本发明专利技术公开了一种真空测量装置控制系统及半导体加工装置，真空测量装置控制系统包括真空测量装置、真空获得装置，真空测量装置通过电源供电，真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路；当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程，对于真空规由于环境因素波动引起的瞬间故障，能够通过复位过程排除，避免造成分子泵的频繁起停，增强了机台的可靠性和在线故障诊断性能。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体加工设备，尤其涉及一种真空测量装置控制系统及半导体加工装置。
技术介绍
在半导体加工过程中，干法刻蚀需要在真空环境中进行，刻蚀机的真空系统包括 真空获得装置和真空测量装置，其中真空获得装置主要指泵，它的作用是把腔室由大气抽 到真空。干法刻蚀需要足够高的真空(毫托级)，因此必须使用高真空泵，在半导体行业普 遍使用的高真空泵为分子泵，然而分子泵不能直接抽大气，所以就需要一个前级泵，称为干 泵。腔室的真空达到什么状态需要测量装置来测量，一般来说，采用的测量装置为真空规。如图1所示，整个真空系统的工作原理是，腔室大气状态下，干泵通过阀1对腔室 进行粗抽，达到一定的真空度要求时，真空规会给出一个开关信号，此信号触发分子泵的启 动，同时阀1关闭，阀2、阀3打开，通过分子泵抽腔室，最终达到刻蚀工艺对腔室高真空度的 要求，这一过程需要一定的控制方式进行控制。如图2所示，现有技术中的控制方式是，电源给真空规供电，真空规一方面把读到 的腔室压力值上传给工控机进行显示；另一方面在到达一定压力的时候，给硬件互锁电路 输出一个开关信号，硬件互锁电路得到这个开关信号后，进行处理，给出可以开分子泵的使 能信号，之后，工控机对分子泵发出启动信号，如此分子泵启动执行。上述现有技术至少存在以下缺点分子泵启动后，如果由于外界因素真空规不能给出这个开关信号，分子泵就不会 使能，此时分子泵就会被迫停止。这种外界因素可能是腔室进气系统流量过大引起，此时分 子泵停止属于正常状态。然而还有一些外界因素，比如真空规环境温度瞬间波动，真空规瞬 间接线不良，也会使得这个开关信号给不出来，也会引发分子泵停止，对于这种瞬间想象造 成的分子泵频繁起停不但伤害分子泵，还影响整个工艺流程，影响设备的产能。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种能够避免由于真空规的瞬间故障造成的分子泵频繁起 停的真空测量装置控制系统及半导体加工装置。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的本专利技术的真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测 量装置通过电源供电，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位 电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。本专利技术的半导体加工装置，包括工艺腔室，该工艺腔室连接有上述的真空测量装 置控制系统。由上述本专利技术提供的技术方案可以看出，本专利技术所述的真空测量装置控制系统及半导体加工装置，由于真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路，当真空测量装置向 真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电 的复位过程，对于真空测量装置由于环境因素波动引起的瞬间故障，能够通过复位过程排 除，避免造成分子泵的频繁起停。附图说明图1为现有技术中半导体加工设备的真空系统工作原理示意图；图2为现有技术中真空测量装置控制系统的原理示意图；图3为本专利技术的真空测量装置控制系统的原理示意图；图4为本专利技术中监控复位电路的原理图；图5为本专利技术的真空测量装置控制系统的控制流程图。具体实施例方式本专利技术的真空测量装置控制系统，其较佳的具体实施方式如图3所示，包括真空 测量装置、真空获得装置，真空获得装置包括分子泵，真空测量装置与分子泵之间连接有硬 件互锁电路，真空测量装置的开关信号通过硬件互锁电路转换为使能信号，并将该使能信 号传递给分子泵，用于驱动分子泵的运行。真空测量装置通过电源供电，真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路，真 空测量装置可以为真空规或真空开关或压力传感器等。当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测 量装置进行一次断电、上电的复位过程。如图4所示，监控复位电路包括继电器K，真空测量装置(如真空规)通过继电器 K的常闭触点与电源连接。真空测量装置控制系统包括工控机，工控机接收真空测量装置的开关信号，并判 断该信号是否失效，如果失效，则控制监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的 复位过程。复位过程的断电与上电之间的时间间隔为0.5 1.5秒，如1.0秒等。当工控 机判断开关信号失效时，还可以对系统设备进行一次排查，以便检查设备是否有故障存在。本专利技术的半导体加工装置，其较佳的具体实施方式是，包括工艺腔室，该工艺腔室 连接有上述的真空测量装置控制系统。本专利技术在现有技术的控制系统的基础上增加了监控复位电路，可以解决现有技术 中由于真空规的瞬间故障造成的分子泵频繁起停，甚至工艺流程停止的问题。当这种瞬间 的故障发生后，监控复位电路能够对真空规进行自动复位，从而排除真空规本身瞬间故障 引发的对设备正常工艺的影响，监控复位电路的操作还会给工控机上传一个提示信息，提 示在设备空闲的时候对真空规进行相关排查。本专利技术中，当这种瞬间的故障发生后，监控复位电路能够对真空规进行自动复位， 也就是对真空规进行一次自动的断电和上电，这种监控和复位功能是通过软、硬件结合的 方法实现的。具体实现的原理，如图4、图5所示正常情况下，电源通过继电器K的常闭触点给真空规供电，系统达到真空状态，分子泵正常运行，当系统第一次检测到真空规开关信号失效时，由工控机发出ResetDO有效 信号，此信号使得硬件电路中的继电器K得电，触点动作，如此真空规被断电，等待Is后，工 控机把ResetDO信号置成无效，继电器K的常开触电断开，常闭触电闭合，如此真空规得电。 这个过程就实现了对真空规的自动复位，之后再对真空规开关信号进行判断，如果此时该 信号已经由失效变成有效，说明刚才的失效信号是由真空规的温度瞬间变化或者连线瞬间 接触不良造成的，经过复位，此故障已消失，这样分子泵继续正常运行，只是给工控机一个 提示信息。操作者看到信息后，会在设备空闲的时候对真空规的工作环境温度的偶然因素 进行排查，同时也会检查电气连线。当然很有可能这种偶然因素很有可能不会重现，但是没 问题，由于使用了这种软硬件结合的自动复位装置，即便今后在设备正常跑货的时候再出 现这种故障，仍然不会影响设备正常运行。从而提高了设备的可靠性，和刻蚀机的产能。本专利技术可以解决现有方案无法规避偶然因素引起的误报警问题，使得对于外界因 素瞬间变化造成的分子泵频繁起停和设备当机现象不再发生。增强了机台的可靠性和在线 故障诊断性能；降低了维护成本，提到了半导体设备的产能。 以上所述，仅为本专利技术较佳的具体实施方式，但本专利技术的保护范围并不局限于此， 任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换， 都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。权利要求一种真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测量装置通过电源供电，其特征在于，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。2.根据权利要求1所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述监控复位电路包 括继电器，所述真空测量装置通过继电器的常闭触点与所述电源连接。3.根据权利要求1所述的真空测量装置控制系统，其特征在于，所述真空测量装置为 真空规或真空开关或压力传感器。4.根本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测量装置通过电源供电，其特征在于，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武小娟，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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