镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:6844167 阅读:225 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种镀膜装置,包括基座、驱动机构、多个间隔导板、以及导气部。该基座具有相对的承载面和底面。该承载面用于承载待镀工件。自该承载面向基座内开设有多个凹槽。该驱动机构包括马达和多个转轴。该多个转轴分别设置在该多个凹槽内且可相对该多个凹槽转动,该马达用于驱动该多个转轴转动。该多个间隔导板沿凹槽设置并将该承载面分割形成多个间隔区域。其中,每一间隔导板与一转轴固定连接,每一间隔导板可在对应的转轴的带动下转动并与该基座的承载面成一夹角。该导气部设置在该基座的上方并具有多个导气口,该多个导气口与该多个间隔区域一一对应。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及溅镀技术,特别涉及一种用于承载待镀工件进行镀膜的镀膜装置
技术介绍
随着各种电子产品的飞速发展,消费者对电子产品的要求越来越高,例如电子产品外观色彩、电磁屏蔽功能、防氧化腐蚀功能等等。因此,一般要求对电子产品的零部件进行镀膜处理。例如,在电子产品的外壳表面镀一层电磁屏蔽膜,以避免被外壳包覆的电子元件受到外界的电磁干扰而影响其正常工作。因此,镀膜品质的好坏直接影响着电子产品各种性能的优劣。一般地,在镀膜过程中将电浆气体直接喷射在待镀工件表面进行镀膜。电浆气体中的电浆离子直接轰击在待镀工件表面,导致待镀工件表面温度升高较快并可能破坏待镀工件表面的薄膜,影响待镀工件镀膜的品质。并且,由于电浆离子的运动路径不规则,因此可能使得沉积形成在待镀工件表面的的镀膜不均勻,造成镀膜的性能下降。因此,有必要提供一种可有效控制电浆气体的运动路径,避免电浆离子直接轰击在待镀工件表面而造成待镀工件表面温度过高的问题,从而提升镀膜均勻性及镀膜品质的镀膜装置。
技术实现思路
下面将以具体实施例说明一种镀膜装置。一种镀膜装置,包括基座、驱动机构、多个间隔导板、以及导气部。该基座具有相对的承载面和底面。该承载面用于承载待镀工件。自该承载面向基座内开设有多个凹槽。该驱动机构包括马达和多个转轴。该多个转轴分别设置在该多个凹槽内且可相对该多个凹槽转动,该马达用于驱动该多个转轴转动。该多个间隔导板沿凹槽设置并将该承载面分割形成多个间隔区域。其中,每一间隔导板与一转轴固定,每一间隔导板可在对应的转轴的带动下转动并与该基座的承载面成一夹角。该导气部设置在该基座的上方并具有多个导气口, 该多个导气口与该多个间隔区域一一对应。相对于现有技术,本技术方案的镀膜装置利用多个间隔导板将基座的承载面分割形成多个间隔区域,并于基板上方设置具有与该多个间隔区域一一对应的多个导气口的导气部,然后利用驱动机构驱动多个间隔导板转动并与基座的承载面成一夹角,从而,该多个间隔导板可与该导气部共同控制电浆气体的运动路径,避免电浆离子直接轰击在待镀工件表面而造成待镀工件表面温度过高的问题,使得溅镀过程更加稳定,提高镀膜均勻性及镀膜品质。附图说明图1是本技术方案第一实施例提供的镀膜装置的示意图。图2是图1的镀膜装置处于第一状态时的剖视图。图3是图1的镀膜装置处于第二状态时的剖视图。图4是图1的镀膜装置处于第三状态时的剖视图。图5是本技术方案第二实施例提供的镀膜装置的示意图。图6是图5的镀膜装置的分解图。图7是图5的镀膜装置的剖视图。图8是本技术方案第三实施例提供的镀膜装置的示意图。主要元件符号说明镀膜装置100、2OO、3OO基座10、210、310驱动机构20、220间隔导板30、23O导气部40、M0、340承载面101、201底面102、202、302侧面103、203凹槽12.212冷却管道14、214间隔区域16、216马达22、222转轴24、224导气口42、242待镀工件150固定部211、311通孔205定位柱M4过渡段M41配合段2442圆槽304气紅3041收缩段3042活塞342活塞杆3421活塞环342具体实施例方式下面将结合附图和实施例对本技术方案的镀膜装置作进一步详细说明。请參阅图1-2,本技术方案第一实施例提供的镀膜装置100,包括基座10、驱动机 构20、多个间隔导板30、以及导气部40。该基座10用于承载待镀工件150。该驱动机构20 用于驱动该多个间隔导板30转动。该多个间隔导板30用于根据镀膜要求控制电菜气体的进入方向以对待镀工件150进行镀膜。该导气部40设置在该基座10的上方,该导气部40 用于引导电浆气体进入到该多个间隔导板30之间形成的空间内。