【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：靶材；扫描机构；所述扫描机构包括：环形轨道；多个溅射磁条，所述多个溅射磁条设置在所述环形轨道上，且能够绕所述环形轨道循环移动，用于对所述靶材表面进行均匀的磁场扫描。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何茂盛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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