【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种。该方法通过一组相互重叠的圆形子照明光源的坐标和光强等参数描述光刻机照明光源。本专利技术减少了描述光刻机照明光源所需的变量数量，提高了获得最优光刻机照明光源的速度。【专利说明】
本专利技术涉及光刻机，特别涉及一种。
技术介绍
光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备。光刻机系统包括照明光源、掩模、投影系统、晶圆等分系统。采用优化后的照明光源可以增大光刻工艺窗口，使更小特征尺寸图形的光刻成为可能。现代集成电路制造过程通常包含如下步骤，首先根据目标光刻图形使用优化软件对光刻机照明光源进行优化，然后在真实的光刻机上对最优照明光源进行微调和验证，最后在真实的光刻机上使用微调和验证之后的最优照明光源进行大批量光刻和制造。光刻机照明光源优化的速度和质量影响光刻图形和集成电路的质量以及集成电路制造的生产周期，进而影响光亥_集成电路制造过程的时间成本。光刻机照明光源优化的流程如图1所示，首先使用将初始光源编码为初始照明光源描述参数Xtl ;然后使用光刻机照明光源描述方法将初始照明光源描述参数Xtl或优化迭代过程中产生的新的照明光源描述参数X解码为照明光源；根据成像方程模拟该照明光源下掩模图形的光刻成像，得到优化目标函数(如光刻成像与目标设计之间的差别)；如果满足停止判据(例如光刻成像与目标设计之间的差别小于设定的阈值或者迭代次数超过设定的最大代数)，则停止迭代优化，则此时的照明光源描述参数Xtjld为最优照明光源描述参数Xtjpt，根据光刻机照明光源描述方法解码Xtjpt得到最优照明光源并输出；如果无法满足停止判据，则更新Xtjld...
【技术保护点】
一种光刻机照明光源的描述方法，其特征在于该方法通过一组相互重叠的圆形子照明光源的坐标和光强等参数描述光刻机照明光源，包含以下步骤， 步骤A，输入照明光源描述矢量 [rσ1,r1,θ1,g1,…,rσi,ri,θi,gi,…,rσN,rN,θN,gN], 其中圆形子照明光源的圆心坐标为[ri,θi]，半径为rσi，光强为gi，数量为N； 步骤B，建立直角坐标网格，网格步长Δd＜min(rσi); 步骤C，根据照明光源描述矢量得到直角坐标网格上的光刻机照明光源分布其中步骤D，后处理； 其中步骤D后处理包含以下子步骤： 步骤D1，增加背景光强Ibg：Iwith bg(x,y)=I(x,y)+Ibg； 步骤D2，平滑处理：其中为卷积运算，kernel为卷积核函数。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨朝兴，王向朝，李思坤，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31
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