本发明专利技术提供记录介质，其能够抑制转移不足的发生、降低记录介质的最外表面上的划痕的可见性并且抑制进行记录时斑点图案的发生。该记录介质具有基材和设置在该基材上的墨接受层，其中该记录介质的最外表面的由JIS?B?0601：2001规定的算术平均粗糙度Ra为1.1μm-2.5μm，并且该记录介质的最外表面的由JIS?B?0601：2001规定的粗糙度曲线的偏度Rsk为0.1以下。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及记录介质。
技术介绍
作为调节基材(substrate)上具有墨接受层的记录介质的表面光泽度的方法，已知控制记录介质的表面粗糙度的方法。日本专利申请公开No. 2000-355160记载了表面的中心线平均粗糙度(高度)为0.8 4!11-4.(^111并且60°镜面光泽度为10%-30%的记录介质。日本专利申请公开No. 2001-347748记载了表面的中心线平均粗糙度为0. 4 μ m-2. 5 μ m 并且10点平均粗糙度为中心线平均粗糙度的5倍-20倍的记录介质。这些记录介质通过控制记录介质的表面粗糙度来抑制记录图像中的光泽不均勻和由于表面光泽而引起的眩目。
技术实现思路
在记录介质上记录图像，然后以它们的记录表面彼此接触的方式保存记录介质时，有时可能发生这样的现象看起来似乎一个图像的形状发白地出现在另一图像上(转移不足(imdertrapping))。认为这归因于水或水溶性有机溶剂在接触的记录介质之间移动的事实。水或水溶性有机溶剂移动时，在它们已移动的部分与它们尚未移动或几乎未移动的部分之间产生水或水溶性有机溶剂的存在量差。认为这引起图像上的转移不足。存在另一问题，即由于记录介质之间的接触和摩擦，在记录介质的最外表面上产生划痕(scratch)，并且能够视认的划痕损害记录介质的外观。已对日本专利申请公开No. 2000-355160和2001-347748中记载的记录介质热心地进行了研究。结果，记录介质的表面粗糙度小时，彼此接触时这样的记录介质之间的粘合高，因此存在产生转移不足的倾向。此外，记录介质的最外表面的光泽度高，并且存在清楚地看到划痕的倾向。另一方面，为了解决这些问题而使记录介质的最外表面的表面粗糙度大时，有时墨可能聚集在记录介质的最外表面的凹凸形状(unevenprofile)的凹部中以产生根据凹凸形状的斑点图案(mottledpattern)。仅通过控制记录介质的中心线平均粗糙度和10点平均粗糙度，难以抑制该根据凹凸形状的斑点图案。因此，本专利技术的目的在于提供记录介质，其能够抑制转移不足的发生，降低记录介质的最外表面上划痕的可见性并且抑制进行记录时斑点图案的发生。为了实现上述目的，本专利技术提供记录介质，其包括基材和设置在该基材上的墨接受层，其中该记录介质的最外表面的由Jis B0601 2001规定的算术平均粗糙度 (arithmetic average roughness) Ra为1· 1 μ m-2. 5 μ m,并且该记录介质的最夕卜表面的由 JIS B 0601 2001 规定的粗糙度曲线(roughness curve)的偏度(skewness)Rsk 为 0. 1 以下。根据本专利技术，能够提供记录介质，其能够抑制转移不足的发生，降低记录介质的最外表面上划痕的可见性并且抑制进行记录时斑点图案的发生。由以下对示例性实施方案的说明，本专利技术进一步的特征将变得清楚。 具体实施例方式现在对本专利技术的优选实施方案详细说明。顺便提及，本专利技术不应解释为限制于这些说明。记录介质根据本专利技术的记录介质是具有基材和设置在该基材上的墨接受层的记录介质。根据本专利技术的记录介质能够用作，例如，用毯头笔(felt-tip pen)进行记录的记录介质或者通过喷墨记录方法进行记录的记录介质。可将墨接受层设置在基材的一个表面或两个表面上。此外，可在基材上设置一个以上的墨接受层。根据本专利技术的记录介质中，记录介质的最外表面的由JIS B0601 :2001规定的算术平均粗糙度Ra为1. 1 μ m-2. 5 μ m。Ra为1. 1 μ m以上时，即使在其上记录图像后记录介质的最外表面彼此接触，也能够使记录介质的最外表面相互之间的接触面积小。因此记录介质之间水或水溶性有机溶剂的移动难以发生，由此能够抑制转移不足的发生。Ra为1. 