一种掩模图形修正方法技术

本发明专利技术涉及光刻友好技术领域，特别涉及一种掩模图形修正方法，包括以下步骤：提供初始掩模图形，所述初始掩模图形中包括多个图形点，每个图形点具有对应的图形点信息；将所述初始掩模图形中图形点信息与预设掩模图形匹配库中坏点信息进行匹配，该匹配库包括掩模图形坏点信息及与所述掩模图形坏点对应的修正点信息；若有坏点信息与初始掩模图形中某图形点信息匹配，则使用所述掩模图形坏点对应的所述修正点信息对所述初始掩模图形进行修正。为了解决现有的掩模图形修正方法需耗费巨大的计算资源的问题，本发明专利技术提供一种掩模图形修复方法。方法。方法。

【技术实现步骤摘要】
一种掩模图形修正方法


[0001]本专利技术涉及图形修复
，其特别涉及一种掩模图形修正方法。

技术介绍

[0002]仿真模型对光刻机中的光学过程进行模拟可以让设计者在不进行实际生产的前提下观察其设计的成像结果，并依此对设计图形进行修正来提高其产量以及生产时的稳定性。
[0003]然而，使用现有的掩模图形修正方法对掩模图形进行修正需要巨量的计算资源和时间。

技术实现思路

[0004]为了解决现有的掩模图形修正方法需耗费巨大的计算资源的问题，本专利技术提供一种掩模图形修复方法。
[0005]本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种掩模图形修正方法，包括以下步骤：提供初始掩模图形，所述初始掩模图形中包括多个图形点，每个图形点具有对应的图形点信息；将所述初始掩模图形中图形点信息与预设掩模图形匹配库中坏点信息进行匹配，该匹配库包括掩模图形坏点信息及与所述掩模图形坏点对应的修正点信息；若有坏点信息与初始掩模图形中某图形点信息匹配，则使用所述掩模图形坏点对应的所述修正点信息对所述初始掩模图形进行修正。
[0006]优选地，所述提供初始掩模图形，之前还包括：建立拥有所述掩模图形坏点的坏点库；对所述坏点库中的每一所述掩模图形坏点进行修正得到所述掩模图形坏点对应的修正点，所述掩模图形坏点对应的修正点存储于修正库中；所述坏点库与所述修正库组合成所述匹配库。
[0007]优选地，对所述坏点库中的每一所述掩模图形坏点进行修正的方式为：将每一所述掩模图形坏点输入仿真修正模型；所述仿真修正模型对所述掩模图形坏点进行仿真及修正，得到所述掩模图形坏点对应的所述修正点。
[0008]优选地，所述将所述初始掩模图形中图形点信息与预设坏点库中坏点信息进行匹配包括：将所述初始掩模图形中图形点与所述坏点库中的至少部分所述掩模图形坏点进行图形匹配。
[0009]优选地，所述图形匹配包括：所述初始掩模图形中图形点信息与预设坏点库中所述坏点信息进行匹配按照预设匹配规则进行。
[0010]优选地，所述预设匹配规则包括模糊匹配及精确匹配。
[0011]优选地，选取在所述坏点库中的部分或全部所述坏点信息形成所述预设坏点库。
[0012]优选地，如匹配成功，则使用所述掩模图形坏点对应的所述修正点信息替代所述初始掩模图形中图形点信息进行修正。
[0013]优选地，上述方法在修正之后还包括输出修正后的掩模图形。
[0014]本专利技术解决上述技术问题的又一技术方案为：一种计算机可读存储介质，其上有计算机程序指令，所述计算机程序指令被处理器执行时实现上述一种掩模图形修正方法。
[0015]本专利技术解决上述技术问题的又一技术方案为：一种图形修复设备，包括设备本体和设备运行程序，所述设备本体执行所述设备运行程序时实现上述一种掩模图形修正方法。
[0016]与现有技术相比，本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，具有如下的有益效果：1.本专利技术所提供的一种掩模图形修正方法，包括以下步骤：提供初始掩模图形，初始掩模图形中包括多个图形点，每个图形点具有对应的图形点信息；将初始掩模图形中图形点信息与预设掩模图形匹配库中坏点信息进行匹配，该匹配库包括掩模图形坏点信息及与掩模图形坏点对应的修正点信息；若有坏点信息与初始掩模图形中某图形点信息匹配，则使用掩模图形坏点对应的修正点信息对初始掩模图形进行修正。将初始的掩模图形和匹配库的坏点进行匹配，可以通过匹配库的坏点来对初始的掩模图形进行更好的坏点检测。将初始的掩模图形上与匹配库的坏点匹配成功的的部分进行直接用该坏点所对应的修正点进行替换，减少了修复所需要的时间。针对全局设计图形，进行重点区域的模拟以及对图形进行与匹配库坏点匹配，然后用坏点所对应的修正点来进行带修正图形的替换修正，可以大幅度节约时间，同时只需要少量的运算，节约了资源。解决了利用少量的资源对设计图形进行修正的这一问题。
