一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法和装置制造方法及图纸

一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法和装置，其中，检测装置用于检测光刻机台使用的当前光刻灯的工作时间信息，第一比较判断装置用于比较所述工作时间信息和预定阈值，根据比较结果判断是否需要置换当前光刻灯，如需要置换当前光刻灯，则以备用光刻灯置换所述当前光刻灯。采用本发明专利技术提供的光刻灯置换装置，使光刻灯置换实现了自动化，并且更加准确和便捷。由于本发明专利技术无需关闭光刻机台，提高了光刻机台的利用率。通过本发明专利技术，可以保证及时更换光刻灯，以充分利用所述光刻灯。此外，本发明专利技术避免了由于光刻灯更换不及时而导致的光刻机台相关核心组件的损坏。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体光刻工艺领域，特别涉及一种光刻机台的光刻灯 的自动置换方法和装置。
技术介绍
在集成电路制造工艺中要进行多次光刻步骤，光刻质量的好坏直 接影响产品合格率。在半导体制程中，光刻的本质是把临时电路结构复 制到以后要进行刻蚀和离子注入等工序的珪片上。光刻技术是集成电路 制造工艺发展的驱动力，也是其中最复杂的技术之一。对于一个半导体晶片制造厂而言，其在光刻部分的投入相当高，约占制造厂总投入的30~40%。光刻使用的光刻设备主要是各种光刻机 台，例如接触式光刻机台，接近式光刻机台，扫描投影光刻机台，分布 重复光刻机台，步进扫描光刻机台。光刻机台属于精密机械，是整个生 产线上最贵重的才几台。并且，光刻机台的折旧也十分惊人，以由荷兰的 微影光刻设备供应商ASML公司生产的型号为High NA dry scanner 1400 的光刻机台为例，其每天的折旧费约为3~9万元人民币。因此，对于 半导体晶片制造厂而言，充分利用光刻机台的产能显得尤为重要。光刻机台中用于提供光刻光源的光刻灯是消费性部件，每个光刻灯均具有额 定工作时间。因此在光刻灯的使用时间到达额定工作时间时，应及时更 换光刻灯，以保i正光刻质量和工厂效率。现在业内的主流光刻机台大都仅包括一个光刻灯。图l示出了现有 技术的光刻机台的光学系统的结构示意图。如图l所示，光刻机台的光 学系统包括光刻光源模组1 (Light Source Module),光闸2 (Shutter Module )，马达驱动才莫组3( Motor Driver ),光源成^f象才莫组4( Pupil Shaping Module )，活动遮光叶片成像系统5 ( REMA Imaging Optics ),投影镜片7 (Projection Optics )。此外，图1还示出了放置于光刻机台的光学系统 中的光刻掩膜版6和硅晶片8。参见图2,所述光刻光源模组1用于提 供光刻光源，其进一步地包括一个光刻灯10。所述光闸2的作用类似光 源开关，用于控制光刻光源的通过与不通过。所述马达驱动模组3用于 控制灯座和光刻灯的相对位置。所述光源成像^t组4用于根据光刻需要 改变光的投影形状。所述活动遮光叶片成像系统5用于根据需要遮盖掩 膜版6，使所述^^奈膜版6部分被遮盖而不成像在硅晶片8上，而其他部 分正常成像于硅晶片8上。所述投影镜片7 (Projection Optics)是成像 用的透镜。下面结合图1和图2对现有技术的光刻机台的光刻灯置机制进行描 述。现有技术的光刻灯置换主要由人为完成。假定光刻灯10的额定工 作时间为10小时。工程师通过监控光刻灯10的使用时间，在光刻灯达 到额定使用时间之前(例如9个半小时)关闭整个才几台，用新的光刻灯 换下当前光刻灯，随后重新启动光刻机台，使其进入正常工作状态。现有技术的光刻灯置换机制由于在置换光刻灯时需要关闭整个机 台，无疑会浪费光刻机台的正常运行时间。现有技术采取的人为控制光 刻灯置换机制也必然会造成一定误差，例如对光刻灯的使用时间监控不 够准确，其可能导致对光刻灯的利用不充分。更加严重地，现有技术还 有可能出现光刻灯置换不及时的情况，由此造成光刻机台相关核心组件 的损坏。以光刻灯本身为例，由于其内充满了高压的汞蒸汽，如不及时 更换将有可能引起爆炸，严重地有可能造成整个光刻机台的报废。综上 所述，现有技术的光刻灯置换机制存在许多不确定性，由此带来了很高 的风险，业内急需一种更加准确和便捷的光刻灯置换机制。
技术实现思路
