本发明专利技术涉及图像检测技术领域，特别涉及一种版图缺陷检测方法、系统、设备及存储介质。所述版图缺陷检测方法包括：获取坏点图形，将坏点图形简化为坏点SDF矩阵；基于坏点SDF矩阵对坏点图形进行分类，建立坏点数据库；获取待测版图上的候选匹配图形；计算候选匹配图形与坏点数据库中坏点图形的欧氏距离并基于欧氏距离进行匹配检测，以得到待测版图上的潜在坏点图形。通过引入SDF矩阵，对坏点图形进行模糊分类，简化了坏点数据库中的数据量；同时基于欧氏距离采用模糊匹配，使得相似不相同的待测坏点图形可以匹配成功，提高了检测效率及质量。
【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及图像检测，特别涉及一种版图缺陷检测方法、系统、设备及存储介质。
技术介绍
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技术介绍
1、在半导体集成电路的制造过程中容易生成有缺陷的晶圆图形，从而影响芯片的制造良率和芯片的电学性能，因此，在芯片制造前端需要多次对芯片光刻掩模的设计版图进行建模，修改建模产生的坏点，以修复掩模设计中潜在的缺陷。
2、对芯片掩模设计的模拟是复杂且占用时间的，而且对掩模的修改也是重复且繁琐的过程，由于通常掩模设计的图形具有重复性，产生坏点的部位也是重复的，所以应用模式匹配技术可以大幅缩短检测掩模缺陷的时间和流程。但由于掩模设计版图在具有重复性的同时，也存在大量的微小差异，比如图形上小块的缺失或增加，或者大量的微小修改，精确的模式匹配方法匹配到图形的概率会大幅降低。
3、因此，如何在掩模版图存在微小差异的情况下快速、精准地检测出掩模版图的缺陷是目前亟需解决的技术问题。
技术实现思路
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技术实现思路
1、为了解决现有掩模版图采用精确的模式匹配方法匹配到图形的概率低的问题，本专利技术提供一种版图缺陷检测方法、系统、设备及存储介质。
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种版图缺陷检测方法，包括以下步骤：
3、获取坏点图形，将所述坏点图形简化为坏点sdf矩阵；
4、基于所述坏点sdf矩阵对所述坏点图形进行分类，建立坏点数据库；
5、获取待测版图上的候选匹配图形；
6、计算所述候选匹配图形与所述坏点数据库中坏点图形的欧氏距离并基于欧氏距离进行匹配检测，以得到所述待测版图上的潜在坏点图形。
7、优选地，获取坏点图形包括以下步骤：
8、对掩模版图进行光刻规则检查得到坏点位置；
9、基于所述坏点位置向外扩选预设尺寸，得到所述坏点图形。
10、优选地，将所述坏点图形简化为坏点sdf矩阵包括以下步骤：
11、将所述坏点图形按预设长度划分成网格；
12、记录网格交点到坏点图形最近的边的距离，建立初始矩阵；
13、将所述初始矩阵进行旋转和镜像处理，得到处理矩阵；
14、将所述初始矩阵和所述处理矩阵进行叠加处理，得到所述坏点sdf矩阵。
15、优选地，基于所述坏点sdf矩阵对所述坏点图形进行分类，建立坏点数据库，包括以下步骤：
16、计算所述坏点sdf矩阵之间的欧氏距离；
17、将欧氏距离小于预设阈值的所述坏点sdf矩阵对应的坏点图形判定为同一个坏点类别；
18、在每一个所述坏点类别选取一个坏点图形，并将其对应的坏点图形信息存入坏点数据库。
19、优选地，所述坏点图形信息包括坏点图形、以及其对应的设计规则尺寸和坏点sdf矩阵。
20、优选地，获取待测版图上的候选匹配图形包括以下步骤：
21、基于设计规则检查将待测版图进行拆分，得到候选矩形；
22、从所述候选矩形的中心点向外扩选预设距离，得到所述候选匹配图形。
23、优选地，计算所述候选匹配图形与所述坏点数据库中坏点图形的欧氏距离并基于欧氏距离进行匹配检测包括以下步骤：
24、将所述候选匹配图形简化为候选sdf矩阵；
25、计算所述坏点数据库中坏点sdf矩阵和所述候选sdf矩阵的欧氏距离；
26、若所述欧氏距离小于预设阈值，则判定匹配成功，对应的候选匹配图形为坏点图形。
27、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种版图缺陷检测系统，用于实现如上任一项所述的版图缺陷检测方法的步骤，包括：
28、第一获取模块：用于获取坏点图形，将所述坏点图形简化为坏点sdf矩阵；
29、处理模块：用于基于所述坏点sdf矩阵对所述坏点图形进行分类，建立坏点数据库；
30、第二获取模块：用于获取待测版图上的候选匹配图形；
31、检测模块：用于计算所述候选匹配图形与所述坏点数据库中坏点图形的欧氏距离并基于欧氏距离进行匹配检测，以得到所述待测版图上的坏点图形。
32、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现如上任一项所述的版图缺陷检测方法的步骤。
33、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被执行时实现如上任一项所述的版图缺陷检测方法的步骤。
34、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种版图缺陷检测方法、系统、设备及存储介质，具有如下的有益效果：
