溅射装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种靶的使用效率高的溅射装置。本发明专利技术的溅射装置（１）具有：第一、第二环状磁铁（２３ａ、２３ｂ）；和在第一、第二环状磁铁（２３ａ、２３ｂ）的环的内侧配置的第一、第二磁铁部件（２４ａ、２４ｂ）；第一、第二环状磁铁（２３ａ、２３ｂ）和第一、第二磁铁部件（２４ａ、２４ｂ）其相同磁性的磁极朝向第一、第二靶（２１ａ、２１ｂ）背面。因此，相同极性的磁极邻接配置在第一、第二靶（２１ａ、２１ｂ）的背面，由于在第一、第二靶（２１ａ、２１ｂ）的表面形成的水平磁场分量的强度其绝对值小、且其强度分布窄，垂直磁场分量的强度均匀，所以，不会在第一、第二靶（２１ａ、２１ｂ）上产生非腐蚀部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种溅射装置。
技术介绍
作为显示元件，有机EL元件近年来倍受瞩目。 图12是用于对有机EL元件201的构造进行说明的示意剖面图。 该有机EL元件201在基板211上按顺序层叠有下部电极214、有机 层217、 218和上部电极219,如果在上部电极219与下部电极214之间 施加电压，则在有机层217、 218的内部或界面将发光。如果由ITO膜(铟 锡氧化物膜)等透明导电膜构成上部电极219，则发出的光会通过上部电 极219，向外部放出。上述的上部电极219的形成方法主要采用蒸镀法。 在蒸镀法中，由于从蒸镀源通过升华或蒸发而放出的粒子是中性的 低能量(几eV左右)粒子，所以，在形成上部电极219或有机EL元件 的保护膜时，具有不会对有机膜217、 218造成损害、可形成良好界面的 优点。但是，由于通过蒸镀法形成的膜与有机膜的紧贴性差，所以，会产 生暗斑或因为长期驱动导致电极剥离等不良情况。而且，从生产率的观 点出发存在着下述问题由于是点蒸镀源，所以在大面积中难以取得膜 厚分布；由于蒸发舟皿的劣化或蒸发材料连续供给的困难，导致维护周 期变短等。作为解决上述问题的方法，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射装置，具有：　　　　真空槽；　　　　板状的第一、第二靶；和　　　　形状的环形、在该环的厚度方向上被磁化的第一、第二环状磁铁；　　　　前述第一、第二靶以表面相互平行且对置的状态隔着既定间隔配置在前述真空槽内，　　　　前述第一、第二环状磁铁配置在前述第一、第二靶的背面位置，　　　　在将Ｓ极和Ｎ极的任意一方设为第一磁极、另一方设为第二磁极时，前述第一环状磁铁的第一磁极朝向第一靶的背面侧，前述第二环状磁铁的第二磁极朝向前述第二靶的背面侧，　　　　从前述第一、第二靶之间的空间的开口朝向成膜对象物的表面放出溅射粒子，其特征在于，　　　　在前述第一环状磁铁的环的内侧，配置有前述第一磁极朝向前述第一靶...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高泽悟，浮岛祯之，谷典明，石桥晓，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]