[0017]2.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，提供初始掩模图形，之前还包括：建立拥有掩模图形坏点的坏点库；对坏点库中的每一掩模图形坏点进行修正得到掩模图形坏点对应的修正点，掩模图形坏点对应的修正点存储于修正库中；坏点库与修正库组合成匹配库。根据所需要的坏点或是以往的经验建立坏点库，该坏点库主要包含针对初始的掩模图形的坏点，采用所需要的坏点，可以使后续匹配过程中不做多余的匹配，减少了时间，同时节约了资源。采用仿真软件对坏点进行修正得到与坏点一一对应的修正点建立修正库，可以使后续直接对修正掩模图形的坏点进行直接替换修正，不需要再次进行仿真模拟修正，节约了时间，减少运算节约了资源。建立的坏点库和修正库形成的匹配库，可以保证后续所匹配出的坏点可以在匹配库中找到其对应的修正点直接替换修正，并且不会出现修正错误这一问题，节约了时间，减少运算节约了资源。
[0018]3.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，对坏点库中的每一掩模图形坏点进行修正的方式为：将每一掩模图形坏点输入仿真修正模型；仿真修正模型对掩模图形坏点进行仿真及修正，得到掩模图形坏点对应的修正点。将每一掩模图形坏点输入仿真修复模型进行掩模图形坏点的仿真以及修正，得到修正点。可以只针对掩模图形坏点进行仿真修复，可以方便后期直接进行坏点替换，不需要进行多余的仿真运算，节约了资源。
[0019]4.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，将初始掩模图形中图形点信息与预设坏点库中坏点信息进行匹配包括：将初始掩模图形点与坏点库中的至少部分掩模图形坏点进行图形匹配。选取所需要的坏点库中的坏点来进行匹配，可以在确认需要解决的初始的掩模图形的坏点类型的情况下来具体选择所需要的坏点库中的坏点来和初始的掩模图形匹配，可以减少匹配所需要的运算量，减少时间并节约资源。
[0020]5.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，图形匹配包括：初始掩模图形中图形点信息与预设坏点库中坏点信息进行匹配按照预设匹配规则进行。通过设置匹配规则来进
行图形匹配，可以根据需要的情况来设置不同的匹配规则，进而已达到最优的匹配效果同时还能减少不必要的运算。
[0021]6.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，预设匹配规则包括模糊匹配及精确匹配。根据不同的情况选取不同的匹配规则，可以更好的在达到需要的效果的同时不浪费资源。当需要精准找出初始的掩模图形的坏点时即可采用精准匹配，来进行精准的图形匹配以免出错。当需要进行大量的坏点检测时，可以采用模糊匹配来进行匹配，进而减少了匹配所需要的时间。
[0022]7.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，选取在坏点库中的部分或全部坏点信息形成预设坏点库。可以根据初始的掩模图形的情况或者根据所需要的修复的掩模图形坏点的类型，来对坏点库进行坏点选择，从而选择出所需要的的坏点库中的坏点来进行和待修复掩模图形进行匹配。可以更好的减少不必要的运算，节约时间，节约了资源。
[0023]8.本专利技术所提供的一种掩模图形修复方法，如匹配成功，则使用掩模图形坏点对应的修正点信息替代初始掩模图形信息进行修正。在初本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模图形修正方法，其特征在于：包括以下步骤：提供初始掩模图形，所述初始掩模图形中包括多个图形点，每个图形点具有对应的图形点信息；将所述初始掩模图形中图形点信息与预设掩模图形匹配库中坏点信息进行匹配，该匹配库包括掩模图形坏点信息及与所述掩模图形坏点对应的修正点信息；若有坏点信息与初始掩模图形中某图形点信息匹配，则使用所述掩模图形坏点对应的所述修正点信息对所述初始掩模图形进行修正。2.如权利要求1所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述提供初始掩模图形，之前还包括：建立拥有所述掩模图形坏点的坏点库；对所述坏点库中的每一所述掩模图形坏点进行修正得到所述掩模图形坏点对应的修正点，所述掩模图形坏点对应的修正点存储于修正库中；所述坏点库与所述修正库组合成所述匹配库。3.如权利要求2所述的掩模图形修正方法，其特征在于：对所述坏点库中的每一所述掩模图形坏点进行修正的方式为：将每一所述掩模图形坏点输入仿真修正模型；所述仿真修正模型对所述掩模图形坏点进行仿真及修正，得到所述掩模图形坏点对应的所述修正点。4.如权利要求3所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述将所述初始掩模图形中图形点信息与预设坏点库中坏点信息进行匹配包括：将...

【专利技术属性】
技术研发人员：介浩宇，丁明，闫歌，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：