一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备，该方法包括步骤：提供一个或者多个初始掩模图形的初始掩模版图，基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；选出待修正掩模图形，提供关于每个待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出修正后的掩模版图，通过该方法修正初始掩模图形速度快，准确找到待修正的待修正掩模图形，修正后获得的掩模版图具有较宽的工艺窗口。具有较宽的工艺窗口。具有较宽的工艺窗口。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备


[0001]本专利技术涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备。

技术介绍

[0002]在光刻半导体器件的生产制造过程中，建立光刻模型阶段或者曝光成像阶段，均需要使用到设置有掩模图形的掩模版。不管是在建立光刻模型阶段用到的掩模版还是曝光成像阶段用到的掩模版，具体掩模图形设计的好坏决定着工艺窗口的大小。而最终在光刻模型建立或者曝光成像的时候采用的掩模版，通常是在设计出初始的掩模版图之后，对上面的掩模图形，特别是边缘处的掩模图形进行修正处理才可以很好的增大工艺窗口，满足最终设计需求。但是由于掩模版上的掩模图形其数量相对较多，相对位置无法很好的标定，故难以指定特定设定的掩模图形进行修正操作，特别是经过初次移动操作之后的掩模图形，将难以再次找到同一个掩模图形对其继续进行修正处理，特别不利于对掩模版的修正。

技术实现思路

[0003]为克服目前在提供掩模图形的过程中难以找到指定需要修正的掩模图形的缺陷，本专利技术提供一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备。
[0004]本专利技术为了解决上述技术问题，提供一技术方案：一种应用于产生掩模图形的方法，包括如下步骤：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，多个初始掩模图形周期性或者规律性排布，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出修正后的掩模版图。
[0005]优选地，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形包括如下步骤：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素所包括的内容为该待修正掩模图形的修正规则。
[0006]优选地，所述修正规则包括修正方式和关于对应修正方式下的修正内容，所述修正方式包括待修正掩模图形边的移动、一个待修正掩模图形的整体移动和对该待修正掩模图形添加亚分辨率辅助图形中的一种或者几种，对应修正方式下的修正内容包括移动的方向和移动数值、添加的亚分辨率辅助的位置信息和尺寸信息。
[0007]优选地，建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相
同位置下的元素为该待修正掩模图形的修正规则包括如下步骤：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵；将对应的修正方式设置到对应位置的操作矩阵元素中；将对应的修正内容添加到对应的修正方式处。
[0008]优选地，将对应的修正内容添加到对应的修正方式处具体的操作如下：根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加。
[0009]优选地，所述初始掩模图形为规则图形，且具有中心点，基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵。
[0010]优选地，选定所述初始掩模图形中相对靠近边缘元素处的初始掩模图形作为待修正掩模图形。
[0011]优选地，当一个待修正掩模图形包括多种修正方式和多种修正内容时，将所有的修正方式和对应的修正内容存储到操作矩阵的与该待修正掩模图形对应的一个位置元素中。
[0012]为了解决上述技术问题，本专利技术还提供一种应用于产生掩模图形的装置，其包括设置模块：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；位置信息矩阵建立模块：用于基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；关联模块：选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；修正执行模块：基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出模块：输出修正后的掩模版图。
[0013]为了解决上述技术问题，本专利技术还提供一种电子设备，其包括一个或多个处理器和存储装置，存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如上所述应用于产生掩模图形的方法。
[0014]相对于现有技术，本专利技术提供的技术方案具有如下有益效果：
[0015]1、基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，当建立完成初始位置信息矩阵，对每个初始掩模图形进行标定之后，不管对该矩阵任意位置处对应的初始掩模图形进行何种修正操作，每个初始掩模图形在初始位置信息矩阵中的位置始终是不变的，通过将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形，能很好在对待修正掩模图形进行修正操作时，始终将修正规则关联到对应初始位置信息矩阵处的待修正掩模图形，当对选定的待修正掩模图形进行修正时，不需要遍历所有初始掩模图形即可以快速的找准对应的待修正掩模图形，能很好的加快查找速度以及避免查找过程中出现错误，从而提高修正速度和修正的准确性。
[0016]2、通过建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵的方式，将修正规则和对应位置处的待修正掩模图形进行修正，操作方式简单，同时对应起来方便，方便对待修正掩模图形进行修正。
[0017]3、在添加修正内容时，根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加，能提高添加的准确性，避免添加的过程出现错误或者漏添加。
[0018]4、基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，能更好的适用到不同形状的初始掩模图形。
[0019]5、本专利技术提供的应用于产生掩模图形的装置以及电子设备具有和应用于产生掩模图形的方法同样的有益效果。
【附图说明】
[0020]图1是本专利技术第一实施例提供的应用于产生掩模图形方法的流程示意图；
[0021]图2A是单个初始掩模图形沿着Y方向排布的示意图；
[0022]图2B是单个初始掩模图形沿着X方向排布的示意图；
[0023]图2C是多个初始掩模图形沿着Y方向规律性排布的示意图；
[0024]图2D是多个初始掩模图形沿着X方向规律性排布的示意图；
[0025]图3A是多个初始掩模图形沿着X方向及Y方向规律性排布的示意图；
[0026]图3B是多个初始掩模图形沿着X方向及Y方向交错性排布的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种应用于产生掩模图形的方法，其特征在于包括如下步骤：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，多个初始掩模图形周期性或者规律性排布，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出修正后的掩模版图。2.如权利要求1所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形包括如下步骤：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素所包括的内容为该待修正掩模图形的修正规则。3.如权利要求2所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：所述修正规则包括修正方式和关于对应修正方式下的修正内容，所述修正方式包括待修正掩模图形边的移动、一个待修正掩模图形的整体移动和对该待修正掩模图形添加亚分辨率辅助图形中的一种或者几种，对应修正方式下的修正内容包括移动的方向和移动数值、添加的亚分辨率辅助的位置信息和尺寸信息。4.如权利要求3所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素为该待修正掩模图形的修正规则包括如下步骤：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵；将对应的修正方式设置到对应位置的操作矩阵元素中；将对应的修正内容添加到对应的修正方式处。5.如权利要求4所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：将对...

【专利技术属性】
技术研发人员：王航宇，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：