记录介质制造技术

技术编号:7495439 阅读:189 留言:0更新日期:2012-07-10 19:39
本发明专利技术涉及一种记录介质。一种记录介质,其包括在支持体上的墨接收层,其中所述墨接收层包含水合氧化铝、具有1至4个碳原子的烷基磺酸和至少一种由通式(1)或(2)表示的硫化合物的盐:R1-SO2M1????????通式(1)R2-SO2-SM2??????通式(2)其中R1和R2各自表示烷基、芳基或杂环基;M1和M2各自表示碱金属、铵或链烷醇胺。所述具有1至4个碳原子的烷基磺酸相对于所述水合氧化铝的比例在1.0质量%至2.0质量%的范围内。所述硫化合物的盐相对于所述水合氧化铝的比例在0.2质量%至4.0质量%范围内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及记录介质
技术介绍
作为通过喷墨记录法或用毡头笔(felt-tip pens)在其上进行记录的记录介质, 已知包括在支持体上的墨接收层的记录介质。墨接收层包含无机颜料如ニ氧化硅和水合氧化铝,以及粘结剂如聚乙烯醇。此类记录介质需要具有改善的墨吸收性、耐湿性和耐臭氧性等。在将分散液用作形成墨接收层用涂布液和通过在支持体上施涂涂布液来形成墨接收层的情况下,需要将无机颜料良好地分散于分散液中。日本专利3791039公开了包含水合氧化铝和抗絮凝剂的氧化铝溶胶。作为抗絮凝剂,使用不具有碳原子的磺酸如氨基磺酸、具有5个以上碳原子的烷基磺酸如己烷磺酸或具有苯环的磺酸。日本专利3791039还公开了氧化铝分散液具有15重量%至30重量%的固成分和待形成的墨接收层具有令人满意的吸收性。日本专利特开2001-260519公开了具有令人满意的墨吸收性、保存性和光泽度的记录介质,所述记录介质包括含有ニ氧化硅和选自亚磺酸化合物、硫代磺酸化合物和硫代亚磺酸(thiosulfinic acid)化合物的ー种化合物的墨接收层。
技术实现思路
根据本专利技术的一方面,记录介质包括在支持体上的墨接收层,其中所述墨接收层包含水合氧化铝、具有1至4个碳原子的烷基磺酸和至少ー种由通式⑴或⑵表示的硫化合物的盐R1-SO2M1通式(1)R2-SO2-SM2通式 O)其中R1和も各自表示烷基、芳基或杂环基讽和M2各自表示碱金属、铵或链烷醇胺。具有1至4个碳原子的烷基磺酸相对于水合氧化铝的比例在1. 0质量%至2. 0质量% 的范围内。硫化合物的盐相对于水合氧化铝的比例在0. 2质量%至4. 0质量%的范围内。从以下示例性实施方案的描述中,本专利技术的进ー步特征将变得显而易见。具体实施例方式以下将详细地描述根据本专利技术方面的记录介质的实施方案。根据本专利技术方面的记录介质包括在支持体的至少ー个表面上的墨接收层。通过本专利技术人的研究表明,当将氨基磺酸、具有5个以上碳原子的烷基磺酸如己烷磺酸或具有苯环的磺酸等用作如日本专利3791039所述的抗絮凝剂吋,在苛刻环境条件下的耐湿性并不好。此外,较高的抗絮凝剂含量导致墨吸收性的降低。较低的抗絮凝剂含量导致耐臭氧性的降低。仅通过控制抗絮凝剂的量难以高水平地达到墨吸收性和耐臭氧性之间的平衡。在日本专利特开2001-260519中,墨接收层具有非常高的硫化物的羧酸盐含量。 在实施例(如,记录纸7)中,墨接收层包含10质量%以上的化合物A-I (硫化物的羧酸盐)。 因此,当将该技术用于包含用作无机颜料的水合氧化铝的水合氧化铝分散液吋,所述分散液有时凝胶化。此外,墨接收层的墨吸收性不足。本专利技术的方面提供具有令人满意的墨吸收性、耐湿性和耐臭氧性的记录介质。支持体支持体的实例包括纸如铸涂纸(cast coated paper)、钡地纸和树脂印相纸 (resin coated paper)(其中基底的两面都涂布有树脂如聚烯烃的树脂印相紙);和膜。 这些支持体中,从实现形成墨接收层后良好光泽度的观点,可使用树脂印相紙。作为膜, 可使用由热塑性树脂如聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚乳酸、聚苯乙烯、聚乙酸酷、聚氯乙烯、乙酸纤维素、聚对苯ニ甲酸乙ニ酷、聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯制成的透明膜。