工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置及联调方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置及联调方法，该联调装置用于在线检测调整光刻机中工件台干涉仪和掩模台干涉仪，包括多面反射镜检测工装、分光棱镜组工装和多面反射镜反射工装；所述多面反射镜检测工装用于调整工件台干涉仪，以锁定所述工件台干涉仪的位置；所述分光棱镜组工装用于调整多面反射镜反射工装，以锁定所述多面反射镜反射工装相对所述分光棱镜组工装的位置；所述分光棱镜组工装联合所述多面反射镜反射工装检测所述掩模台干涉仪的出射光束与所述工件台干涉仪的出射光束的平行度，以锁定所述掩模台干涉仪的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻机干涉测量系统，尤其涉及一种。
技术介绍
在光刻机中，工件台和掩模台各自采用一套干涉测量系统进行测量。若工件台干涉仪的出射光束与掩模台干涉仪的出射光束不平行，则会降低工件台和掩模台的对准程度，从而影响光刻机的性能。因此，在安装工件台干涉仪和掩模台干涉仪时，需要保证工件台干涉仪的出射光束与掩模台干涉仪的出射光束平行。如图1所示，在光刻机中，工件台干涉仪13通过工件台测量支架12连接在主基板 11的下方，而掩模台干涉仪15通过掩模台测量支架14连接在主基板11的上方。为保证光刻机的性能，安装工件台干涉仪13和掩模台干涉仪15时，要确保工件台干涉仪13射出的水平光束131与掩模台干涉仪15射出的水平光束151平行，但是，工件台干涉仪13和掩模台干涉仪15之间的间距较大，通常大于1000mm，无法将工件台干涉仪13射出的水平光束 131和掩模台干涉仪15射出的水平光束151同时导入测角仪器，因此，无法在线检测和调整工件台干涉仪13射出的水平光束131与掩模台干涉仪15射出的水平光束151的平行度。另外，光刻机结构复杂，空间布局紧凑，采用长光程测量法直接检测工件台干涉仪 13射出的水平光束131与掩模台干涉仪15射出的水平光束151的平行度将受到空间因素的限制，在实际中很难操作。在光刻机投入使用后，每隔一段时间需要重新检测和校准工件台干涉仪射出的水平光束与掩模台干涉仪射出的水平光束的平行度，而安装好的光刻机可供检测装置使用的空间更加有限，另外，还要求检测和校准方案不能影响到光刻机的正常使用。针对上述问题，需要设计一种占用空间小、易装卸的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置以及操作简单的联合调整方法，以满足安装工件台仪和掩模台干涉仪时以及后期检测维护时在线检测和调整的需要。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，该装置由体积小、装卸方便的光学器件组装成，使得该装置占用空间小，该方法操作简单，可实现在线检测调整工件台干涉仪和掩模台干涉仪。为了达到上述的目的，本专利技术提供一种工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，用于在线检测调整光刻机中工件台干涉仪和掩模台干涉仪，包括多面反射镜检测工装、 分光棱镜组工装和多面反射镜反射工装；所述多面反射镜检测工装用于调整所述工件台干涉仪，以锁定所述工件台干涉仪的位置；所述分光棱镜组工装用于调整所述多面反射镜反射工装，以锁定所述多面反射镜反射工装的位置；所述分光棱镜组工装联合所述多面反射镜反射工装检测所述掩模台干涉仪的出射光束与所述工件台干涉仪的出射光束的平行度，以锁定所述掩模台干涉仪的位置。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，所述多面反射镜检测工装包括多面反射镜、六维调整座、工装底座、分光棱镜、分光棱镜支架和光电探测器；所述六维调整座设置在所述工装底座内；所述多面反射镜设置在所述六维调整座上，所述六维调整座用于调整所述多面反射镜的位置；所述分光棱镜支架设置在所述工装底座的外侧壁上； 所述分光棱镜和光电探测器相对设置在所述分光棱镜支架上；入射到所述分光棱镜的光束一部分被所述分光棱镜反射，其余的则透过所述分光棱镜，经所述分光棱镜反射的光束射入所述光电探测器，经所述分光棱镜透射的光束射到所述多面反射镜的侧壁上，并经所述多面反射镜的侧壁反射后回射到所述分光棱镜上，再经所述分光棱镜多次反射后射入所述光电探测器。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，其特征在于，所述分光棱镜的中央设有半透明半反射膜，所述分光棱镜的上表面镀有全反射膜。