一种硅片表面颗粒定点清除系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种硅片表面颗粒定点清除系统，包括扫描物镜、高度和方位角调节装置、水平清洁气流输出装置、和定向能装置，所述定向能装置安装在高度调节装置上，并可相对扫描物镜做上下平动和绕扫描物镜做水平转动，定向能装置沿近水平方向对准硅片表面。本发明专利技术还包括一种利用该系统实现硅片表面颗粒定点清除的方法，采用扫描物镜确定颗粒位置，然后定向能装置发射辐射波将颗粒与硅片分离。本发明专利技术免除了传统方法在清洗后重复扫描以确认清洗效果的操作，节省了机器时间，缩短了硅片生产周期，并且还可以避免传统大面积清洗对硅片的损伤，大大提高了硅片清洗的工作效率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅片表面颗粒定点清除系统，其特征在于，包括扫描物镜、高度和方位角调节装置、水平清洁气流输出装置、和定向能装置，所述定向能装置安装在高度调节装置上，并可相对扫描物镜做上下平动和绕扫描物镜做水平转动，扫描物镜的镜头对准将要进行颗粒清除的硅片，定向能装置沿近水平方向对准硅片表面，扫描物镜与定向能装置通过数据线及相关电路相连接，水平清洁气流输出装置的气流输出端朝向硅片，吹出的气流紧贴硅片表面并与之平行。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：伍强，方精川，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]