35、1.本专利技术实施例提供的一种版图缺陷检测方法，包括以下步骤：获取坏点图形，将坏点图形简化为坏点sdf矩阵；基于坏点sdf矩阵对坏点图形进行分类，建立坏点数据库；获取待测版图上的候选匹配图形；计算候选匹配图形与坏点数据库中坏点图形的欧氏距离并基于欧氏距离进行匹配检测，以得到待测版图上的潜在坏点图形。
36、可以理解地，本方法引入了sdf函数矩阵，通过欧氏距离判定两个坏点图形的相似度，以此对坏点图形进行模糊的分类和模糊匹配，通过模糊分类将相似度高的坏点图形归为同类并选取一个代表存入数据库，从而减少了坏点数据库的坏点图形数量，减少了后续匹配检测的工作量，提高了检测效率；再用模糊匹配的方法，使得掩模版图上具有细小差异的潜在坏点图形都能与坏点数据库的坏点图形匹配成功，提高了坏点检测的效率及质量；通过坏点数据库匹配掩模设计版图的模式，避免了重复使用opc检查和修复掩模设计版图坏点的操作，简化了坏点检查的流程。
37、2.本专利技术实施例提供的一种版图缺陷检测方法，获取坏点图形包括以下步骤：对掩模版图进行光刻规则检查得到坏点位置；基于坏点位置向外扩选预设尺寸，得到坏点图形。
38、可以理解地掩模版图上的图形具有重复性的同时，也存在大量微小差异，使得坏点位置会出现微小偏差，将光刻规则检查得到的坏点位置外扩得到更大范围的坏点图形参与匹配检测，使得存在细小差异的潜在坏点图形也可以匹配成功，进而可以检测到更多的潜在坏点，提高检测的成功率。
39、3.本专利技术实施例提供的一种版图缺陷检测方法，基于坏点sdf矩阵对坏点图形进行分类，建立坏点数据库，包括以下步骤：计算坏点sdf矩阵之间的欧氏距离；将欧氏距离小于预设阈值的坏点sdf矩阵对应的坏点图形判定为同一个坏点类别；在每一个坏点类别选取一个坏点图形，并将其对应的坏点图形信息存入坏点数据库。
40、可以理解地，基于欧氏距离对坏点图形进行分类，并在每一类别中选取一个坏点图形信息存入坏点数据库，有效减少了坏点数据库的坏点图形数据，减少了后续坏点匹配的工作量，提高了检测效率。
41、4.本专利技术实施例提供的一种版图缺陷检测方法，获取待测版图上本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种版图缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，获取坏点图形包括以下步骤：
3.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，将所述坏点图形简化为坏点SDF矩阵包括以下步骤：
4.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，基于所述坏点SD F矩阵对所述坏点图形进行分类，建立坏点数据库，包括以下步骤：
5.如权利要求4所述的版图缺陷检测方法，其特征在于：所述坏点图形信息包括坏点图形、以及其对应的设计规则尺寸和坏点SD F矩阵。
6.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，获取待测版图上的候选匹配图形包括以下步骤：
7.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，计算所述候选匹配图形与所述坏点数据库中坏点图形的欧氏距离并基于欧氏距离进行匹配检测包括以下步骤：
8.一种版图缺陷检测系统，用于实现如权利要求1-7任一项所述的版图缺陷检测方法的步骤，其特征在于，包括：
9.一种计算机设备，其特征在于：包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现如权利要求1-7任一项所述的版图缺陷检测方法的步骤。
10.一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序指令，其特征在于：所述计算机程序指令被执行时实现如权利要求1-7任一项所述的版图缺陷检测方法的步骤。
...
【技术特征摘要】
1.一种版图缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，获取坏点图形包括以下步骤：
3.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，将所述坏点图形简化为坏点sdf矩阵包括以下步骤：
4.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，基于所述坏点sd f矩阵对所述坏点图形进行分类，建立坏点数据库，包括以下步骤：
5.如权利要求4所述的版图缺陷检测方法，其特征在于：所述坏点图形信息包括坏点图形、以及其对应的设计规则尺寸和坏点sd f矩阵。
6.如权利要求1所述的版图缺陷检测方法，其特征在于，获取待测版图上的候选匹配图形...
【专利技术属性】
技术研发人员：何平，张鸿儒，丁明，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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