【技术实现步骤摘要】
本技术主要涉及一种半导体技术中的微细加工设备，尤其涉及一种具有OLED光源的直写光刻机。
技术介绍
光刻机是用于在晶片、印刷电路板、掩膜板、平板显示器、生物晶片、微机械电子晶片、光学玻璃平板等衬底材料上印刷构图的设备，光刻机曝光光源部分是各种接近式、步进重复式、步进扫描式光刻机的重要部件之一，其曝光量、寿命、均匀性、发热量都直接和其他各部件的设计相关；光源影响着光刻机使用的最终关键特征尺寸的质量，使用和维护成本等问题。从目前主要光刻机供应商的产品来看，在光刻分辨率0. 28 ii m以上的光刻机中，主要以超高压汞灯作为照明光源(365nm、 I line)， 一般来说都具有2000W以上的功率，但现在光刻机光源主要存在如下的问题 (1)、寿命短。光刻机用的超高压汞灯在实际使用过程中寿命仅仅为1800小时左右，由于光刻机整机的预热较长，开启后，汞灯就不能关闭，这样就需要每隔二个多月就更换一次；除此之外，汞灯在光路中的位置是非常敏感的，会直接影响到曝光的均匀性，这也需要专业人员进行操作和维护。(2)、温度高。在整机装配中，光路的各部件都有着严格的制冷和温度要求，而汞...
【技术保护点】
一种具有ＯＬＥＤ光源的直写光刻机，包括有光源，所述光源投影到一侧的图形发生器，所述图形发生器成像通过其下方的投影光路投影到对应的晶圆表面上，所述晶圆安装在精密移动平台上，其特征在于：所述光源为有机发光二极管ＯＬＥＤ光源。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何少锋，靳莉，
申请(专利权)人：芯硕半导体中国有限公司，
类型：实用新型
国别省市：34[中国|安徽]
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