本发明专利技术提供双流体喷嘴、基板液处理装置和基板液处理方法。该双流体喷嘴能够均匀地喷雾小直径的处理液的液滴。在本发明专利技术中，在朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部（48）喷射的处理液与从气体喷射口（52）喷射的气体混合而生成的处理液的液滴的双流体喷嘴（34）、使用了该双流体喷嘴（34）的基板液处理装置（1）及基板液处理方法中，液体喷射部（48）使相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液的多个液体喷射口（47）配置在气体喷射口（52）的内侧的同一圆周上。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，该双流体喷嘴用于朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合而生成的处理液的液滴，该基板液处理装置和基板液处理方法用于使用该双流体喷嘴来进行基板的液处理。
技术介绍
以往，在制造半导体部件、平板显示器等的情况下，利用清洗液等处理液对半导体晶圆、液晶用基板等基板进行液处理。在用于进行该基板的液处理的基板液处理装置中，为了对基板的表面喷雾处理液的液滴而使用双流体喷嘴。·在双流体喷嘴中，在下端部中央形成有用于喷射处理液的圆孔状的液体喷射部，并在该液体喷射部的外侧形成有用于喷射气体的圆环状的气体喷射口。而且，双流体喷嘴从液体喷射部朝向下方喷射规定流量的处理液，并且从气体喷射口朝向内侧的处理液喷射规定流量的气体，使处理液与气体在双流体喷嘴外部(下方)混合，利用气体的喷射压力使处理液分散而生成处理液的液滴，并朝向基板喷雾已成为雾状的处理液的液滴(例如参照对比文献I)。对比文献I :日本特开2004 - 356317号公报但是，在上述以往的双流体喷嘴中，利用从双流体喷嘴的外侧的气体喷射口喷射的气体来使从双流体喷嘴的下端部中央的圆孔状的液体喷射部朝向下方以圆柱状喷射的处理液分散，从而生成处理液的液滴。在这样的以往的双流体喷嘴中，处理液没有良好地分散，生成了粒径没有变小的液滴，生成的液滴的粒径不均匀，处理液的液滴所带来的液处理效果(例如清洗效果等)有可能降低。
技术实现思路
因此，在本专利技术中，在朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合而生成的处理液的液滴的双流体喷嘴中，上述液体喷射部由配置在上述气体喷射口的内侧的同一圆周上的多个液体喷射口构成，上述多个液体喷射口相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液。另外，将上述多个液体喷射口中的相邻的液体喷射口的间隔设为使从各液体喷射口喷射的处理液彼此不会接触的间隔。另外，将上述液体喷射口与上述气体喷射口的间隔设为使从相邻的液体喷射口喷射的处理液彼此不会接触就与气体混合的间隔。另外，上述多个液体喷射口中的相邻的液体喷射口的间隔为上述液体喷射口的直径以上的间隔。另外，上述气体喷射口为狭缝状。另外，上述气体喷射口朝向下方喷射气体。另外，该双流体喷嘴具有用于使气体从上述气体喷射口回旋地喷射的回旋流产生部。此外，在本专利技术中，利用处理液的液滴对基板进行液处理的基板液处理装置包括基板保持部件，其用于在保持基板的状态下使基板旋转；杯状件，其包围被基板保持部件保持的基板并接收处理液；双流体喷嘴，其用于向基板喷射处理液的液滴，上述双流体喷嘴使从液体喷射部喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合而生成液滴，上述液体喷射部由配置在上述气体喷射口的内侧的同一圆周上的多个液体喷射口构成，上述多个液体喷射口相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液。另外，将上述多个液体喷射口中的相邻的液体喷射口的间隔设为使从各液体喷射口喷射的处理液彼此不会接触的间隔。另外，将上述液体喷射口与上述气体喷射口之间的间隔设为使从相邻的液体喷射 口喷射的处理液彼此不会接触就与气体混合的间隔。另外，在本专利技术中，在朝向基板喷雾通过使从双流体喷嘴的液体喷射部喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合而生成的处理液的液滴而利用处理液的液滴对基板进行液处理的基板液处理方法中，利用上述双流体喷嘴进行液处理。在本专利技术中，使从液体喷射部的各液体喷射口朝向外侧喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合。由此，使从各液体喷射口喷射的处理液良好地分散，能够使处理液的液滴的粒径均匀，因此，能够提高处理液的液滴所带来的液处理效果。附图说明图I是表示基板液处理装置的俯视图。图2是表不基板处理室的不意图。图3是表示双流体喷嘴的主视剖视图。图4是该双流体喷嘴的放大仰视图。图5是图3的I — I剖视图。图6的(a) 图6的(C)是表不气体供给流路的说明图。具体实施例方式以下，参照附图来说明本专利技术的双流体喷嘴、具有该双流体喷嘴的基板液处理装置和使用了该双流体喷嘴的基板液处理方法的具体构成。