去除微粒的方法和设备技术

方法和系统，用于清洁基片特征的表面，该表面上具有颗粒物质，具有夹带在其中的耦合元件的射流撞击该表面。将足够的拖曳力传递到该耦合元件以使其关于该液体移动并且导致该颗粒物质相对于该基片移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于清洁基片表面的方法，该表面上具有颗粒物质，所述方法包括：　使用其中夹带有耦合元件的液体撞击所述表面；以及　向所述耦合元件传递足够的拖曳以使其在所述液体内移动，并且向所述颗粒物质传递一定量的所述拖曳，所述量是足以使所述颗粒物质相对于所述基片移动的量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃里克M弗里尔，约翰M德拉里奥斯，卡特里娜米哈利钦科，迈克尔拉夫金，米哈伊尔科罗利克，弗里茨C雷德克，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]