经4-三氟甲基吡唑取代的吡啶和嘧啶类化合物制造技术

本发明专利技术描述了式（Ⅰ）的经４－三氟甲基吡唑基取代的吡啶和嘧啶类化合物以及将其用作除草剂。式（Ⅰ）中，Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］代表各种基团，Ａ为芳族和杂芳族基团，并且Ｚ为氮或碳原子。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及除草剂
，尤其是用于选择性控制有用作物中的阔叶和禾本科杂草的杂芳基吡唑类除草剂。从多种出版物中已知某些经唑基(如吡唑基、咪唑基和三唑基)取代的吡啶和嘧啶化合物具有除草性质。例如WO 99/28301公开了2位上具有唑基和6位上通过一个碳原子连有芳族或杂芳族基团的吡啶和嘧啶类化合物。WO 98/40379公开了2位具有唑基和6位通过一个氧、氮或硫的原子连有芳族或杂芳族基团的吡啶和嘧啶类化合物。2位上的唑基可由多种基团取代。这些出版物公开了多种适合吡唑基的取代基，均在3位上。EP-A 1 101 764公开了2位上经3-三氟甲基-1-吡唑基取代的除草的吡啶类化合物。然而已经在上述文献中公开的化合物不断显示出不足的除草活性。因此本专利技术的任务是提供一种具有比现有化合物改良的除草特性的除草有效的化合物。现已发现某些经4-三氟甲基吡唑取代的吡啶和嘧啶类化合物特别适用于除草剂。因此，本专利技术的主题是式(I)的化合物，其N-氧化物及其盐， 其中基团和符号如下定义Z为N或CR8；Y为Y1至Y7的基团 R1和R2分别独立地为氢、卤素、氰基、异氰基、OH、COOR10、COR10、CH2OH、CH2SH、CH2NH2、NO2、CSNH2、CONH2、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C3-C6)-环烷基、(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷氧基、(C1-C2)-烷氧基-(C1-C2)-烷基、(C2-C4)-烯基、(C2-C4)-炔基、(C3-C4)-烯氧基、(C3-C4)-炔氧基、(C1-C2)-烷硫基-(C1-C2)-烷基、S(O)nR9、(C1-C2)-烷基磺酰基-(C1-C2)-烷基、氨基、(C1-C4)-烷基氨基、(C1-C3)-烷基羰基氨基、(C1-C4)-烷基磺酰基氨基或二-(C1-C4)-烷基氨基；R3和R4分别独立地为氢、卤素、氰基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基或卤代-(C1-C4)-烷氧基；R5为卤素、氰基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷硫基、(C3-C5)-环烷基、卤代-(C3-C5)-环烷基、SF5、S(O)nR9、(C2-C4)-烯基或(C2-C4)-炔基；R6为氢、卤素、氰基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷氧基或S(O)nR9；R7为(C1-C4)-烷基；R8为氢、卤素、氰基、NO2、(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基、羟基、氨基、(C1-C4)-烷基氨基、(C1-C3)-烷基羰基氨基、(C1-C4)-烷基磺酰基氨基、二-(C1-C4)-烷基氨基或S(O)nR9；R9为氢、(C1-C4)-烷基或卤代-(C1-C4)-烷基；R10为氢或(C1-C4)-烷基；n为0，1或2。在式(I)和随后所有化学式中，烷基、烯基和炔基可以为具有多于两个或三个碳原子的直链或支链。烷基为甲基、乙基、正-或异-丙基、正-、异-、叔-或2-丁基。烯基相应地为乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基和各种丁烯基的异构体。炔基为乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基和各种丁炔基的异构体。复合定义中的术语，如烷氧基、烯氧基、炔氧基和烷硫基应类似地理解。因此例如炔氧基为HC≡CCH2O、CH3C≡CCH2O和CH3C≡CCH2CH2O。环烷基为环丙基、环丁基、环戊基或环己基。在经双重取代的氨基中，如二烷基氨基，这两个取代基可相同或不同。卤素为氟、氯、溴或碘。卤烷基为烷基部分或完全由卤素，优选由氟、氯和/或溴，尤其是由氟或氯取代的，例如CF3、CHF2、CH2F、CF3CF2、CH2FCHCl、CCl3、CHCl2、CH2CH2Cl；卤烷氧基为例如OCF3、OCHF2、OCH2F、CF3CF2O、OCH2CF3和OCH2CH2Cl；相应地适用于其它经卤素取代的基团。根据取代基的性质和连接方式，式(I)化合物可以以立体异构体存在。例如若有双键，则可产生非对映异构体。例如若有一个或多个不对称碳原子，则可产生对映异构体和非对映异构体。立体异构体可采用常规分离方法从制备产生的混合物中获得，例如采用色谱分离技术。