【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及半导体掩模制造，其特别涉及一种掩模图形全局属性获取方法、系统及存储介质。
技术介绍
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技术介绍
1、光刻工艺过程中，芯片图形技术发展到180nm节点后，光刻机的曝光波长已经不能满足器件中的最小线宽图形的制造要求。相邻图形会在光的干涉和衍射效应作用下发生畸变，即所谓的光学邻近效应(optical proximity effect，ope)，为了补偿这种效应，使得晶圆上得到和设计相同的图形，必须对掩模上的图形做适当的修正(opc,光学邻近效应修正)。在修正过程中，会遵循一定的原则，将原来的图形打断偏移，以使得其曝光出来的图形与设计图形一致。这就需要根据这些图形的属性与相互关系做到精细化地对图形元素进行选取与操作。
2、利用模型仿真技术，可以较大程度的模拟出真实生产过程中芯片在修正后的掩模下的曝光结果，提前获知修正结果，节省制造成本。然而由于计算仿真过程复杂，数据庞大，无法一次性针对全局版图进行计算，故需要将全局版图进行切分，依次处理每一块局部区域(patch)，为了提高计算效率，往往会采用分布式计算，最后将结果合理的拼接起来。版图在切分时，破坏了某些图形的整体性，比如一个图形被切分成了两部分，进入不同的patch，在不同的子节点计算机上计算，这样就会造成图形数据不完整，从而影响正确操作。
技术实现思路
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技术实现思路
1、为了解决分布式计算方法会造成图形数据不完整的问题，本专利技术提供一种掩模图形全局属性获取方法、系统及
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种掩模图形全局属性获取方法，包括以下步骤：
3、获取版图，将所述版图切分获得至少两个局部区域；
4、分别获取各局部区域中的图形并判断是否为被切分的图形，若是，计算获得图形数据，数据包括切割点/线、以及局部属性；
5、将具有相同切割点/线的被切分图形的局部属性进行合并，获得完整图形的全局属性。
6、优选地，将所述版图切分获得至少两个局部区域包括以下步骤：
7、基于主计算机，将版图进行切分为多个局部区域；
8、按照预设规则将局部区域分发给各子节点计算机。
9、优选地，其特征在于：分别获取各局部区域中被切分的图形，计算其图形数据包括以下步骤：
10、获取局部区域中的图形；
11、判断图形是否存在部分与局部区域的边缘线重合；若存在，该图形即为被切分的图形，将与局部区域的边缘线重合的部分视为切割点/线；
12、计算切割点/线的绝对坐标以及预定义的局部属性。
13、优选地，其特征在于：在计算获得图形数据之后还包括以下步骤：
14、基于protocol开源库将图形数据进行序列化转换为二进制字节流，并传输至主计算机；
15、由主计算机再进行反序列化将二进制字节流转换为程序数据，并将各个局部区域的图形数据整合在一起。
16、优选地，其特征在于：基于protocol开源库将图形数据进行序列化转换为二进制字节流包括以下步骤：
17、创建proto文件，并定义要接收的数据类型和数据结构，然后编译成相对应的程序文件；
18、通过程序文件将图形数据进行序列化。
19、优选地，其特征在于：将各个局部区域的局部属性基于切割点/线进行合并包括以下步骤：
20、判断图形之间是否具有相同的切割点/线；
21、若是，将具有相同切割点/线的图形的局部属性进行合并。
22、优选地，其特征在于：对于未判定为被切分的图形，直接计算获得该图形的全局属性。
23、优选地，其特征在于：在获得完整图形的全局属性之后，将全局属性存为二进制文件，并进行数据持久化。
24、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种掩模图形全局属性获取系统，用于实现如前述的一种掩模图形全局属性获取方法，包括以下模块：
25、切分模块：用于获取版图，将所述版图切分获得至少两个局部区域；
26、计算模块：用于获取局部区域中的图形并判断是否为被切分的图形，若是，计算获得图形数据，数据包括切割点/线、以及局部属性；
27、合并模块：用于将具有相同切割点/线的被切分图形的局部属性进行合并，形成完整图形的全局属性。
28、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被执行时实现如前述的一种掩模图形全局属性获取方法的步骤。
29、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种掩模图形全局属性获取方法、系统及存储介质，具有如下的有益效果：
30、1.本专利技术提供的一种掩模图形全局属性获取方法，通过，通过将版图切分获得局部区域后，分别对应各个局部区域获取其中的图形，对于被切分的图形，获取其切割线/点以及局部属性，之后根据切割线/点，将具有相同的切割线/点的图形进行合并，得到完整图形的全局属性，在不改变分布式计算逻辑的基础上，判断出被切分的图形并加以合并，使得图形数据完整，便于后续操作。
31、2.本专利技术提供的一种掩模图形全局属性获取方法，在计算属性时，可预设想要计算的属性，避免计算资源浪费，也可只计算被切分的图形，减少计算数据量。
32、3.本专利技术提供的一种掩模图形全局属性获取方法，子节点计算机计算完成后，将数据序列化进行传输前的准备，传输到主计算机后，主计算机对数据进行整合，进行数据合并前的准备，方便后续合并。
33、4.本专利技术提供的一种掩模图形全局属性获取方法，主计算机合并获得图形全局属性后，进行数据持久化，便于后续读取数据进行属性操作，之后无需再有额外的计算合并步骤。
34、5.本专利技术实施例还提供一种掩模图形全局属性获取系统，具有与上述一种掩模图形全局属性获取方法相同的有益效果，在此不做赘述。
35、6.本专利技术实施例还提供一种计算机存储介质，具有与上述一种掩模图形全局属性获取方法相同的有益效果，在此不做赘述。
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1.一种掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：将所述版图切分获得至少两个局部区域包括以下步骤：
3.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：分别获取各局部区域中被切分的图形，计算其图形数据包括以下步骤：
4.如权利要求2所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：在计算获得图形数据之后还包括以下步骤：
5.如权利要求4所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：基于protocol开源库将图形数据进行序列化转换为二进制字节流包括以下步骤：
6.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：将各个局部区域的局部属性基于切割点/线进行合并包括以下步骤：
7.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：对于未判定为被切分的图形，直接计算获得该图形的全局属性。
8.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：在获得完整图形的全局属性之后，将全局属性存为二进制文件，并进行数据持久化。
9.一种掩模图形全局属性获取系统，用于实现如权利要求1-8任一项所述的一种掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：包括以下模块：
10.一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于：所述计算机程序被执行时实现如权利要求1-8任一项所述的一种掩模图形全局属性获取方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：将所述版图切分获得至少两个局部区域包括以下步骤：
3.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：分别获取各局部区域中被切分的图形，计算其图形数据包括以下步骤：
4.如权利要求2所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：在计算获得图形数据之后还包括以下步骤：
5.如权利要求4所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征在于：基于protocol开源库将图形数据进行序列化转换为二进制字节流包括以下步骤：
6.如权利要求1所述的掩模图形全局属性获取方法，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜强，陈珈宇，季鹏飞，丁明，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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