照射至少两个目标体积制造技术

本发明专利技术涉及一种用于计划利用一条接近目标点（７２）的射线照射两个目标体积（８１、９２）的教导，用以在所述两个目标体积（８１、９２）中的第一目标体积中累积第一目标剂量分配和在所述两个目标体积（８１、９２）中的第二目标体积中累积第二目标剂量分配。该教导的特征在于以下步骤：使目标点（７２）与所述目标体积（８１、９２）之一相配，确定由于接近与第一目标体积（８１、９２）相配的目标点（７２）而引起的第一累积与由于接近与第二目标体积（８１、９２）相配的目标点（７２）而引起的第二累积的叠加，以及匹配用于所述目标点（７２）中的至少一个目标点的计划，接近所述至少一个目标点有助于第一和第二累积的叠加。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
１．用于计划利用一条接近目标点（７２，１１０）的射线（２０）照射两个目标体积（８１、９２，１０１、１２１）的方法，用以在所述两个目标体积（８１、９２，１０１、１２１）中的第一目标体积中累积第一目标剂量分配和在所述两个目标体积（８１、９２，１０１、１２１）中的第二目标体积中累积第二目标剂量分配，其特征在于以下步骤：使目标点（７２，１１１０）与所述目标体积（８１、９２，１０１、１２１）之一相配，确定由于接近与第一目标体积（８１、９２，１０１、１２１）相配的目标点（７２，１１０）而引起的第一累积与由于接近与第二目标体积（８１、９２，１０１、１２１）相配的目标点（７２，１１０）而引起的第二累积的叠加，以及匹配用于所述目标点（８１、９２，１０１、１２１）中的至少一个目标点的计划，接近所述至少一个目标点有助于第一和第二累积的叠加。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·贝尔特，
申请(专利权)人：GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司，
类型：发明
国别省市：DE