热处理炉及热处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供热处理炉以及热处理装置。热处理炉包括：处理容器，其用于收容至少一个被热处理体；绝热部件，其呈圆筒状，用于覆盖该处理容器的周围；加热器，其沿该绝热部件的内周面配置，该加热器具有沿绝热部件的内周面呈螺旋状配置的波纹型的带状加热元件，加热元件具有向外侧突出的谷部和向内侧突出的峰部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及热处理炉以及具有该热处理炉的热处理装置。
技术介绍
在半导体装置的制造过程中，为了对作为被处理体的半导体晶圆实施氧化、扩散、CVD (Chemical Vapor Deposition)等处理,使用各种热处理装置。而且,通常的热处理装置具有热处理炉，该热处理炉包括处理容器，其用于收容半导体晶圆；绝热部件，其呈圆筒状，用于覆盖该处理容器的周围；加热器，其设在绝热部件的内周面上且用于对上述处理容器内的晶圆进行加热。作为上述加热器，例如在能够进行批量处理的热处理装置的情况下，使用沿圆筒状的绝热部件的内壁面配置且被支承体支承的加热元件，能够将炉内加热到例如800°C 1000°C左右的高温。另外，作为上述绝热部件，例如使用将由陶瓷纤维等构成的绝热材料烧制成圆筒状而成的绝热部件，能够使作为辐射热以及传导热而被吸收的热量減少，能够促进高效的加热。作为上述的支承体，例如使用陶瓷制的支承体，以规定的间距支承上述加热元件，使上述加热元件能够进行热膨胀和热收縮。此外，加热元件以如下方式设在圆筒状的绝热部件的内周面上在将绝热部件的内周面在纵向上一分为ニ的情况下，将加热元件设在各半周面上。此本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热处理炉，其中，该热处理炉包括：处理容器，其用于收容至少一个被热处理体；绝热部件，其呈圆筒状，用于覆盖该处理容器的周围；加热器，其沿该绝热部件的内周面配置，该加热器具有沿绝热部件的内周面呈螺旋状配置的波纹型的带状加热元件，上述加热元件具有向外侧突出的谷部和向内侧突出的峰部。

【技术特征摘要】
2011.06.21 JP 2011-1374281.一种热处理炉，其中， 该热处理炉包括 处理容器，其用于收容至少一个被热处理体； 绝热部件，其呈圆筒状，用于覆盖该处理容器的周围； 加热器，其沿该绝热部件的内周面配置， 该加热器具有沿绝热部件的内周面呈螺旋状配置的波纹型的带状加热元件，上述加热元件具有向外侧突出的谷部和向内侧突出的峰部。2.根据权利要求I所述的热处理炉，其中， 加热元件的谷部由被局部地嵌入到绝热部件内的防脱用的谷部支承销构件来支承，加热元件的峰部由被局部地嵌入到绝热部件内的防倾倒用的峰部支承销构件来支承。3.根据权利要求2所述的热处理炉，其中， 谷部支承销构件以及峰部支承销构件分别具有U字状体，且在U字状体的两端部设有防脱部，该防脱部用于与绝热部件相卡合而防止U字状体从上述绝热部件脱落。4.根据权利要求I所述的热处理炉，其中， 加热元件的谷部顶部以及峰部顶部均由弯曲线形成，谷部顶部的弯曲线以及峰部顶部的弯曲线相对于加热元件的宽度方向倾斜。5.根据权利要求I所述的热处理炉，其中， 在上述圆筒状的绝热部件的内周面上形成有沿纵向延伸的狭缝。6.一种热处理装置，其中， 该热处理装置包括 热处理炉，其具有下部开放为炉口并用...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林诚，山贺健一，佐佐木章，池田大延，小池贵浩，
申请(专利权)人：霓佳斯株式会社，东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：