同样的，立体异构体可利用立体选择性反应和光学活性初始物质和/或助剂选择性地加以制备。本专利技术还涉及式(I)所包括而无特别定义的所有的立体异构体及其混合物。式(I)化合物通常可生成N-氧化物的形式。N-氧化物可根据本领域技术人员熟知的方法采用将氧化试剂如过酸、过氧化氢和过硼酸钠反应制得。这类方法描述于例如T.L.Gilchrist，ComprehensiveOrganic Synthesis，第7卷，第748-750页，S.V.Ley，Ed.，PergamonPress中。式(I)化合物通常通过加入下列化合物形成盐a)酸，例如氯化氢、溴化氢、硝酸、磷酸、硫酸、乙酸、草酸或b)碱，例如吡啶、氨、三乙胺、碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾。本专利技术化合物优选的实施方式始终包括所述N-氧化物和盐，除非下面另有说明。尤其重要的是其中Y为Y1至Y6基团的式(I)化合物。已发现有利的式(I)化合物包括这样的化合物，其中R1和R2分别为氢、卤素、氰基、OH、CHO、乙烯基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、乙烯基或(C1-C4)-烷氧基，并且其它取代基和符号均如上所定义。同样优选的是其中R3和R4分别独立地为氢、卤素、甲基或甲氧基，并且其它取代基和符号均如上所定义的式(I)化合物。优选的式(I)化合物是其中R1为氢、卤素、氰基、CHO、甲氧基、甲基或乙基，并且R2为氢、OH、甲基、乙基、甲氧基或乙氧基，并且其它取代基和符号均如上所定义的化合物。同样优选的是其中R3和R4分别为氢或甲基，并且其它取代基和符号均如上所定义的式(I)化合物。尤其优选的是其中R8为氢、卤素或(C1-C4)-烷基，并且其它取代基和符号均如上所定义。同样尤其优选的是其中R5为卤素、氰基、卤代-(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷氧基或卤代-(C1-C4)-烷硫基，并且其它取代基和符号均如上所定义。另外尤其优选的是其中R6为氢，并且其它取代基和符号均如上所定义。下面所有式中的取代基和符号具有如式(I)所述的同样定义，除非另有说明。本专利技术的化合物例如可通过如下示意图所给出的反应路径加以制备根据图示1将其中E1为离去基团如卤素、甲基磺酰基或甲苯磺酰基的式(IIa)化合物在碱催化下与式(III)化合物反应。该反应是本领域技术人员已知的。图示1 其中E1为卤素的式(IIa)化合物例如可根据图示2在碱催化下将式(IV)化合物与式(V)的吡唑化合物反应制得。在该反应中，可形成局部异构体(regioisomers)(IIa)和(IIb)，它们可采用例如色谱精处理进行分离。该反应是本领域技术人员已知的。图示2 根据图示3，其中E1为甲基磺酰基的式(IIa)化合物可通过从式(IIc)化合物采用间-氯过苯甲酸(MCPA)或Oxone氧化反应制得。该反应是本领域技术人员已知的，例如通过J.March，AdvancedOrg本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式（Ⅰ）化合物，或其Ｎ－氧化物或其盐，＊＊＊（Ⅰ）其中基团和符号如下定义：Ｚ为Ｎ或ＣＲ↑［８］；Ｙ为Ｙ１至Ｙ７的基团：＊＊＊Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］分别独立地为氢、卤素、氰基、异氰基、Ｏ Ｈ、ＣＯＯＲ↑［１０］、ＣＯＲ↑［１０］、ＣＨ↓［２］ＯＨ、ＣＨ↓［２］ＳＨ、ＣＨ↓［２］ＮＨ↓［２］、ＮＯ↓［２］、ＣＳＮＨ↓［２］、ＣＯＮＨ↓［２］、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）－环烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）－烷氧基－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）－烷基、（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］）－烯基、（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］）－炔基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］）－烯氧基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］）－炔氧基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）－烷硫基－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）－烷基、Ｓ（Ｏ）↓［ｎ］Ｒ↑［９］、