一种吸附固定晶圆的研磨设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种吸附固定晶圆的研磨设备，涉及晶圆研磨技术领域，解决了晶圆两面快速研磨以及碎片液体阻挡收集的问题，包括安装台，所述安装台的上方安装有一组推动机构，推动机构由推动气缸和推动座共同组成，安装台的上方通过螺栓安装有一个锁定架，推动气缸安装在锁定架的内侧，推动气缸的推动杆和推动座相连接，安装台的底部设有一个收集壳体。通过推动气缸的设置实现晶圆的左右位置调节，配合两个方向相反的吸附架实现，配合两组方向相反的研磨组件，将晶圆呈竖向状态进行研磨，因此由于重力的因素，通过收集壳体对研磨后的碎片与液体进行收集，从而方便碎片与液体的清理。从而方便碎片与液体的清理。从而方便碎片与液体的清理。

【技术实现步骤摘要】
一种吸附固定晶圆的研磨设备


[0001]本技术涉及晶圆研磨
，特别涉及一种吸附固定晶圆的研磨设备。

技术介绍

[0002]晶圆在生产后表面粗糙，因此需要对晶圆进行研磨，在晶圆研磨时会借助研磨设备进行抛光，晶圆会通过真空吸附的方式固定在研磨设备上，总所周知，在晶圆研磨时会进行两面研磨，需要对晶圆进行翻转，在晶圆翻转时有手动和自动翻转两种方式，在研磨盘的外侧会设置清洁座对晶圆的表面进行清理，自动翻转基本采用机械手的方式进行翻转，但是通过手动翻转晶圆的效率低，通过机械手对晶圆方向切换造成的夹伤问题，存在晶圆受力损坏的现象，因此上述两种方式均存在不足之处，在实际研磨过程中，晶圆的残留物需要冲刷，晶圆研磨时也会发生碎片，造成液体和碎片飞溅的现象，不同的研磨剂混合会产生化学反应，当混合的液体飞溅到晶圆上时，晶圆产生反应造成缺陷，晶圆碎片飞溅到研磨设备上后，设备工程师需要对研磨结构进行更换，同时还需要对碎片进行收集清理，增加了研磨设备的维护成本，另外在对吸附座进行清洗时，工作人员会手持吸附座进行清洗，增加了工作人员的劳动力，同时也降低了晶圆研磨时的效率，清洁座在转动过程中会摩擦起热，清洁座堆积的热量散发不出来就会缩短使用寿命。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术提供一种吸附固定晶圆的研磨设备，以解决晶圆两面快速研磨以及碎片液体阻挡收集的问题。
[0004]本技术提供了一种吸附固定晶圆的研磨设备，具体包括：安装台，所述安装台的上方安装有一组推动机构，推动机构由推动气缸和推动座共同组成，安装台的上方通过螺栓安装有一个锁定架，推动气缸安装在锁定架的内侧，推动气缸的推动杆和推动座相连接，安装台的底部设有一个收集壳体，收集壳体的底部安装有一个第二挡板，第二挡板设有拉动手柄；
[0005]驱动机构，所述驱动机构安装在推动座的上方位置，驱动机构由第一驱动马达和控制箱共同组成，控制箱的外侧安装有一个吸附架，吸附架的内侧设有真空吸附盘；
[0006]研磨组件，所述研磨组件安装在安装台的上方位置，研磨组件由第二驱动马达、安装架和研磨轮共同组成，研磨组件共有两组，研磨轮和吸附架之间安装有一个晶圆；
[0007]安装板，所述安装板共有两个，两个安装板对称安装在安装架上，安装板的端部安装有一个转动连接的清洁座，清洁座和研磨轮相接触，清洁座的外侧位置安装有一个散热风扇。
[0008]进一步的，所述推动座的底部设有两个矩形结构的滑动板，安装台的上方开设有两个滑动槽，推动座的滑动板安装在滑动槽的内侧。
[0009]进一步的，所述安装台的上方设有一个凵字形结构的第一挡板，第一挡板的底部位置开设有矩形结构的通孔，第一挡板的通孔和收集壳体相连通。
[0010]进一步的，所述收集壳体的底部内侧位置开设有两个凵字形结构的安装槽，第二挡板安装在安装槽的内侧，第二挡板的端部安装有一个锁紧螺栓。
[0011]进一步的，所述推动座的上方设有一个带有锁紧螺栓的安装套筒，第一驱动马达安装在安装套筒的内侧，推动座的外侧面设有两个转动轴，转动轴与第一驱动马达的驱动轴相连接。
[0012]进一步的，所述吸附架开设有一个矩形结构的安装槽，控制箱设有一个驱动轴，驱动轴的端部为矩形结构，吸附架通过安装槽安装在驱动轴的外侧。
[0013]进一步的，所述安装台的上方设有一个带有锁紧螺栓的安装套筒，第二驱动马达安装在安装套筒的内侧，第二驱动马达和安装架之间安装有一个腰圆状的连接板，安装架的端部安装有一个研磨轮，第一挡板的底部开设有一个安装孔，第二驱动马达的驱动轴穿插于安装孔的内侧。
[0014]进一步的，所述安装架开设有两个矩形结构的滑动槽，滑动槽为矩形结构，安装板安装在安装架的滑动槽内，安装架的端部安装有锁紧螺栓。
[0015]有益效果：
[0016]1，本技术解决了晶圆两面快速研磨的问题，通过推动气缸的设置实现晶圆的左右位置调节，配合两个方向相反的吸附架实现，配合两组方向相反的研磨组件，解决了晶圆手动切换的问题，解决了通过机械手对晶圆方向切换造成的夹伤问题。
