备。投影光刻物镜装调及使用过程中，为满足物镜良好的光学性能，需要周期性地对光学系统的各种像差进行检测和调整补偿，因此需要调整某些敏感光学元件沿X、Y方向的移动量。
技术实现思路
本专利技术为解决光刻投影物镜中光学元件X-Y高精度调整问题，提出一种光学元件X-Y柔性微动调整装置，尤其适用于深紫外投影物镜中光学透镜的微动调整。光刻投影物镜中X-Y微动调整装置，包括镜框、两个驱动器和两个电容传感器，所述两个驱动器和两个电容传感器分别固定在镜框上。所述镜框为镜框内环、镜框外环、直弹片、第一折叠弹片、第二折叠弹片和若干辅助支撑弹片组成的一体化结构。所述镜框内环和镜框外环之间通过直弹片、第一折叠弹片、第二折叠弹片和若干辅助...
【技术保护点】
光刻投影物镜中X？Y微动调整装置，包括镜框（2）、两个驱动器（3）和两个电容传感器（4），其特征在于，所述两个驱动器（3）和两个电容传感器（4）分别固定在镜框（2）上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵磊，巩岩，于新峰，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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