用于晶片清洁设备的盒夹具和具有该夹具的盒组件制造技术

本发明专利技术提供了一种用于晶片清洁设备的盒夹具，包括：夹具本体，具有被设计成在内部接收第一晶片的内部空间；以及引导构件，安装在夹具本体中并且操作性地引导待安装在夹具本体中的盒，盒具有被设计成在内部接收具有比第一晶片相对小的直径的第二晶片的内部空间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种在水清洁设备中使用的盒(cassette),且更具体地,涉及一种可应用于用来清洁各种尺寸的晶片水清洁设备的盒夹具，以及具有该盒夹具的盒组件。相关申请的交叉参考本申请要求于2010年I月22日在韩国提交的韩国专利申请No. 10-2010-0006096的优先权，其全部内容通过弓I证结合于此。
技术介绍
在半导体晶片制作过程中，清洁过程是一个通过去除遗留在晶片表面上的各种颗粒或者金属污染物来清洁晶片表面的过程。·通常，晶片清洁过程通过如图I所示的晶片清洁设备顺序清洁和干燥晶片I。参见图1，晶片清洁设备包括浸泡单元(bath unit) 10，其用来在内部接收清洁溶液以淹没装载了多个晶片I的盒；用来转移盒的转移单元20 ;以及用来干燥清洁的晶片的旋转干燥机单元30。在晶片清洁设备中使用的盒5具有开放的顶部、以及内部空间，多个晶片I以均匀间隔被装载在该内部空间中。盒5具有尺寸与晶片直径相对应的本体，并导引晶片I从顶部插入该盒中。例如，用来把200mm的大直径晶片装载在其中的盒具有尺寸设计为导引200mm直径晶片的本体。尽管如此，对于在其中接收盒5的浸泡单元10、具有用来本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.01.22 KR 10-2010-00060961.一种用于晶片清洁设备的盒夹具，包括 夹具本体，所述夹具本体具有被设计成在内部接收第一晶片的内部空间；以及引导构件，所述引导构件安装在所述夹具本体中并且操作性地引导待安装在所述夹具本体中的盒，所述盒具有被设计成在内部接收具有比所述第一晶片相对小的直径的第二个晶片的内部空间。2.根据权利要求I所述的用于晶片清洁设备的盒夹具，其中， 所述引导构件是一对特氟纶块，这对特氟纶块在所述夹具本体的一个端部处在宽度方向上安装在所述夹具本体的相对内转角部分处。3.根据权利要求2所述的用于晶片清洁设备的盒夹具，其中， 所述引导构件具有与所述转角部分对应的钩状本体，以及 其中，所述引导构件具有引导凹槽，所述引导凹槽用于引导待插入所述引导凹槽中的所述盒的外转角部分。4.根据权利要求I所述的用于晶片清洁设备的盒夹具，其中， ...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴在泫，崔忠孝，
申请(专利权)人：LG矽得荣株式会社，
类型：
国别省市：