也可使用未施胶纸或为适度施胶纸的涂布纸或由通过填充无机材料或通过微发泡得到的不透明膜制成的片状材料(如,合成紙)。此外,例如可使用由玻璃或金属制成的片材。为了改善支持体和墨接收层之间的粘合強度,可将支持体的表面进行电晕放电处理或任何底涂处理 ^undercoatmg treatment) 0墨接收层水合氧化铝根据本专利技术方面的记录介质中包括的墨接收层包含用作颜料的水合氧化铝。可使用由通式(X)表示的化合物作为水合氧化铝Al2CVn(OH)a^mH2O (X)其中η表示0、1、2或3 ;m表示0至10如0至5范围内的值,条件是m和η不同时为0 ;mH20经常表示不參与晶格形成的可去除水(eliminable water),因此m可表示整数或非整数;当加热材料吋,m可达到0。依赖于热处理的温度,已知水合氧化铝的晶体结构为无定形、三水铝石和勃姆石。 可以使用具有任何这些晶体结构的水合氧化铝。可以使用通过X射线衍射分析測定的具有勃姆石结构或无定形结构的水合氧化铝。水合氧化铝的具体实例包括描述于日本专利特开 7-23M73、8-132731、9-66664和9-76628中的水合氧化铝。可以使用当形成墨接收层时整个墨接收层可具有7. Onm至10. Onm和甚至8. Onm以上的平均孔半径的水合氧化铝。整个墨接收层的平均孔半径为7. Onm至10. Onm导致优异的墨吸收性和显色性。整个墨接收层的平均孔半径为7. Onm至10. Onm导致优异的墨吸收性和显色性。整个墨接收层的平均孔半径小于7. Onm可导致,即使调节相对于水合氧化铝的粘结剂的量,墨吸收性也不足。整个墨接收层的平均孔半径大于10. Onm可导致墨接收层雾度的増加,从而不能提供令人满意的显色性。此外,在墨接收层中具有25. Onm以上半径的孔可能不存在。具有25. Onm半径的孔的存在可导致墨接收层雾度的増加,从而不能提供令人满意的显色性。整个墨接收层可具有0. 50mL/g以上的总孔容积。小于0. 50mL/g的总孔容积可导致,即使调节相对于水合氧化铝的粘结剂的量,整个墨接收层的墨吸收性也不足。此外,整个墨接收层可具有30. OmL/g以下的总孔容积。平均孔半径、总孔容积和孔半径是通过Barrett-Joyner-HaIenda(BJH)法由氮吸附脱附等温线测定的值,所述氮吸附脱附等温线通过使用氮吸附脱附法测量得到。特別地,平均孔半径是通过由氮脱附测量的总孔容积和比表面积计算求得的值。在通过氮吸附脱附法在记录介质上进行测量的情况下,也在除墨接收层之外的部分上进行该測量。然而,除墨接收层支持体之外的部分(例如,支持体和树脂涂布层)不具有落入通常能够由氮吸附脱附法测量的范围内的尺寸的孔,即,所述部分不具有各自为Inm至IOOnm尺寸的孔。因此, 在通过氮吸附脱附法在整个记录介质上进行测量的情况下,将所述測量作为测定墨接收层平均孔半径的測量。为了形成具有7. Onm至10. Onm平均孔半径的墨接收层,水合氧化铝可具有IOOm2/ g至200m2/g和甚至125m2/g至175m2/g的BET比表面积。BET法是使用气相吸附技术測量粉末表面积的方法,并且是由吸附等温线测定Ig样品的总表面积,即比表面积的方法。在 BET法中,通常将氮气用作待吸附的气体。最经常采用基于吸附的气体的压カ或体积的变化测量气体吸附量的方法。表示多分子吸附等温线的最著名的方程式是布鲁诺-埃梅特-特勒方程式(brunauer-emmett-teller equation),该方程式称为BET方程式,其广泛用于比表面积測定。在BET法中,基于BET方程式測定吸附物的量,然后乘以由ー个吸附物分子在表面上所占的面积,以求得比表面积。在BET法中,在氮吸附脱附法的测量的情况下,測量在几个相对压カ下吸附物的量以通过最小二乗法计算图的斜率和截距,从而求得比表面积。根据本专利技术的方面,在五个不同的相对压カ下測量吸附的吸附物的量以求得比表面积。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:仁藤康弘加茂久男野口哲朗田栗亮小栗勲苏秀儿
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:

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