【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻机，特别是一种用于光刻机的。
技术介绍
投影物镜是光刻机系统的核心部件之一。投影物镜中的波像差会造成成像质量的恶化和エ艺窗ロ的减小，从而降低产率。随着光刻技术的特征尺寸不断减小，光刻机投影物镜的像差容限变得越来越严苛。光刻投影物镜的波像差检测需求从低阶像差扩展到高阶像差，在这种前提下，研发能够高精度检测低阶和高阶波像差的原位检测技术具有更加重要的意义。由于基于空间像的投影物镜波像差检测技术成本低且容易操作，基于空间像 的波像差检测技术在最近几年得到了广泛发展。在众多基于空间像的波像差检测技术中，TAMIS技术是具有代表性的一种(參见在先技术I, H. van der Laan, M. Dierichs,H. van Greevenbroek, E. McCoo, F.Stoffels, R. Pongers and R. Willekers, “Aerialimage measurement methods for fast aberration set-up and illumination pupilverification, ” Proc...
【技术保护点】
一种用于光刻机的基于空间像线性拟合的投影物镜波像差检测系统，包括产生照明光束的照明光源；调整照明光强分布和部分相干因子大小的照明系统；用于承载掩模，并具有精确定位能力的掩模台；将通过测试掩模上的检测标记的光束汇聚到硅片面且数值孔径可调的投影物镜；承载硅片并具有三维扫描能力和精确定位能力的工件台；安装在工件台上的像传感器，与所述像传感器相连并进行数据处理的计算机，其特点在于：所述检测标记由一组分别位于0°、30°、45°、90°、135°、150°方向的孤立空图形组成，各个方向的图形的线宽都为CD？nm，周期都为P？nm；所述的像传感器为CCD或透射像传感器，所述的像传感器能...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：闫观勇，王向朝，徐东波，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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