红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片及其电路制造技术

技术编号:6670643 阅读:282 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片,其由底层依次向上层叠有P电极(1)、P砷化镓外延层(2)、N砷化镓外延层(3)、N砷化镓衬底层(4)、N电极(6),该N电极(6)全部覆盖于N砷化镓衬底层(4)上而形成全电极结构。与现有类似的技术相比,可以省去较为复杂的半导体光刻工艺,提高了生产效率以及降低了生产成本。焊线时能充分与焊接导线连接(接触面积大),提升了焊线品质。芯片在20mA条件下的正向电压(VF)非常稳定,且波动较小,基本都在1.2~1.25V之间。可减少分选工序,而直接与LED芯片一起封装,大大降低成本。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种新型结构的红外η面全电极芯片,该结构芯片可作为分压二 极管并与四元红色芯片串联使用,以起到分压保护作用。
技术介绍
现阶段的LED全彩系(RGB)各类封装产品中,由于芯片自身的材料特征,在20mA 的条件下,红光芯片的正向电压(VF)通常比蓝、绿光芯片的正向电压要低1.2V左右。而此 三款芯片通常是并联恒压使用,为保证蓝、绿光芯片的正向电压的稳定,则红光芯片的正向 电压就会偏高,以致该款芯片可靠性下降。
技术实现思路
本技术为了克服上述现有技术中存在的问题,提出一种可作为分压二极管并 与四元红色芯片串联使用,以起到分压保护作用的红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片 及其电路。本技术提出的红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片,其由底层依次向上层 叠有P电极、P砷化镓外延层、N砷化镓外延层、N砷化镓衬底层、N电极,该N电极全部覆盖 于N砷化镓衬底层上而形成全电极结构。本技术还提出一种设有红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片的电路,其包 括由一红光芯片和一红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片串接而成的串联电路、与该串 联电路并联的绿光芯片或蓝光芯片。还可以是与该串联电路本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种红外GaAs基N面全电极分压二极管芯片,其特征在于,由底层依次向上层叠有P电极(1)、P砷化镓外延层(2)、N砷化镓外延层(3)、N砷化镓衬底层(4)、N电极(6),该N电极(6)全部覆盖于N砷化镓衬层(4)上而形成全电极结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴质朴何畏
申请(专利权)人:深圳市奥伦德光电有限公司
类型:实用新型
国别省市:94

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