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本发明提供一种靶的使用效率高的溅射装置。本发明的溅射装置（１）具有：第一、第二环状磁铁（２３ａ、２３ｂ）；和在第一、第二环状磁铁（２３ａ、２３ｂ）的环的内侧配置的第一、第二磁铁部件（２４ａ、２４ｂ）；第一、第二环状磁铁（２３ａ、２３ｂ）和第...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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