【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般涉及电路结构以及制造电路的方法,尤其涉及具有晶片通孔结构的静电放电(ESD)电路以及制造方法。
技术介绍
ESD事件就是在大量电流提供给集成电路(IC)时,短期间内电流的放电(正或负)的现象。大电流由各种源所产生,例如,人体。ESD事件通常由高电压电势放电所产生 (通常有好几千伏特),导致短时间内(通常为100纳秒)的高电流(数安培)脉冲。例示地通过人接触IC的引线或带电机械在IC的其它引线内放电,会在IC内产生ESD事件。在集成电路被安装至产品期间,这些静电放电可摧毁IC,由此需要昂贵的产品维修,通过提供消除IC可能遭遇的静电放电的机构就可避免这种情况。IC的制造商与使用者必须采取预防措施来避免ESD。例如ESD防护可为器件本身的一部分,并且可包含针对器件输入与输出接脚的特殊设计技术。此外,也可利用电路版图使用外部防护部件。例如为了保护IC免于ESD事件,已经针对ESD结构实施许多方案, 包含例如使用可控硅整流器(SCR)。SCR可承受高电流,保持跨SCR的电压处于低水平并且被实施为旁路与ESD事件有关的高电流放电。ESD器件也可用来避免闩锁并且 ...
【技术保护点】
1.一种静电放电(ESD)结构,该结构包括:ESD有源器件;以及至少一个晶片通孔结构,其为所述ESD有源器件提供到衬底的低串联电阻路径。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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