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，所述分光棱镜组工装包括第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一分光棱镜支架、第二分光棱镜支架和光电探测器；所述第二分光棱镜支架设置在所述第一分光棱镜支架上；所述第一分光棱镜和所述第二分光棱镜设置在所述第二分光棱镜支架上；所述光电探测器设置在所述第一分光棱镜支架的下表面上；入射到所述第一分光棱镜的光束一部分被所述第一分光棱镜反射，其余的则透过所述第一分光棱镜，经所述第一分光棱镜反射的光束射入所述光电探测器，经所述第一分光棱镜透射的光束射入所述第二分光棱镜，射入所述第二分光棱镜的光束经所述第二分光棱镜多次反射后射出。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，所述第一分光棱镜的中央设有半透明半反射膜，所述分光棱镜的上表面镀有全反射膜。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，所述光电探测器采用电荷耦合器件。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，所述多面反射镜反射工装包括工装支架、六维调整座、多面反射镜、电子水平仪、分光棱镜和分光棱镜支架；所述六维调整座设置在所述工装支架的上表面；所述多面反射镜设置在所述六维调整座的上表面， 所述六维调整座用于调整所述多面反射镜的位置；所述电子水平仪设置在所述多面反射镜的上表面；所述分光棱镜支架设置在所述多面反射镜的侧壁上；所述分光棱镜设置在所述分光棱镜支架上；入射到所述分光棱镜的光束透过所述分光棱镜，经所述分光棱镜透射的光束入射到所述多面反射镜的侧壁上，并经所述多面反射镜的侧壁反射后回射到所述分光棱镜上，回射到所述分光棱镜上的光再经所述分光棱镜反射后射出。上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其中，所述分光棱镜的中央设有半透明半反射膜。本专利技术的另一技术方案是，一种使用上述工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置联合调整所述工件台干涉仪和所述掩模台干涉仪的方法，包括以下步骤步骤1，将多面反射镜检测工装安装到光刻机的主基板的底部，调整该多面反射镜检测工装以锁定工件台干涉仪的位置，锁定好所述工件台干涉仪的位置后卸下该多面反射镜检测工装；步骤2，先将分光棱镜组工装安装到所述主基板的底部，再将多面反射镜反射工装安装到所述主基板的上表面，调整该多面反射镜反射工装以锁定所述多面反射镜反射工装的位置；步骤3，调整掩模台干涉仪以该锁定掩模台干涉仪的位置，锁定好所述锁定掩模台干涉仪的位置后， 卸下所述分光棱镜组工装和所述多面反射镜反射工装。上述联合调整所述工件台干涉仪和所述掩模台干涉仪的方法，其中，所述多面反射镜检测工装包括多面反射镜、六维调整座、工装底座、分光棱镜、分光棱镜支架和光电探测器；所述六维调整座设置在所述工装底座内；所述多面反射镜设置在所述六维调整座上；所述分光棱镜支架设置在所述工装底座的外侧壁上；所述分光棱镜和光电探测器相对设置在所述分光棱镜支架上；入射到所述分光棱镜的光束一部分被所述分光棱镜反射，其余的则透过所述分光棱镜，经所述分光棱镜反射的光束射入所述光电探测器，经所述分光棱镜透射的光束射到所述多面反射镜的侧壁上，并经所述多面反射镜的侧壁反射后回射到所述分光棱镜上，再经所述分光棱镜多次反射后射入所述光电探测器。上述联合调整所述工件台干涉仪和所述掩模台干涉仪的方法，其中，所述步骤1 具体包括以下步骤步骤1.1，将所述多面反射镜检测工装安装到所述主基板的底部，调节所述六维调整座，使所述多面反射镜的上表面位于光刻机调平调焦系统的焦平面内锁定所述六维调整座的位置；步骤1. 2，调整所述工件台干涉仪，使所述光电探测器检测到的两个光斑重叠，锁定所述工件台干涉仪的位置；步骤1. 3，卸下所述多面反射镜检测工装。上述联合调整所述工件台干涉仪和所述掩模本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，用于在线检测调整光刻机中工件台干涉仪和掩模台干涉仪，其特征在于，包括多面反射镜检测工装、分光棱镜组工装和多面反射镜反射工装；所述多面反射镜检测工装用于调整所述工件台干涉仪，以锁定所述工件台干涉仪的位置；所述分光棱镜组工装用于调整所述多面反射镜反射工装，以锁定所述多面反射镜反射工装的位置；所述分光棱镜组工装联合所述多面反射镜反射工装检测所述掩模台干涉仪的出射光束与所述工件台干涉仪的出射光束的平行度，以锁定所述掩模台干涉仪的位置。

