【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种溅射镀覆的专用设备。充气器是溅射镀覆设备必不可少的部件之一,设计合理的充气器有助于提高溅射镀覆设备的工作性能和薄膜的质量。当工件采用溅射法镀覆金属膜层时,需向真空室注入惰性气体,如氩气作为工作气体。常用的工作气体充气器是向真空室内引入一根充气管道,其出气口布置在近离溅射源的阴极靶靶面,正对或者斜向对准靶面喷射工作气体。当应用溅射源进行反应溅射沉积化合膜时,需向真空室注入工作气体和活性气体,此时常用的充气方式是将工作气体和活性气体的混合气引入真空室内。以上的充气方式的缺陷在于1、其充气管道全挡住部份溅射出来的原子,而在薄膜上造成阴影。2、充气管在一定程度上干扰了溅射源的电场分布,甚至影响溅射源的正常工作。3、靶面上惰性气体分布不均匀,靶面易受污染。4、注入的气体利用率较低,绝大部份的气体没有对溅射作出贡献就被真空泵排出。本专利技术的任务在于提供一种能使阴极靶靶面始终维持洁净惰性气氛和工件表面维持洁净的活性气氛、能进行高速反应溅射的溅射源用的充气器。图面说明图1为布置在溅射头上的充气器的结构示意图,图中1-小法兰,2-进气管,3-针阀,4-气管,5-O型密封圈,6-溅射头底盘,7-屏蔽罩,8-阴极靶,9-小法兰,10-进气管,11-针阀,12-气管,13-O型密封圈,14-导气管,15喷气环,16-工件。图2为一个工作气体充气器布置在溅射头上的结构示意图,图中标记与图1相同。以下结合附图说明本专利技术的具体内容,但
技术实现思路
不限于附图说明。如图1所示,工作气体充气器A和活性气体充气器B安装在溅射头底盘〔6〕上,分别从阴极靶〔8〕的四周向靶面喷 ...
【技术保护点】
一种能向阴极靶表面和工件表面分别喷射工作气体和活性气体的磁控溅射源用的充气器,其特征在于构成该充气器的工作气体充气器A和活性气体充气器B安装在溅射头底盘〔6〕上,分别向靶面和工件〔16〕表面喷射工作气体和活性气体。
【技术特征摘要】
1.一种能向阴极靶表面和工件表面分别喷射工作气体和活性气体的磁控溅射源用的充气器,其特征在于构成该充气器的工作气体充气器A和活性气体充气器B安装在溅射头底盘[6]上,分别向靶面和工件[16]表面喷射工作气体和活性气体。2.按照权利要求1所述的充气器,其特征在于所述的溅射头底盘〔6〕上开有一个布置进气管〔2〕的通孔,一个布置进气管〔10〕的竖向深孔,一个与该竖向深孔相通的径向深孔,围绕上述通孔和竖向深孔分别布置若干个螺孔。3.按照权利要求1所述的充气器,其特征在于所述的工作气体充气器A包括一个上端面开有一个用于布置O型密封圈〔5〕的环形槽、轴向开有一个中心通孔以及围绕中心通孔布置若干个通孔的小法兰〔1〕,一个焊接在小法兰〔1〕的中心通孔上的进气管〔2〕,一个气管〔4〕,以及一个连接进气管〔2〕和气管〔4〕的针阀〔3〕4.按照权利要求2和3所述的充气器,其特征在于所述的工作气体充气器A通过固定螺钉固定在溅射头底盘〔6〕上。5.按照权利要求1和2所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:王德苗,任高潮,陈抗生,
申请(专利权)人:浙江大学,
类型:发明
国别省市:33[中国|浙江]
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