如图I所示，基板液处理装置I在前端部设有用于利用承载件3集中地对多张(例如25张)作为被处理体的基板2 (此处为半导体晶圆)进行输入和输出的基板输入输出部4，在基板输入输出部4的后部设有用于对被容纳在承载件3中的基板2进行输送的基板输送部5，在基板输送部5的后部设有用于实施基板的清洗、干燥等各种处理的基板处理部6。基板输入输出部4在使4个承载件3紧贴于基板输送部5的前壁7的状态下使4个承载件3左右隔开间隔地载置4个承载件3。基板输送部5在内部容纳有基板输送装置8和基板交接台9。并且，在基板输送部5中，使用基板输送装置8在被载置在基板输入输出部4中的任一个承载件3与基板交接台9之间输送基板2。基板处理部6在中央部容纳有基板输送装置10，并且在基板输送装置10的左右两侧沿前后排列而容纳有基板处理室11 22。另外，在基板处理部6中，使用基板输送装置10在基板输送部5的基板交接台9与各基板处理室11 22之间一张一张地输送基板2,并使用各基板处理室11 22来一张一张地处理基板2。各基板处理室11 22是相同的结构，作为代表来说明基板处理室11的结构。如图2所示，基板处理室11包括基板保持部件23，其用于在水平地保持基板2的状态下使基板2旋转；处理液喷射部件24，其用于朝向由基板保持部件23保持的基板2的上表面喷射处理液(此处为清洗液);冲洗液喷射部件25，其用于朝向由基板保持部件23保持的基板2的上表面喷射冲洗液。利用控制部件26来控制上述的基板保持部件23、处理液喷射部件 24、冲洗液喷射部件25。另外，控制部件26用于控制基板输送装置8、10等整个基板液处理装置I。基板保持部件23在旋转轴27的上端部具有水平的圆板状的载置台28，在载置台28的周缘部沿着圆周方向隔开间隔地安装有与基板2的周缘部接触而水平保持基板2的多个基板保持体29。旋转轴27与旋转驱动机构30连接。旋转驱动机构30用于使旋转轴27和载置台28旋转并使由基板保持体29保持在载置台28上的基板2旋转。该旋转驱动机构30与控制部件26连接，并由控制部件26进行旋转控制。另外，在基板保持部件23的周围以自由升降的方式设有使上方开口的杯状件31，杯状件31包围被载置在载置台28上的基板2而防止处理液、冲洗液的飞散并接收处理液、冲洗液。杯状件31与升降机构32连接。升降机构32使杯状件31相对于基板2进行相对的上下升降。该升降机构32与控制部件26连接，由控制部件26进行升降控制。处理液喷射部件24在比载置台28靠上方的位置以能够水平移动的方式配置有臂33，在臂33的顶端部安装有作为处理液喷射喷嘴的外部混合型的双流体喷嘴34。臂33与移动机构35连接。移动机构35使双流体喷嘴34在基板2的外侧的退避位置与基板2的中央部上方的开始位置之间进行水平移动。该移动机构35与控制部件26连接，由控制部件26进行移动控制。另外，处理液喷射部件24形成有用于向双流体喷嘴34供给处理液的液体供给流路36和用于向双流体喷嘴34供给气体的气体供给流路37。液体供给流路36经由流量调整器39与用于供给处理液(清洗液)的液体供给源38连接。流量调整器39用于对向双流体喷嘴3本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种双流体喷嘴，其用于朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合而生成的处理液的液滴，其特征在于，上述液体喷射部由配置在上述气体喷射口的内侧的同一圆周上的多个液体喷射口构成，上述多个液体喷射口相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液。
【技术特征摘要】
2011.06.21 JP 2011-137696;2011.11.15 JP 2011-24951.一种双流体喷嘴，其用于朝向被处理体喷雾通过使从液体喷射部喷射的处理液与从气体喷射口喷射的气体混合而生成的处理液的液滴，其特征在于， 上述液体喷射部由配置在上述气体喷射口的内侧的同一圆周上的多个液体喷射口构成， 上述多个液体喷射口相对于圆周中心部朝向外侧方向喷射处理液。2.根据权利要求I所述的双流体喷嘴，其特征在于， 将上述多个液体喷射口中的相邻的液体喷射口的间隔设为使从各液体喷射口喷射的处理液彼此不会接触的间隔。3.根据权利要求I或2所述的双流体喷嘴，其特征在于， 将上述液体喷射口与上述气体喷射口之间的间隔设为使从相邻的液体喷射口喷射的处理液彼此不会接触就与气体混合的间隔。4.根据权利要求I至3中任一项所述的双流体喷嘴，其特征在于， 上述多个液体喷射口中的相邻的液体喷射口的间隔为上述液体喷射口的直径以上的间隔。5.根据权利要求I至4中任一项所述的双流体喷嘴，其特征在于， 上述气体喷射口为狭缝状。6.根据权利要求I至5中任一项所述的双流体喷嘴，其特征在于， 上述气体喷射口朝向下方喷射气体。7.根据权利要求I...
【专利技术属性】
技术研发人员：甲斐义广，金子聪，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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