【技术特征摘要】
1.一种工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，用于在线检测调整光刻机中工件台干涉仪和掩模台干涉仪，其特征在于，包括多面反射镜检测工装、分光棱镜组工装和多面反射镜反射工装；所述多面反射镜检测工装用于调整所述工件台干涉仪，以锁定所述工件台干涉仪的位置；所述分光棱镜组工装用于调整所述多面反射镜反射工装，以锁定所述多面反射镜反射工装的位置；所述分光棱镜组工装联合所述多面反射镜反射工装检测所述掩模台干涉仪的出射光束与所述工件台干涉仪的出射光束的平行度，以锁定所述掩模台干涉仪的位置。2.如权利要求1所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述多面反射镜检测工装包括多面反射镜、六维调整座、工装底座、分光棱镜、分光棱镜支架和光电探测器；所述六维调整座设置在所述工装底座内；所述多面反射镜设置在所述六维调整座上，所述六维调整座上用于调整所述多面反射镜的位置；所述分光棱镜支架设置在所述工装底座的外侧壁上；所述分光棱镜和光电探测器相对设置在所述分光棱镜支架上；入射到所述分光棱镜的光束一部分被所述分光棱镜反射，其余的则透过所述分光棱镜，经所述分光棱镜反射的光束射入所述光电探测器，经所述分光棱镜透射的光束射到所述多面反射镜的侧壁上，并经所述多面反射镜的侧壁反射后回射到所述分光棱镜上，再经所述分光棱镜多次反射后射入所述光电探测器。3.如权利要求2所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述分光棱镜的中央设有半透明半反射膜，所述分光棱镜的上表面镀有全反射膜。4.如权利要求1所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述分光棱镜组工装包括第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一分光棱镜支架、第二分光棱镜支架和光电探测器；所述第二分光棱镜支架设置在所述第一分光棱镜支架上；所述第一分光棱镜和所述第二分光棱镜设置在所述第二分光棱镜支架上；所述光电探测器设置在所述第一分光棱镜支架的下表面上；入射到所述第一分光棱镜的光束一部分被所述第一分光棱镜反射，其余的则透过所述第一分光棱镜，经所述第一分光棱镜反射的光束射入所述光电探测器，经所述第一分光棱镜透射的光束射入所述第二分光棱镜，射入所述第二分光棱镜的光束经所述第二分光棱镜多次反射后射出。5.如权利要求4所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述第一分光棱镜的中央设有半透明半反射膜，所述分光棱镜的上表面镀有全反射膜。6.如权利要求2或4所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述光电探测器采用电荷耦合器件。7.如权利要求1所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述多面反射镜反射工装包括工装支架、六维调整座、多面反射镜、电子水平仪、分光棱镜和分光棱镜支架；所述六维调整座设置在所述工装支架的上表面；所述多面反射镜设置在所述六维调整座的上表面，所述六维调整座用于调整所述多面反射镜的位置；所述电子水平仪设置在所述多面反射镜的上表面； 所述分光棱镜支架设置在所述多面反射镜的侧壁上； 所述分光棱镜设置在所述分光棱镜支架上；入射到所述分光棱镜的光束透过所述分光棱镜，经所述分光棱镜透射的光束入射到所述多面反射镜的侧壁上，并经所述多面反射镜的侧壁反射后回射到所述分光棱镜上，回射到所述分光棱镜上的光再经所述分光棱镜反射后射出。8.如权利要求7所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置，其特征在于，所述分光棱镜的中央设有半透明半反射膜。9.一种使用如权利要求1所述的工件台干涉仪和掩模台干涉仪的联调装置联合调整所述工件台干涉仪和所述掩模台干涉仪的方法，其特征在于，包括以下步骤步骤1，将多面反射镜检测工装安装到光刻机的主基板的底部，调整该多面反射镜检测工装以锁定工件台干涉仪的位置，锁定好所述工件台干涉仪的位置后卸下该多面反射镜检测工装；步骤2，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜福君，张志平，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31