纳米线结构元件制造技术

本发明专利技术涉及一种纳米线结构元件，其适于例如安装到微反应器系统或微催化剂系统中。为了制备纳米线结构元件，使用基于模板的方法，其中在纳米孔中进行纳米线的电化学沉积。辐照在不同的角度下进行，使得形成纳米线网络。在纳米线网络中的结构化空腔通过将模板膜溶解并去除溶解的模板膜而露出。纳米线的网状互联赋予纳米线结构元件以稳定性并且建立了在纳米线之间的电连接。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
制备纳米线结构元件（１）的方法，该方法包括以下步骤：（ａ）提供模板（１２），（ｂ）在基于模板表面至少２个不同的角度下采用能量辐射（１４）对模板（１２）进行辐照，以产生多个贯穿模板的潜在径迹（１６），（ｃ）蚀刻模板（１２），以便将辐照诱导的潜在径迹（１６）蚀刻成由相互交叉连接的纳米孔（３２）形成的网络（３３），（ｄ）将材料沉积在纳米孔（３２）中以在纳米孔网络（３３）中产生由彼此相互交叉连接的纳米线（３４）组成的网络（３７），使得所产生的纳米线网络（３７）贯穿所述模板，（ｅ）从所生成的纳米线网络（３７）溶解并去除模板（１２）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：T科尔内留斯，W恩辛格，R纽曼，M劳贝尔，
申请(专利权)人：GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司，
类型：发明
国别省市：DE