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本发明提供了一种用于化学气相沉积系统的基板加热基座，其包括上表面，待处理基板设置在所述上表面上，所述上表面包括中心部分和围绕所述中心部分的边缘部分，所述上表面的边缘部分的表面粗糙度大于或等于Rz30μm且小于或等于Rz50μm。本发明可有效...
该专利属于理想能源设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想能源设备（上海）有限公司授权不得商用。

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