用于溅射磁性材料的磁控靶制造技术

本实用新型专利技术公开一种用于溅射磁性材料的磁控靶，由外屏蔽罩、磁钢座、 极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡 胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料 为无氧铜，中心放内磁钢，周边钻若干小孔放外磁钢，靶材直接放在磁钢座上， 通过靶材压盖固定。极靴材料为导磁材料，磁控靶工作时直流或者射频电源加 在极靴上。极靴下面氩弧焊焊接进出水嘴，冷却水低进高出，靠密封橡胶圈实 现密封。绝缘座材料为可以在真空下使用的耐热绝缘材料，安装在固定座(阳 极)和极靴(阴极)之间。绝缘帽起到带电螺钉(阴极)和固定座(阳极)之 间的绝缘作用。本实用新型专利技术结构简单，成本低，磁控靶寿命长。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜设备领域，尤其是一种可以溅射磁性材料的永磁体的 圆形平面/F兹控賊射革巴。
技术介绍
目前，在国内制备镀膜领域中，通常把磁控溅射作为溅射技术的主流，其 主要原因就是磁控溅射的"高速"、"低温，，特点，它可以在任何基材上沉积任 何镀材的薄膜。能够溅射非磁性材料的普通圆形平面永磁靶技术已经相当成熟， 而对于能够溅射铁、镍、钴等磁性材料的磁控靶， 一般有两种， 一种是电磁靶， 另 一种是用普通圓形平面永磁靶改型的圆形平面强磁靶。但电》兹靶存在一些弊端1. 在通电过程中，通电线圈产生的^f兹场受电网电压、线圈匝数、线圈材质 及人为因素等影响不太稳定，即使在相同的条件下制备的膜质量也不一定相同；2. 在耙工作过程中，由于受结构的限制，往往达不到预想的磁场要求，想 不断增大电流达到预想磁场强度却常常烧断电磁线圈；3. 电磁靶的造价也比永磁靶高很多，除了需要一个直流电源还需要配一个 励石兹电源，成本大约是永/磁耙的1. 5倍。用普通圓形平面永磁靶改型的强磁靶，磁钢直接泡在冷却水中，时间长了 磁钢很容易退磁。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术提供一种磁钢棵露在靶材下面，冷却 水不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射磁性材料的永磁体的圆形平面磁控溅射靶，包括外屏蔽罩（１）、磁钢座（２）、极靴（３）、绝缘座（８）、固定座（６）、靶材压盖（１３）、内磁钢（１２）、外磁钢（１１）、进水嘴（７）、出水嘴（４）、联接螺栓和密封橡胶圈（１０、１０′、１０″、１０″′）；其特征在于：靶材（１４）直接放在磁钢座（２）上，通过靶材压盖（１３）固定；磁钢座（２）材料为无氧铜，中心放内磁钢（１２），周边钻若干小孔放外磁钢（１１），内磁钢（１２）和外磁钢（１１）极性朝向相反；极靴（３）材料为导磁材料，磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴（３）上；极靴（３）下面焊接进水嘴（７）和出水嘴（４），冷却水低进高出，靠密封橡胶圈（...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯彬，鲁向群，佟辉，刘大为，周颖，刘丽华，
申请(专利权)人：冯彬，鲁向群，佟辉，刘大为，周颖，刘丽华，
类型：实用新型
国别省市：89