该基座10具有相对的承载面101、底面102以及连接于该承载面101与底面102 之间的侧面103。该承载面101用于承载待镀工件150。自该承载面101向基座10内开设有多个凹槽12。该多个凹槽12垂直于该基座10的侧面103。本实施例中,该基座10为长方体。该多个凹槽12在该基座10上等间距分布。该多个凹槽12平行于侧面103的截面为圆弧。优选地,该圆弧的弧度大于180度。进一步地,该基座10内还可设置冷却管道14。该冷却管道14用于供冷却液体通过以对待镀工件150进行冷却,避免待镀工件150过热而影响镀膜品质。优选地,如图2所示,该冷却管道14埋设在相邻的两间隔导板30之间的承载面101的下方。该驱动机构20包括马达22和多个转轴M。该多个转轴M分别设置在该多个凹槽12内且可相对该多个凹槽12转动。该马达22用于驱动该多个转轴M转动。本实施例中,每一转轴M对应设有一个马达22,每一马达22用于驱动对应的一转轴M转动。该多个马达22设置在该基座10的侧面103的外侧。当然,若该多个转轴M仅需要向同一个方向转动,则可设置一个马达22与其中一个转轴M相连,并利用一联动杆(图未示)固定连接该多个转轴M。当该多个转轴M中相互间隔的一组转轴M需要向一个方向转动,而另一组转轴M需要向另一方向转动,则可设置两个马达22,其中一个马达22与其中一组转轴 M中的一个转轴M相连,并利用一联动杆(图未示)固定连接该组转轴M ;而另一个马达 22与另一组转轴M中的一个转轴M相连,并利用一联动杆(图未示)固定连接另一组转轴24。该多个间隔导板30将该承载面101分割形成多个间隔区域16。每一间隔导板30 平行于转轴M设置并与一转轴M固定连接。每一间隔导板30可在对应的转轴M的带动下转动并与该基座10的承载面101成一夹角。该多个间隔导板30用于根据不同的镀膜要求改变电浆气体的进入方向,从而避免电浆气体直接轰击待镀工件150造成温度提升过快以及破坏镀膜膜层的问题,提高镀膜膜层的均勻性;并且,还可通过控制进气量及进气速度获得设定的镀膜厚度并使得膜层的厚度较为均勻。具体地,在图2所示的状态中,该多个间隔导板30与该承载面101均垂直,待镀工件150可放置在相邻的两个间隔导板30之间进行镀膜。在图3所示的状态中,该多个间隔导板30均向相同的方向倾斜,待镀工件150可放置在相邻的两个间隔导板30之间进行镀膜。在图4所示的状态中,该多个间隔导板30中相邻的两个间隔导板30向相反的方向倾斜,待镀工件150可放置在呈“八”字形设置的两个相邻的间隔导板30之间进行镀膜,即该两个相邻的间隔导板30向靠近待镀工件150的方向倾斜以减少进气量。当然,待镀工件 150也可放置在呈倒“八”字形设置的两个相邻的间隔导板30之间进行镀膜,即该两个相邻的间隔导板30向远离待镀工件150的方向倾斜以增加进气量。该导气部40设置在基座10的上方并具有多个导气口 42。该多个导气口 42与该多个间隔区域16—一对应。该导气部40通过该多个导气口 42将电浆气体引入到对应的间隔区域16以对相应的待镀工件150进行镀膜。请参阅图5-7,本技术方案第二实施例提供的镀膜装置200与第一实施例提供的镀膜装置100大致相同,其不同之处在于,该基座210为圆柱体,该承载面201为圆形。该圆形承载面201的中心设置有一个固定部211。该固定部211为圆柱体。该固定部211的中心开设有一个贯穿至该基座210的底面202的通孔205。该多个凹槽2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜装置,包括:基座,其具有相对的承载面和底面,该承载面用于承载待镀工件,自该承载面向基座内开设有多个凹槽;驱动机构,其包括马达和多个转轴,该多个转轴分别设置在该多个凹槽内且可相对该多个凹槽转动,该马达用于驱动该多个转轴转动;多个沿凹槽设置的间隔导板,该多个间隔导板将该承载面分割形成多个间隔区域,其中,每一间隔导板与相应的一转轴固定连接,每一间隔导板可在对应的转轴的带动下转动并与该基座的承载面成一夹角;及导气部,其设置在该基座的上方并具有多个导气口,该多个导气口与该多个间隔区域一一对应。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:裴绍凯
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:94

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1