用于化学气相沉积系统的基板加热基座技术方案

技术编号:8131823 阅读:181 留言:0更新日期:2012-12-27 04:28
本发明专利技术提供了一种用于化学气相沉积系统的基板加热基座,其包括上表面,待处理基板设置在所述上表面上,所述上表面包括中心部分和围绕所述中心部分的边缘部分,所述上表面的边缘部分的表面粗糙度大于或等于Rz30μm且小于或等于Rz50μm。本发明专利技术可有效增加薄膜在边缘部分的粘附力,防止边缘部分上的薄膜脱落后影响沉积工艺。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及设备制造领域,特别涉及一种用于化学气相沉积系统的基板加热基座
技术介绍
在诸多的太阳能电池应用技术中,薄膜太阳能电池因其无污染,能耗少,成本低廉,可以大规模生产等一系列优点,而被广泛应用于航空、航天以及人们的日常生活中。常见的薄膜太阳能电池包括非晶硅薄膜太阳电池,非晶微晶叠层薄膜太阳能电池,铜铟镓硒薄膜太阳电池和碲化镉薄膜太阳电池。在公开号为CN101027749A和CN101226967A的中国 专利技术专利文件中,揭示了现有技术的薄膜太阳能电池的形成方法。以非晶硅薄膜太阳电池形成方法为例,制造非晶硅薄膜太阳电池的一个重要工艺环节是在大面积基板上沉积透明导电氧化物(TCO, transparent conductive oxide)薄膜;考虑到基板面积和成本的问题,通常非晶硅薄膜太阳电池的基板选用玻璃材质的基板。所述透明导电氧化物薄膜通常作为非晶硅薄膜太阳能电池的电极,所述透明导电氧化物通常为氧化锌。现有技术中,沉积薄膜太阳能电池的TCO薄膜的主要设备是化学气相沉积系统是制备。如图I所示,现有技术中化学气相沉积系统包括反应腔110、喷淋组件120和基板加热基座13本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于化学气相沉积系统的基板加热基座,所述基板加热基座包括上表面,所述上表面用于放置待处理基板,所述上表面包括中心部分和围绕所述中心部分的边缘部分,其特征在于,所述上表面的边缘部分的表面粗糙度大于或等于Rz30μm且小于或等于Rz50μm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:许国青李一成傅作伟朱乾成
申请(专利权)人:理想能源设备上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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