本专利技术的目的是，提供一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法，其 中，包括如下步骤A. 检测光刻机台使用的当前光刻灯的工作时间信息；B. 比较所述工作时间信息和预定阈值，根据比较结果判断是否需6要置换当前光刻灯；C.如需要置换当前光刻灯，则以备用光刻灯置换所述当前光刻灯。 本专利技术的第二方面，提供了一种光刻机台的光刻灯的自动置换装置，其中，包括检测装置，用于检测光刻机台使用的当前光刻灯的工作时间信息； 第一比较判断装置，用于比较所述工作时间信息和预定阈值，根据比较结果判断是否需要置换当前光刻灯；置换装置，如需要置换当前光刻灯，用于以备用光刻灯置换所述当前光刻灯。本专利技术的第三方面，提供了一种光刻机设备，其中，包括本专利技术第 二方面提供的光刻机台的光刻灯的自动置换装置。采用本专利技术提供的光刻灯置换装置，使光刻灯置换实现了自动化， 并且更加准确和便捷。由于本专利技术无需关闭光刻机台，提高了光刻机台 的利用率。通过本专利技术，可以保证及时更换光刻灯，以充分利用所述光关核心组件的损坏。附图说明通过阅读以下参照附图所作的对非限制性实施例的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显。图1是现有技术的光刻机台的光学系统的结构示意图2是现有技术的光刻机台的光学系统中的光刻光源模组的剖面放大示意图3是本专利技术的光刻机台的光刻灯的自动置换方法的步骤流程图； 图4是根据本专利技术的一个具体实施例的光刻机台的光学系统的结构 示意图5是根据本专利技术的一个具体实施例的以备用光刻光源模组置换当 前光刻光源;漠组的示意图6是本专利技术的光刻机台的光刻灯的自动置换装置的装置结构7附图中，相同或者相似的附图标识代表相同或者相似的部件。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术作进一步详细描述。图3示出了本专利技术的光刻灯的光刻灯的自动置换方法的步骤流程 图。如图3所示，本专利技术第一方面提供了一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法，其包括如下步骤首先，在步骤Sl中，检测光刻机台使用的当前光刻灯的工作时间 信息。现有技术对此已有成熟的支持方案，例如，各种用软硬件实现 的计时装置和计数装置等。具体地，本专利技术可以每隔一段预定间隔时 间根据计时器上的技术报告一次所述工作时间信息。其中，所述间隔 时间可根据需要任意设定和调整。需要说明的是，上述利用计数器的本步骤实现方法仅为示例，本领 域技术人员应该理解，本专利技术不限于此，其他实现方式也应涵盖在本发 明的保护范围之内。然后，在步骤S2中，比较所述工作时间信息和预定阈值，根据比 较结果判断是否需要置换当前光刻灯。现有技术对此已有成熟的支持 方案，例如，各种用软硬件实现的比较装置等。最后，在步骤S3中，如需要置换当前光刻灯，则以备用光刻灯置 换当前光刻灯，参照图4，其中，置换光刻灯的过程具体描述如下图4示出了4艮据本专利技术的一个具体实施例的光刻机台的光学系统的 结构示意图。本实施例的光刻机台的光学系统包括光闸2,马达驱动模 组3,光源成像^t组4，活动遮光叶片成像系统5，投影镜片7。上述模 组的功能与现有才支术一致。本实施例的光刻机台的光学系统还包括当前 光刻光源模组11和备用光刻光源模组12。其中，所述当前光刻光源模 组11用于为光刻灯提供当前的光刻光源，所述备用光刻光源模组12用 于作为所述当前光刻光源模组11的备用光刻灯。进一步地，所述当前光 刻光源模组11包括1个当前光刻灯，所述备用光刻光源模组12包括1 个备用光刻灯。具体地，首先开启光闸2，则当前光刻光源模组ll提供的光刻光源可以通过光闸2到光源成像模组4，然后所述光源成像模组4用于根据光刻要求改变光的投影形状，经所述光源成像模组4处理过 的光刻光源继续通过光学系统到达活动遮光叶片成像系统5,最后本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻机台的光刻灯的自动置换方法，其中，包括如下步骤：　　　　Ａ．检测光刻机台使用的当前光刻灯的工作时间信息；　　　　Ｂ．比较所述工作时间信息和预定阈值，根据比较结果判断是否需要置换当前光刻灯；　　　　Ｃ．如需要置换当前光刻灯，则以备用光刻灯置换所述当前光刻灯。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙耀华，金志锐，吴凌辉，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]