一种吸附固定晶圆的研磨设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种吸附固定晶圆的研磨设备，涉及晶圆研磨技术领域，解决了晶圆两面快速研磨以及碎片液体阻挡收集的问题，包括安装台，所述安装台的上方安装有一组推动机构，推动机构由推动气缸和推动座共同组成，安装台的上方通过螺栓安装有一个锁定架，推动气缸安装在锁定架的内侧，推动气缸的推动杆和推动座相连接，安装台的底部设有一个收集壳体。通过推动气缸的设置实现晶圆的左右位置调节，配合两个方向相反的吸附架实现，配合两组方向相反的研磨组件，将晶圆呈竖向状态进行研磨，因此由于重力的因素，通过收集壳体对研磨后的碎片与液体进行收集，从而方便碎片与液体的清理。从而方便碎片与液体的清理。从而方便碎片与液体的清理。

【技术实现步骤摘要】
一种吸附固定晶圆的研磨设备


[0001]本技术涉及晶圆研磨
，特别涉及一种吸附固定晶圆的研磨设备。

技术介绍

[0002]晶圆在生产后表面粗糙，因此需要对晶圆进行研磨，在晶圆研磨时会借助研磨设备进行抛光，晶圆会通过真空吸附的方式固定在研磨设备上，总所周知，在晶圆研磨时会进行两面研磨，需要对晶圆进行翻转，在晶圆翻转时有手动和自动翻转两种方式，在研磨盘的外侧会设置清洁座对晶圆的表面进行清理，自动翻转基本采用机械手的方式进行翻转，但是通过手动翻转晶圆的效率低，通过机械手对晶圆方向切换造成的夹伤问题，存在晶圆受力损坏的现象，因此上述两种方式均存在不足之处，在实际研磨过程中，晶圆的残留物需要冲刷，晶圆研磨时也会发生碎片，造成液体和碎片飞溅的现象，不同的研磨剂混合会产生化学反应，当混合的液体飞溅到晶圆上时，晶圆产生反应造成缺陷，晶圆碎片飞溅到研磨设备上后，设备工程师需要对研磨结构进行更换，同时还需要对碎片进行收集清理，增加了研磨设备的维护成本，另外在对吸附座进行清洗时，工作人员会手持吸附座进行清洗，增加了工作人员的劳动力，同时也降低了晶圆研磨时的效率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种吸附固定晶圆的研磨设备，其特征在于，包括：安装台(1)，所述安装台(1)的上方安装有一组推动机构(2)，推动机构(2)由推动气缸(201)和推动座(202)共同组成，安装台(1)的上方通过螺栓安装有一个锁定架，推动气缸(201)安装在锁定架的内侧，推动气缸(201)的推动杆和推动座(202)相连接，安装台(1)的底部设有一个收集壳体(102)，收集壳体(102)的底部安装有一个第二挡板(6)，第二挡板(6)设有拉动手柄；驱动机构(3)，所述驱动机构(3)安装在推动座(202)的上方位置，驱动机构(3)由第一驱动马达(301)和控制箱(302)共同组成，控制箱(302)的外侧安装有一个吸附架(4)，吸附架(4)的内侧设有真空吸附盘；研磨组件(7)，所述研磨组件(7)安装在安装台(1)的上方位置，研磨组件(7)由第二驱动马达(701)、安装架(702)和研磨轮(703)共同组成，研磨组件(7)共有两组，研磨轮(703)和吸附架(4)之间安装有一个晶圆(5)；安装板(8)，所述安装板(8)共有两个，两个安装板(8)对称安装在安装架(702)上，安装板(8)的端部安装有一个转动连接的清洁座(9)，清洁座(9)和研磨轮(703)相接触，清洁座(9)的外侧位置安装有一个散热风扇(901)。2.如权利要求1所述一种吸附固定晶圆的研磨设备，其特征在于：所述推动座(202)的底部设有两个矩形结构的滑动板，安装台(1)的上方开设有两个滑动槽，推动座(202)的滑动板安装在滑动槽的内侧。3.如权利要求1所述一种吸附固定晶圆的研磨设备，其特征在于：所述安装台(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：马伦，顾卫明，
申请(专利权)人：苏州鑫泓电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：