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光刻机的双工件台系统技术方案
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文档序号:6533872
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本发明提出一种光刻机的双工件台系统,包括X向导向表面和Y向导向表面;第一硅片台和第二硅片台,其各自沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置:移动系统,包括第一移动单元和第二移动单元,第一硅片台和第二硅片台各自藕接至第一移动单元和第二移动单...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。
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