【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种图像分析技术,特别是一种统计图像中粒子数量的粒子统计方法及装置
技术介绍
在工业自动化光学检测领域,统计图像中粒子数量是很常见的应用,例如,与液晶产品制造有关的一种电路技术ACF(Anisotropic Conductive Film,各向异性导电薄膜)就需要根据电路中导电粒子的数量来判断产品是否质量合格。 一般而言,统计图像中目标数目的处理算法是比较耗时的,因为不知道粒子的半径或者长宽,而图像中粒子又通常会粘连在一起,计算机很难识别哪个才是单个粒子,也就很难得到粒子的半径或者长宽值,为此,目前的统计方法都需要经过复杂度较高的区域标记等处理过程,不仅处理时间长,而且容易受到噪声的干扰影响统计精度。
技术实现思路
鉴于此,有必要提供一种快速且准确的粒子统计方法。 还有必要提供一种快速且准确的粒子统计装置。 一种粒子统计方法,包括如下步骤 获取粒子图像; 至少进行一次粒子图像的缩/放处理; 计算缩/放前后至少两幅粒子图像中粒子的总面积; 根据所述至少两个粒子总面积以及对应的粒子图像缩/放量计算出粒子图像中粒子的数量 ...
【技术保护点】
一种粒子统计方法,包括如下步骤: 获取粒子图像; 至少进行一次粒子图像的缩/放处理; 计算缩/放前后至少两幅粒子图像中粒子的总面积; 根据所述至少两个粒子总面积以及对应的粒子图像缩/放量计算出粒子图像中粒子的数量,以 判断被拍摄物质中粒子含量是否满足要求。
【技术特征摘要】
权利要求1一种粒子统计方法,包括如下步骤获取粒子图像;至少进行一次粒子图像的缩/放处理;计算缩/放前后至少两幅粒子图像中粒子的总面积;根据所述至少两个粒子总面积以及对应的粒子图像缩/放量计算出粒子图像中粒子的数量,以判断被拍摄物质中粒子含量是否满足要求。权利要求2如权利要求1所述的粒子统计方法,其特征在于所述粒子的数量的计算是根据所述至少两个面积与粒子数量和粒子半径或边长的关系式求得。权利要求3如权利要求1所述的粒子统计方法,其特征在于若,缩/放前粒子的总面积等于S0;缩/放后粒子的总面积等于S1;缩/放量为N,粒子的数量为M,则或其中k为形状系数,圆形粒子的形状系数k=4/π;正方形粒子的形状系数k=1;长方形粒子的形状系数k等于其长宽比。权利要求4如权利要求1所述的粒子统计方法,其特征在于若,缩/放前粒子的总面积等于S0;放大后粒子的总面积等于S1;缩小后粒子的总面积等于S2;缩/放量均为N,粒子的数量为M,则其中k为形状系数圆形粒子的形状系数k=4/π,正方形粒子的形状系数k=1,长方形粒子的形状系数k等于其长宽比。权利要求5如权利要求1所述的粒子统计方法,其特征在于获取粒子图像后还包括将粒子图像作二值化处理的步骤。权利要求6一种粒子统计装置,包括图像获取...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐佩忠,
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司,鸿海精密工业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]
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