【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃制造，特别是，涉及一种磁控溅射用靶材。
技术介绍
通常的平面式靶材的表面呈一平面，在进行磁控溅射时，处于环形刻蚀槽位置的靶材优先刻蚀完，而其它部位刻蚀不到，所以造成靶材的利用率只有30%左右，更换靶材的频率就大，成本也就上升。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种利用率高的磁控溅射用靶材。为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案一种磁控溅射用靶材，包括板状的靶材本体，所述的靶材本体上对应于环形刻蚀槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱状。其中，所述的凸棱状部分的厚度比所述的靶材本体的其他部分厚10mm。其中，所述的凸棱状部分向四周以斜面过渡。其中，所述的凸棱状部分位于该靶材的中心位置。本专利技术的有益效果是有效地提高了靶材的利用率，也就延长了换靶周期，降低了生产成本，适合在磁控溅射领域推广使用。附图说明附图1为本专利技术的磁控溅射用靶材的主视示意图； 附图2为本专利技术的磁控溅射用靶材的侧视示意图。附图中1、靶材本体；2、凸棱状部分。具体实施例方式下面结合附图所示的实施例对本专利技术的技术方案作以下详细描述如附图1所示，包括板状的靶材本体1，靶材本体1上对应于环形刻蚀槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱状，凸棱状部分2的厚度比靶材本体1的其他部分厚10mm，凸棱状部分2向四周以斜面过渡，以便更好地提高该靶材的利用率，凸棱状部分2位于该靶材的中心位置，该靶材沿长度方向和宽度方向均对称。本专利技术通过将平板式的靶材设计成中间后、四周薄的形式，有效地提高了靶材的利用率，延长了靶材的更换周期，也就有效地降低了生产成本，且结构加工简单，适于...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武瑞军，田富，
申请(专利权)人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。