光刻机的双工件台系统技术方案

本发明专利技术提出一种光刻机的双工件台系统，包括X向导向表面和Y向导向表面；第一硅片台和第二硅片台，其各自沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置：移动系统，包括第一移动单元和第二移动单元，第一硅片台和第二硅片台各自藕接至第一移动单元和第二移动单元，当第一移动单元带动第一硅片台依次沿一X向导向表面的正向、一Y向导向表面的正向以及另一X向导向表面的负向移动时，第二移动单元带动第二硅片台依次沿另一X向导向表面的负向、另一Y向的导向表面的负向以及前述X向导向表面的正向移动，使第一硅片台和第二硅片台交换位置。该双工件台系统使得该第一移动单元、第二移动单元与第一硅片台和第二硅片台同时移动，不会产生如现有技术中因两个硅片台滞留在一交换位置进行切换而消耗相当的时间，影响产率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻机，且特别涉及一种具有光刻机中的双工件台系统。
技术介绍
在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印 (光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备为光刻机(曝光机)。光刻机的分辨率和曝光效率，又在很大程度上决定了光刻机的分辨率和曝光效率。步进扫描投影光刻机基本原理如图1所示。来自光源10的深紫外光透过掩膜版 20、透镜系统30将掩膜版上的一部分图形成像在硅片40的某个芯片上。掩膜版和硅片反向按一定的速度比例作同步运动，最终将掩膜版上的全部图形成像在硅片的特定芯片上。硅片台运动定位系统的基本作用就是在曝光过程中承载着硅片并按设定的速度和方向运动，以实现掩膜版图形向硅片上各区域的精确转移。由于芯片的线宽非常小(目前最小线宽已经达到45nm)，为保证光刻的套刻精度和分辨率，就要求硅片台具有极高的运动定位精度。同时，由于硅片台的运动速度在很大程度上影响着光刻的生产率，从提高生产率的角度，又要求硅片台的运动速度不断提高。硅片台需要在稳定度和速度之间达到平衡。传统的硅片台，如专利EP0729073和专利US5996437所描述的，光刻机中只有一个硅片运动定位单元，即一个硅片台。调平调焦等准备工作都要在硅片台上完成，这些工作所需的时间很长。特别是对准工作，由于要求进行精度极高的低速扫描(典型的对准扫描速度为lmm/s)，因此所需时间很长，这样的情形下，要减少光刻机的工作时间非常困难。为了提高光刻机的生产效率，就必须不断提高硅片台的步进和曝光扫描的运动速度。而速度的提高将不可避免导致系统动态性能的恶化，需要采取大量的技术措施保障和提高硅片台的运动精度。因此，为保持现有精度或达到更高精度的同时提高速度，付出的成本大大提高。专利W098/40791所描述的结构采用双硅片台结构该专利公开说明书的第三图所示，在第一个硅片台21进行曝光时，将上下片、预对准、对准等曝光准备工作在第二个硅片台23上进行。且两个硅片台同时独立运动，在不提高硅片台运动速度的前提下，曝光硅片台大量的准备工作由第二个硅片台分担，从而大大缩短了每片硅片在曝光光程上的停留时间。然而该双台专利方案在实现光刻工序时，两个硅片台21、23需要停留在如图所示的交换位置上，以进行硅片台21、23连接到另一个移动装置上，进行切换操作，将做好准备工作的硅片台转移至曝光光程中，以进行曝光工序。而上述切换操作与光刻工序无关，其产生了相当多的时间消耗，影响产率。
技术实现思路
本专利技术提出一种光刻机中的双工件台系统，能够解决上述问题，提高光刻机的产率。为了达到目的，本专利技术提出一种光刻机的双工件台系统，包括导向表面，其包括一对平行设置的X向导向表面以及一对平行设置的Y向导向表面；第一硅片台和第二硅片台， 其各自沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置移动系统，设置成使第一硅片台和第二硅片台沿该X向导向表面和Y向导向表面移动。其中，该移动系统包括第一移动单元和第二移动单元，第一硅片台和第二硅片台各自藕接至第一移动单元和第二移动单元，当第一移动单元带动第一硅片台依次沿一 X向导向表面的正向、一 Y向导向表面的正向以及另一 X向导向表面的负向移动时，第二移动单元带动第二硅片台依次沿另一 X向导向表面的负向、另一 Y向的导向表面的负向以及前述X向导向表面的正向移动，使第一硅片台和第二硅片台交换位置，其中第一移动单元和第二移动单元相互避让不会触碰。与现有技术相比，本专利技术所提供的双工件台系统使得该第一移动单元、第二移动单元与第一硅片台和第二硅片台同时移动，不会产生如现有技术中因两个硅片台滞留在一交换位置进行切换而消耗相当的时间，影响产率。附图说明图1所示为已知的步进扫描投影光刻机结构示意图；图2所示为本专利技术较佳实施例的光刻装置中的双工件台系统结构示意图；图3所示为交换图2中的两个硅片台位置之后的双工件台系统的结构示意图；图如 4d所示为双工件台系统中两个硅片台交换位置示意图。具体实施例方式为了更了解本专利技术的
技术实现思路