[0017]2，本技术通过第一挡板解决了晶圆在研磨时碎片与液体阻挡的效果，避免了碎片与液体四处飞溅的现象，将晶圆呈竖向状态进行研磨，因此由于重力的因素，通过收集壳体对研磨后的碎片与液体进行收集，从而方便碎片与液体的清理；
[0018]此外，通过第一驱动马达驱动吸附架和晶圆进行角度调节，实现晶圆灵活切换的效果，从而方便晶圆的安装与研磨；
[0019]此外，通过吸附架的角度调节设置方便进行清洗，解决了在吸附架清洗时工作人员手持清洗的问题，清洗后的液体会进入收集壳体内进行收集。
[0020]3，本技术解决了清洁座的散热问题，通过清洁座将晶圆外侧的碎片进行扫除，在清洁座的外侧设置有散热风扇，在清洁座转动时会带动散热风扇转动，使散热风扇对清洁座进行散热，解决了清洁座在转动过程中摩擦起热造成的散热不及时的问题。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术的实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍。
[0022]下面描述中的附图仅仅涉及本技术的一些实施例，而非对本技术的限制。
[0023]在附图中：
[0024]图1是本技术的实施例的研磨设备轴侧结构示意图。
[0025]图2是本技术的实施例的图1的后视角轴侧结构示意图。
[0026]图3是本技术的实施例的图1的仰视角轴侧结构示意图。
[0027]图4是本技术的实施例的安装台和第一挡板剖切轴侧结构示意图。
[0028]图5是本技术的实施例的图4的另一视角轴侧结构示意图。
[0029]图6是本技术的实施例的图4的A处放大结构示意图。
[0030]附图标记列表
[0031]1、安装台；101、第一挡板；102、收集壳体；2、推动机构；201、推动气缸；202、推动座；3、驱动机构；301、第一驱动马达；302、控制箱；4、吸附架；5、晶圆；6、第二挡板；7、研磨组件；701、第二驱动马达；702、安装架；703、研磨轮；8、安装板；9、清洁座；901、散热风扇。
具体实施方式
[0032]为了使得本技术的技术方案的目的、方案和优点更加清楚，下文中将结合本技术的具体实施例的附图，对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。除非另有说明，否则本文所使用的术语具有本领域通常的含义。附图中相同的附图标记代表相同的部件。
[0033]实施例：请参考图1至图6所示：
[0034]本技术提供一种吸附固定晶圆的研磨设备，包括安装台1，安装台1的上方安装有一组推动机构2，安装台1的上方设有一个凵字形结构的第一挡板101，通过第一挡板101对晶圆5研磨后的碎片与液体进行阻挡，避免了碎片与液体四处飞溅的现象，第一挡板101的底部位置开设有矩形结构的通孔，第一挡板101的通孔和收集壳体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种吸附固定晶圆的研磨设备，其特征在于，包括：安装台(1)，所述安装台(1)的上方安装有一组推动机构(2)，推动机构(2)由推动气缸(201)和推动座(202)共同组成，安装台(1)的上方通过螺栓安装有一个锁定架，推动气缸(201)安装在锁定架的内侧，推动气缸(201)的推动杆和推动座(202)相连接，安装台(1)的底部设有一个收集壳体(102)，收集壳体(102)的底部安装有一个第二挡板(6)，第二挡板(6)设有拉动手柄；驱动机构(3)，所述驱动机构(3)安装在推动座(202)的上方位置，驱动机构(3)由第一驱动马达(301)和控制箱(302)共同组成，控制箱(302)的外侧安装有一个吸附架(4)，吸附架(4)的内侧设有真空吸附盘；研磨组件(7)，所述研磨组件(7)安装在安装台(1)的上方位置，研磨组件(7)由第二驱动马达(701)、安装架(702)和研磨轮(703)共同组成，研磨组件(7)共有两组，研磨轮(703)和吸附架(4)之间安装有一个晶圆(5)；安装板(8)，所述安装板(8)共有两个，两个安装板(8)对称安装在安装架(702)上，安装板(8)的端部安装有一个转动连接的清洁座(9)，清洁座(9)和研磨轮(703)相接触，清洁座(9)的外侧位置安装有一个散热风扇(901)。2.如权利要求1所述一种吸附固定晶圆的研磨设备，其特征在于：所述推动座(202)的底部设有两个矩形结构的滑动板，安装台(1)的上方开设有两个滑动槽，推动座(202)的滑动板安装在滑动槽的内侧。3.如权利要求1所述一种吸附固定晶圆的研磨设备，其特征在于：所述安装台(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：马伦，顾卫明，
申请(专利权)人：苏州鑫泓电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：