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）－烷基磺酰基－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）－烷基、氨基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基氨基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）－烷基羰基氨基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基磺酰基氨基或二－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基氨基；Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］分别独立地为氢、卤素、氰基、（Ｃ↓ ［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基或卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基；Ｒ↑［５］为卤素、氰基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４ ］）－烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷硫基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［５］）－环烷基、卤代－（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［５］）－环烷基、ＳＦ↓［５］、Ｓ（Ｏ）↓［ｎ］Ｒ↑［９］、（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］）－烯基或（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］）－炔基；Ｒ↑［６］为氢、卤素、氰基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、卤代－（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基、卤代－（Ｃ↓［ １］－Ｃ↓［４］）－烷氧基或Ｓ（Ｏ）↓［ｎ］Ｒ↑［９］；Ｒ↑［７］为（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷基；Ｒ↑［８］为氢、卤素、氰...

【技术特征摘要】
DE 2002-7-25 102 34 876.61.一种式(I)化合物，或其N-氧化物或其盐， 其中基团和符号如下定义Z为N或CR8；Y为Y1至Y7的基团 R1和R2分别独立地为氢、卤素、氰基、异氰基、OH、COOR10、COR10、CH2OH、CH2SH、CH2NH2、NO2、CSNH2、CONH2、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C3-C6)-环烷基、(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷氧基、(C1-C2)-烷氧基-(C1-C2)-烷基、(C2-C4)-烯基、(C2-C4)-炔基、(C3-C4)-烯氧基、(C3-C4)-炔氧基、(C1-C2)-烷硫基-(C1-C2)-烷基、S(O)nR9、(C1-C2)-烷基磺酰基-(C1-C2)-烷基、氨基、(C1-C4)-烷基氨基、(C1-C3)-烷基羰基氨基、(C1-C4)-烷基磺酰基氨基或二-(C1-C4)-烷基氨基；R3和R4分别独立地为氢、卤素、氰基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基或卤代-(C1-C4)-烷氧基；R5为卤素、氰基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷硫基、(C3-C5)-环烷基、卤代-(C3-C5)-环烷基、SF5、S(O)nR9、(C2-C4)-烯基或(C2-C4)-炔基；R6为氢、卤素、氰基、(C1-C4)-烷基、卤代-(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基、卤代-(C1-C4)-烷氧基或S(O)nR9；R7为(C1-C4)-烷基；R8为氢、卤素、氰基、NO2、(C1-C4)-烷基、(C1-C4)-烷氧基、羟基、氨基、(C1-C4)-烷基氨基、(C1-C3)-烷基羰基氨基、(C1-C4)-烷基...

【专利技术属性】
技术研发人员：MG霍夫曼，H哈姆克，L威尔姆斯，T奥乐，H比尔林格，H曼尼，
申请(专利权)人：拜尔作物科学有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]