，特举具体实施例并配合所附图式说明如下。图2-3所示为本专利技术较佳实施例的光刻装置中的双工件台系统结构示意图。双工件台系统包括四个导向表面，其中包括一对平行设置的X向导向表面1、2以及一对平行设置的Y向导向表面3、4 ；第一硅片台7和第二硅片台8，其各自沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置；移动系统，设置成使第一硅片台7和第二硅片台8沿该X向导向表面 1、2和Y向导向表面3、4移动，其中，该移动系统包括第一移动单元和第二移动单元，第一硅片台7和第二硅片台8各自藕接至第一移动单元和第二移动单元，当第一移动单元带动第一硅片台7依次沿一X向导向表面1的正向、一Y向导向表面4的正向以及另一X向导向表面2的负向移动时，第二移动单元带动第二硅片台8依次沿该另一 X向导向表面2的负向、另一 Y向导向表面3的负向以及前述X向导向表面1的正向移动，使第一硅片台7和第二硅片台8交换位置，其中第一移动单元和第二移动单元相互避让不会触碰。并且，第一硅片台7和第二硅片台8可各自沿第一移动单元和第二移动单元移动。在本实施例中，第一移动单元和第二移动单元各自为第一 Y向导轨5和第二 Y向导轨6，第一硅片台7和第二硅片台8各自藕接至第一 Y向导轨5和第二 Y向导轨6相对的侧边11、12。第一 Y向导轨5的另一侧边，即未藕接第一硅片台7的一侧边，供藕接该另一 Y向导向表面3并沿其移动，该第一 Y向导轨5的两端各设有供对接任一个X向导向表面1、2的第一对接头9、13 ；而第二 Y向导轨6的另一侧边，即未藕接第二硅片台8的一侧边，供藕接任该Y向导向表面4并沿其移动，该第二 Y向导轨6的两端各设有供对接任一个 X向导向表面1、2的第二对接头10、14。如图2至图3，在图2初始工作状态时，即在第一硅片台与第二硅片台交换位置前， 分别位于预处理工位区域I和曝光工位区域II的Y向导轨5、6各自由其一端的对接头9、 10藕接X向导向表面1、2，并受驱动装置(未图示)驱动下，进入如图的交换过程， 位于预处理工位区域I的第一Y向导轨5先沿X向导向表面1的正向移动，直到其未藕接硅片台的一侧边藕接至Y向导向表面4并沿其正向移动，直到第一 Y向导轨5的另一端的对接头13藕接另一 X向导向表面2，并使第一 Y向导轨5沿该另一 X向导向表面2的负向移动至曝光工位区域II，在第一 Y向导轨5移动的过程中，第一 Y向导轨5上的第一硅片台 7自身可沿第一 Y向导轨5移动并可移动至曝光工位，具有局部微调位置的功能；而位于曝光工位区域II的第二 Y向导轨6则与位于预处理工位区域I的第一 Y向导轨5同时但相反方向运动，即位于曝光工位区域II的第二 Y向导轨6先沿该另一 X向导向表面2的负向移动，直到其未藕接硅片台的一侧边藕接至另一 Y向导向表面3并其负向移动，直到第二 Y 向导轨6的另一端的对接头14藕接至前述X向导向表面1，使第二 Y向导轨6沿前述X向导向表面1的负向移动至预处理工位区域，在第二 Y向导轨6移动过程中，第二 Y向导轨6 上的第二硅片台8自身可沿第二 Y向导轨6移动并移动至预处理工位，这样，该交换系统中 Y向导轨5、6、与第一硅片台7和第二硅片台8同时移动，不会产生如现有本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种光刻机的双工件台系统，其特征在于，包括：导向表面，包括一对平行设置的Ｘ向导向表面以及一对平行设置的Ｙ向导向表面：第一硅片台和第二硅片台，其各自沿平行于Ｘ向和Ｙ向从第一位置移动到第二位置：移动系统，设置成使第一硅片台和第二硅片台沿该Ｘ向导向表面和Ｙ向导向表面移动，其中，该移动系统包括：第一移动单元和第二移动单元，第一硅片台和第二硅片台各自藕接至第一移动单元和第二移动单元，当第一移动单元带动第一硅片台依次沿一Ｘ向导向表面（１）的正向、一Ｙ向导向表面（４）的正向以及另一Ｘ向导向表面（２）的负向移动时，第二移动单元带动第二硅片台依次沿另一Ｘ向导向表面（２）的负向、另一Ｙ向的导向表面（３）的负向以及前述Ｘ向导向表面（１）的正向移动，使第一硅片台和第二硅片台交换位置，其中第一移动单元和第二移动单元相互避让不会触碰。

【技术特征摘要】
1.一种光刻机的双工件台系统，其特征在于，包括导向表面，包括一对平行设置的X向导向表面以及一对平行设置的Y向导向表面第一硅片台和第二硅片台，其各自沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置移动系统，设置成使第一硅片台和第二硅片台沿该X向导向表面和Y向导向表面移动， 其中，该移动系统包括第一移动单元和第二移动单元，第一硅片台和第二硅片台各自藕接至第一移动单元和第二移动单元，当第一移动单元带动第一硅片台依次沿一X向导向表面(1)的正向、一 Y向导向表面的正向以及另一 X向导向表面O)的负向移动时，第二移动单元带动第二硅片台依次沿另一 X向导向表面O)的负向、另一 Y向的导向表面(3)的负向以及前述X向导向表面(1)的正向移动，使第一硅片台和第二硅片台交换位置，其中第一移动单元和第二移动单元相互避让不会触碰。2.如权利要求1所述的光刻机的双工件台系统，其特征在于该光刻机的双工件台系统具有预处理工位区域和曝光工位区域，在第一硅片台与第二硅片台交换位置前，第一硅片台和第一移动单元位于预处理工位区域，第二硅片台和第二移动单元位于曝光工位区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑乐平，顾鲜红，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31