图案化介质型磁记录介质的制造方法技术

本发明专利技术目的在于提供一种在形成中间层的凹凸图案时的干式蚀刻工艺中，能够以高精度仅对必要部位进行加工的图案化介质型磁记录介质的制造方法。其包括在基板上依次形成软磁层、蚀刻阻挡层、种子层、中间层、硬掩模层和抗蚀剂的工序；将上述抗蚀剂图案化，得到抗蚀剂图案的工序；将上述抗蚀剂图案作为掩模，对硬掩模层进行蚀刻，得到图案状硬掩模层的工序；剥离上述抗蚀剂图案的工序；将上述图案状硬掩模层作为掩模，对上述中间层进行蚀刻，得到图案状中间层的工序；剥离上述图案状硬掩模层的工序；和形成磁记录层的工序，该工序在上述图案状中间层上形成垂直取向部，并在上述种子层上形成无规取向部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及图案化介质(PatternedMedia)型磁记录介质的制造方法。进一步具体而言，本专利技术的涉及仅在必要部位以高精度形成中间层的凹凸图案，能够实现介质的优异的记录密度的。
技术介绍
为了提高硬盘等磁记录介质的记录密度，采取了各构成部件所用的材料的优化、记录层颗粒的微细化、磁头的小型化和垂直磁记录方式的导入等各种各样的方案。但利用这些方案提高记录密度逐渐达到因此，为了进一步提高记录密度，提出了涉及将磁记录层加工成微细凹凸图案而得到的所谓的分立磁道型或位图样型的图案化介质型磁记录介质的技术。在专利文献1中，公开了一种磁记录介质，其包括基板；形成于该基板上的软磁层；记录层，其以在垂直于表面的方向上具有磁各向异性的方式取向，形成于上述软磁层上，并且以规定的凹凸图案分割成多个记录单元；和形成于该记录层与上述软磁层之间的中间层，上述记录单元在数据区域中以规定的磁道形状形成(权利要求1)。另外，在专利文献1中，还公开了一种取向膜，其上述中间层厚度方向的至少一部分具有提高上述记录层的取向性的性质，并且与上述记录层中的上述基板侧表面相接而形成(权利要求3)。另外，在专利文献1中，还公本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案化介质型磁记录介质的制造方法，其特征在于，包括：　在基板上依次形成软磁层、蚀刻阻挡层、种子层、中间层、硬掩模层和抗蚀剂的工序；　将所述抗蚀剂图案化，得到抗蚀剂图案的工序；　将所述抗蚀剂图案作为掩模，对硬掩模层进行蚀 刻，得到图案状硬掩模层的工序；　剥离所述抗蚀剂图案的工序；　将所述图案状硬掩模层作为掩模，对所述中间层进行蚀刻，得到图案状中间层的工序；　剥离所述图案状硬掩模层的工序；和　形成磁记录层的工序，该工序在所述图案状中间层 上形成垂直取向部，并在所述种子层上形成无规取向部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：谷口克己，
申请(专利权)人：富士电机电子技术株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]