【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
光学薄膜基本上是通过干涉作用而达到其效果，是指在光学组件上或独立基材上镀上一层或多层介电质膜或金属膜或介电质膜膜堆或金属膜膜堆来改变光波传递特性。而目前很多光学仪器，如传感器、半导体雷射、干涉仪、近视眼镜、太阳眼镜、光纤通讯等都需光学薄膜。 目前，光学薄膜制作以物理蒸镀法为主(physics vapor d印osition，简称PVD)，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或离子态，气态或离子态材料，由蒸发源穿越空间，抵达玻璃表面，材料抵达玻璃表面后，将沉积而逐渐形成薄膜。通常，为使制作的薄膜拥有高纯度，镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜，一般做法为将基片以超音波洗净机洗净，洗净后排上夹具，送入镀膜机，开始加热和抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪方式或电阻式对蒸镀源加热，将镀膜材料变成离子态，蒸镀时间则视层数和程序不同而有长短。镀膜完毕后，待温度冷却后取出。 然而，在对遮光元件进行镀膜的过程中，都是通过金属膜堆叠达到遮光效果的，当需要得到不同光学参数的遮光膜层时，就要不断改变靶材和相关参数，使得镀膜过程...
【技术保护点】
一种遮光元件的镀膜方法，其包括以下步骤： 提供一镀膜机、一金属钯材、一试验基材及一待镀膜基材； 将金属钯材及试验基材放入镀膜机的真空腔后，调整镀膜机的电子束的功率及镀膜机气体源的气体释放量，使电子束轰击产生的金属钯材离子与所释放的气体完全反应； 取出试验基材，并将待镀膜基材放入真空腔，通过调整电子束的功率或气体源的气体释放量之一，在所述待镀膜基材上形成一层膜层，且从靠近待镀膜基材一侧到远离待镀膜基材一侧，所述膜层中金属钯材单质的沉积浓度逐渐增加，而金属钯材反应物的沉积浓度逐渐减小； 当膜层的电阻值保持不变后，镀膜完成。
【技术特征摘要】
一种遮光元件的镀膜方法，其包括以下步骤提供一镀膜机、一金属钯材、一试验基材及一待镀膜基材；将金属钯材及试验基材放入镀膜机的真空腔后，调整镀膜机的电子束的功率及镀膜机气体源的气体释放量，使电子束轰击产生的金属钯材离子与所释放的气体完全反应；取出试验基材，并将待镀膜基材放入真空腔，通过调整电子束的功率或气体源的气体释放量之一，在所述待镀膜基材上形成一层膜层，且从靠近待镀膜基材一侧到远离待镀膜基材一侧，所述膜层中金属钯材单质的沉积浓度逐渐增加，而金属钯材反应物的沉积浓度逐渐减小；当膜层的电阻值保持不变后，镀膜完成。2. 如权利要求1所述的遮光元件的镀膜方法，其特征在于在对试验基材进行镀膜过 程中，当设定的气体源的气体每秒的释放量小于每秒蒸发的金属钯材离子完全反应所需要 的气体量时，逐渐调整气体源的气体释放量至使金属钯材离子完全反应的一临界释放量。3. 如权利要求1所述的遮光元件的镀膜方法，其特征在于在对试验基材进行镀膜过 程中当设定的气体源的气体每秒的释放量大于每秒蒸发的金属钯材离子完全反应所需要 的气体量时，逐渐调整电子束功率至使所释放的气体能完全反应的一第二功率。4. 如权利要求2或3所述的遮光元件的镀膜方法，其特征在于在对待镀膜基材镀膜 过程中，使气体源以预设释放量释放气体，且所述预设释放量等于临界释放量，提高电子束 功率至一第三功率，且第三功率大于第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪新钦，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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