承载装置及使用承载装置的镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:6441273 阅读:236 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种承载装置,用于固定铁磁性物件。所述承载装置包括支撑柱、设于支撑柱上的承载柱以及与承载柱活动连接的磁性吸附元件。所述吸附元件用于吸附所述铁磁性物件,以固定所述铁磁性物件。所述吸附元件可相对于所述承载柱移动,以调节铁磁性物件相对于所述承载柱的距离。上述承载装置通过设置磁性的吸附元件,从而便于固定及取下铁磁性物件。而且,通过使吸附元件与承载柱活动连接,从而可以调节铁磁性物件与承载柱之间的距离。本发明专利技术还提供一种使用承载装置的镀膜装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种承载装置及使用承载装置的镀膜装置
技术介绍
目前,一些铁磁性金属制品上需要以溅镀的方式镀上保护膜。现有的镀膜机台通 常采用挂钩来固定待镀膜的金属制品,使得在固定以及取下金属制品时,都显得有些不便。 另外,采用挂钩固定待镀膜的金属制品,不易调节金属制品与靶材之间的距离,从而需要设 计不同规格的挂钩,既增加了成本,也使得生产制程更为复杂。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供一种便于固定与取下被承载物品的承载装置。还有必要提供一种具有便于固定与取下被承载物品的承载装置的镀膜装置。一种承载装置,用于固定铁磁性物件。所述承载装置包括支撑柱、设于支撑柱上的 承载柱以及与承载柱活动连接的磁性吸附元件。所述吸附元件用于吸附所述铁磁性物件, 以固定所述铁磁性物件。所述吸附元件可相对于所述承载柱移动,以调节铁磁性物件相对 于所述承载柱的距离。一种镀膜装置,其包括真空室及位于真空室内的镀膜机台。所述镀膜机台包括用 于承载靶材的靶材承载装置及用于承载铁磁性基材的基材承载装置,所述基材承载装置与 靶材承载装置相对设置。所述基材承载装置包括支撑柱、设于支撑柱上的承载柱以及与承 载柱连接的磁性吸附元件。所述吸附元件用于吸附所述铁磁性基材,以固定所述铁磁性基 材。上述承载装置及镀膜装置,通过设置磁性的吸附元件,从而便于固定及取下铁磁 性物件。而且,所述承载装置通过使吸附元件与承载柱活动连接,从而可以调节铁磁性物件 与承载柱之间的距离。附图说明图1为一较佳实施方式的镀膜装置的结构示意图。图2是图1中的镀膜装置的基材承载装置的部分分解图。主要元件符号说明

【技术保护点】
1.一种承载装置,用于固定铁磁性物件,所述承载装置包括支撑柱及设于支撑柱上的承载柱,其特征在于,所述承载装置还包括与承载柱活动连接的磁性吸附元件,所述吸附元件用于吸附所述铁磁性物件,以固定所述铁磁性物件,所述吸附元件可相对于所述承载柱移动,以调节铁磁性物件相对于所述承载柱的距离。

【技术特征摘要】
1.一种承载装置,用于固定铁磁性物件,所述承载装置包括支撑柱及设于支撑柱上的 承载柱,其特征在于,所述承载装置还包括与承载柱活动连接的磁性吸附元件,所述吸附元 件用于吸附所述铁磁性物件,以固定所述铁磁性物件,所述吸附元件可相对于所述承载柱 移动,以调节铁磁性物件相对于所述承载柱的距离。2.如权利要求1所述的承载装置,其特征在于,所述承载柱上设有螺孔,所述吸附元件 的一端设有与所述螺孔相配合的螺纹,以使所述吸附元件与所述承载柱螺纹连接。3.如权利要求2所述的承载装置,其特征在于,所述吸附元件上设有与所述螺纹的间 距相对应的第一刻度,所述第一刻度沿所述螺孔的轴向分布,用于表示所述吸附元件相对 于所述承载柱移动的距离。4.如权利要求3所述的承载装置,其特征在于,所述吸附元件上设有沿所述螺孔的圆 周方向分布的与螺孔的间距相对应的第二刻度,用于表示调节部在每两个第一刻度间的位 置。5.一种镀膜装置,其包括真空室及位于真空室内的镀膜机台,所述镀膜机台包括用于 承载靶材的靶材承载装置及用于承载铁磁性基材的基材承载装置,所述基材承载装置与靶 材承载装置相对设置,其特征在于,所述基材承载装置包括...

【专利技术属性】
技术研发人员:王仲培
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]

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