1 μ m 以上，由此能够抑制记录介质的光泽度变得太高，因此能够降低记录介质的最外表面上划痕的可见性。从进一步抑制转移不足的发生并且进一步降低最外表面上划痕的可见性的观点出发，Ra优选为1.3μπι以上。另一方面，如果Ra大于2.5 μ m，即使改变随后所述的 Rsk值，凹凸形状的凹部的体积变得太大，因此将墨施涂于这样的记录介质时有时可能产生根据凹凸形状的斑点图案。特别是通过喷墨记录进行记录时，由于以高速施涂墨，因此存在容易产生斑点图案的倾向。因此，Ra为2.5μπι以下。记录介质的最外表面的Ra优选为 2.0μπι以下。简而言之，本专利技术中，记录介质的最外表面的由JIS B 0601 :2001规定的算术平均粗糙度Ra优选为1.3μπι-2.0μπι。顺便提及，本专利技术中记录介质的最外表面意指记录介质的表面中在其上施涂墨以进行记录的表面。例如，在基材的一个表面上具有一个墨接受层作为最外层的记录介质的情况下，该墨接受层的与基材侧相反侧的表面为记录介质的最外表面。在基材的每个表面上均具有墨接受层作为最外层的记录介质的情况下，每个墨接受层的与基材侧相反侧的表面为记录介质的最外表面。此外，根据本专利技术的记录介质中，记录介质的最外表面的由JIS Β0601 :2001规定的粗糙度曲线的偏度1以下。Ra为1. 1μπι-2. 5μπι并且Rsk为0. 1以下，由此能够使凹凸形状的凹部的体积足够小。结果，能够抑制将墨施涂于记录介质时产生根据凹凸形状的斑点图案。Rsk表示表面粗糙度的高度方向上的特征。凹部大于凸部时，Rsk表示正值，凹部小于凸部时，Rsk表示负值。Rsk大于0. 1时，即使Ra在1. 1 μ m-2. 5 μ m的范围内，凹部的体积相当大，因此容易产生根据凹凸形状的斑点图案。为了使凹部的体积小以抑制斑点图案的发生，Rsk优选为0.0以下。从凹凸形状形成的容易性的观点出发，Rsk优选为-1.5以上。从使凹部的体积较小的观点出发，记录介质的最外表面的由JIS B0601 :2001规定的粗糙度曲线要素(roughness curve element)的平均长度RSm优选为0. 65mm以下。 RSm表示表面粗糙度的横向(水平方向)上的特征并且是表示凹部与凸部之间的间隔的值。 尽管其取决于垂直方向(高度方向)上的特征，但将RSm控制为0.65mm以下，由此能够使凹部的体积较小。结果，能够更令人满意地抑制根据凹凸形状的斑点图案的发生。从使凹部的体积更小的观点出发，RSm更优选为0. 60mm以下。RSm优选为0. IOmm以上。作为将记录介质的最外表面的Ra、Rsk和RSm控制在上述各范围内的方法，可提及下述方法。例如，将墨接受层设置为记录介质的最外层时，存在向墨接受层添加平均粒径为 1 μ m-20 μ m的无机或有机颗粒的方法。此外，有雕刻微细凹凸的方法和在凹凸基材上设置墨接受层的方法。在凹凸基材上设置墨接受层的方法中，对基材的表面进行凹凸压花处理。 然后将墨接受层用涂布液施涂到该基材上以形成墨接受层，由此能够在墨接受层的表面， 即记录介质的最外层上形成与基材的凹凸相同形状的凹凸。特别是墨接受层由硬多孔膜形成时，该方法适合。这种情况下，优选使用的基材是通过用树脂涂布基料(basematerial) 而得到的树脂涂布基材。特别优选用聚烯烃树脂涂布纸基料的两个表面而得到的树脂涂布基材。本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．记录介质，包括基材和设置在该基材上的墨接受层，其中该记录介质的最外表面的由ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１规定的算术平均粗糙度Ｒａ为１．１μｍ－２．５μｍ，并且该记录介质的最外表面的由ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１规定的粗糙度曲线的偏度Ｒｓｋ为０．１以下。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：田中考利，浅川浩，永岛齐，浅尾昌也，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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